[實(shí)用新型]基于自適應(yīng)光學(xué)的激光微細(xì)加工設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320035333.9
• 申請(qǐng)日: 2013-01-23
• 公開（公告）號(hào): CN203124969U
• 公開（公告）日: 2013-08-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉茂珍;李喜錦;李育華
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 劉茂珍;李喜錦;李育華
• 主分類號(hào): B23K26/38
• 分類號(hào): B23K26/38;B23K26/06;B23K26/08
• 代理公司: 桂林市持衡專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 45107
• 代理人: 陳躍琳

1.基于自適應(yīng)光學(xué)的激光微細(xì)加工設(shè)備，其特征在于：?

主要由激光器（1）、擴(kuò)束器（2）、第一反射鏡（3）、變形鏡（4）、第二反射鏡（5）、垂直支架（6）、x軸電機(jī)（7）、第三反射鏡（8）、x軸平臺(tái)（9）、分光鏡（10）、第四反射鏡（11）、z軸電機(jī)（12）、z軸平臺(tái)（13）、二維掃描振鏡（14）、掃描物鏡（15）、水平支架（16）、y軸電機(jī)（17）、y軸平臺(tái)（18）、第一透鏡（19）、第二透鏡（20）、波前傳感器（21）和計(jì)算機(jī)組成；?

第四反射鏡（11）、二維掃描振鏡（14）和掃描物鏡（15）位于z軸平臺(tái)（13）上；z軸平臺(tái)（13）、分光鏡（10）、第一透鏡（19）、第二透鏡（20）和波前傳感器（21）位于x軸平臺(tái)（9）上；x軸平臺(tái)（9）、第三反射鏡（8）、第二反射鏡（5）、變形鏡（4）、第一反射鏡（3）、擴(kuò)束器（2）和激光器（1）位于垂直支架（6）上；y軸平臺(tái)（18）位于水平支架（16）上；?

x軸電機(jī)（7）、z軸電機(jī)（12）和y軸電機(jī)（17）與計(jì)算機(jī)相連；z軸平臺(tái)（13）與z軸電機(jī)（12）相連，z軸電機(jī)（12）在計(jì)算機(jī)的控制下帶動(dòng)z軸平臺(tái)（13）在x軸平臺(tái)（9）上做上下移動(dòng)；x軸平臺(tái)（9）與x軸電機(jī)（7）相連，x軸電機(jī)（7）在計(jì)算機(jī)的控制下帶動(dòng)x軸平臺(tái)（9）在垂直支架（6）上做左右移動(dòng)；y軸平臺(tái)（18）與y軸電機(jī)（17）相連，y軸電機(jī)（17）在計(jì)算機(jī)的控制下帶動(dòng)y軸平臺(tái)（18）在水平支架（16）上做前后移動(dòng)；?

波前傳感器（21）和變形鏡（4）連接計(jì)算機(jī)；激光器（1）發(fā)出的光經(jīng)擴(kuò)束器（2）擴(kuò)束后依次由第一反射鏡（3）、變形鏡（4）、第二反射鏡（5）、第三反射鏡（8）入射到分光鏡（10）進(jìn)行分光，一部分的光依次經(jīng)第一透鏡（19）和第二透鏡（20）進(jìn)入波前傳感器（21）、由波前傳感器（21）探測(cè)光束波前特性后送入計(jì)算機(jī)中，另一部分的光經(jīng)第四反射鏡（11）入射到二維掃描振鏡（14）、由二維掃描振鏡（14）反射到掃描物鏡（15）并聚焦到y(tǒng)軸平臺(tái)（18）上。?

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于自適應(yīng)光學(xué)的激光微細(xì)加工設(shè)備，其特征在于：?

變形鏡（4）為分立式變形鏡、連續(xù)式變形鏡，雙電壓變形鏡、MEMS變形鏡、薄膜變形鏡、液晶空間光調(diào)制器或快速傾斜鏡。?

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于自適應(yīng)光學(xué)的激光微細(xì)加工設(shè)備，其特征在于：?

變形鏡（4）的出射光在焦點(diǎn)位置附近的目標(biāo)光斑為高斯光、超高斯?光束或平頂光。?

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于自適應(yīng)光學(xué)的激光微細(xì)加工設(shè)備，其特征在于：?

y軸平臺(tái)（18）為普通平移臺(tái)或自動(dòng)化上料設(shè)備。?