[實用新型]一種刻蝕輔助裝置

有效

• 申請號: 201320035865.2
• 申請日: 2013-01-23
• 公開（公告）號: CN203079843U
• 公開（公告）日: 2013-07-24
• 發明（設計）人: 郭隱彪;胡陳林;郭龍
• 申請（專利權）人: 廈門大學
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00
• 代理公司: 廈門南強之路專利事務所(普通合伙) 35200
• 代理人: 馬應森;劉勇

技術領域

本實用新型涉及一種光學材料加工設備，尤其是涉及一種刻蝕輔助裝置。

背景技術

光學材料加工亞表面損傷是指其近表面區域由機械加工過程產生的斷裂、變形和污染等內部缺陷。Carr等人提出的拋光亞表面損傷模型將拋光亞表面損傷層自上而下分為兩層，分別為拋光再沉積層和塑性變形層(或再分布層)，其中，拋光再沉積層由拋光液與試件表面的水解作用產生，該層的成分、致密度及折射系數均與基體存在差別，此外，該層中嵌入了濃度隨深度遞減的拋光雜質，由于拋光再沉積層的存在使得光學材料拋光過程易于獲得超光滑表面;而塑性變形層中包含裂紋、位錯和殘余應力。作者檢測出石英玻璃拋光再沉積層的深度約為100nm，而塑性變形層距離表面100～500nm（參見文獻：J.W.Carr，E.Fearon，L.J.Sununers，et?al.Subsurface?structure?in?polished?fused?silica?and?diamond?tumed?single?crystal?silicon.Lawrence?Livermore?National?Laboratory(LLNL)Report，1999，June:l～12）。

在用刻蝕法進行亞表面深度檢測時發現蝕刻液濃度和溫度以及反應時間對蝕刻速率影響較大，并且化學反應過程的復雜性(反應的吸放熱、溶液濃度的分布)使得整個實驗過程無法保證反應條件穩定。此外，由于反應過程中會在玻璃表面形成絡合物阻礙HF酸與玻璃的反應，因此通過絕對蝕刻速率變化測量亞表面損傷，不能真實反映實際反應過程，存在較大誤差。

發明內容

本實用新型的目的在于提供采用化學刻蝕方法測定元件亞表面缺陷深度時，能有效避免因溶液濃度不均勻、反應吸放熱、反應產生絡合物等因素造成測量誤差的一種刻蝕輔助裝置。

本實用新型包括支架、恒溫鍋、微型電機、可升縮掛桿、提籃、伸縮管、密封蓋、燒杯和加熱件；

所述恒溫鍋設于支架下部，微型電機設于支架上部，可升縮掛桿上端與微型電機輸出軸連接，可升縮掛桿下端掛住提籃，伸縮管上端與所述上橫梁連接，伸縮管下端與密封蓋連接，密封蓋封蓋住燒杯口并夾持住燒杯，所述可升縮掛桿位于伸縮管中，所述提籃位于燒杯內，加熱件位于恒溫鍋底部。

所述支架設有底座、立柱和橫梁，底座位于立柱下部，橫梁設于立柱上部。

所述提籃最好為分體式提籃，由設有安裝槽的上半籃與設有安裝槽的下半籃對合組成，上半籃與下半籃均設有元件安裝槽，上半籃與下半籃通過固定紐扣可拆式連接，上半籃的元件安裝槽與下半籃的元件安裝槽均設有固定墊；所述元件安裝槽最好為長方形槽，長方形槽用于盛放待刻蝕元件，固定墊用于對待刻蝕元件進行固定。

本實用新型的工作原理及有益效果如下：工作時，可以通過恒溫鍋設定不同的溫度，讓燒杯內的刻蝕液達到適宜的反應溫度且保證不變，以減少反應吸放熱對刻蝕效果的影響。可伸縮掛桿可以上下伸縮，微型電機可以帶動伸縮桿旋轉，以此來可以減小因溶液濃度不均勻而導致刻蝕表面不光滑。將盛有刻蝕液燒杯放入恒溫鍋中加熱到適宜溫度，再將放有待刻蝕元件的提籃掛在可伸縮掛桿上，降下可伸縮掛桿至合適位置，蓋上密封蓋，便可以順利進行刻蝕反應實驗。本實用新型可提供定溫環境；操作簡便；可減少刻蝕液中HF的揮發，提高實驗的安全性；提籃可以平穩安放元件，可自動旋轉，在促進溶液濃度均勻的同時減少因為振蕩或攪拌帶來的元件表面擦傷。測量精度明顯提高。

附圖說明

圖1為本實用新型實施例的結構示意圖。

圖2為圖1的外觀結構示意圖。

圖3為本實用新型實施例中的提籃結構示意圖。

圖4為圖3所畫提籃的上半籃結構示意圖。

圖5為圖3所畫提籃的下半籃結構示意圖。

具體實施方式

參見圖1～5，本實用新型實施例包括支架、恒溫鍋2、微型電機3、可升縮掛桿4、提籃5、伸縮管6、密封蓋7、燒杯8和加熱件9。

支架設有底座11、立柱12和橫梁13，底座11設于支架下部，橫梁13設于支架上部，立柱12設于底座與橫梁之間。

恒溫鍋2設于底座11上。微型電機3設于橫梁13上。可升縮掛桿4上端與微型電機3輸出軸連接，可升縮掛桿4下端掛住提籃5的提耳50。伸縮管6上端與所述橫梁13連接，伸縮管6下端與密封蓋7連為一體。密封蓋7封蓋住燒杯8的端口并夾持住燒杯8，可升縮掛桿4位于伸縮管6中，提籃5位于燒杯8內，加熱件9位于恒溫鍋2底部。