[實用新型]一種基于外延技術的三維集成功率半導體有效
| 申請號: | 201320029728.8 | 申請日: | 2013-01-21 |
| 公開(公告)號: | CN203225250U | 公開(公告)日: | 2013-10-02 |
| 發明(設計)人: | 傅興華;馬奎;楊發順;林潔馨 | 申請(專利權)人: | 貴州大學 |
| 主分類號: | H01L27/06 | 分類號: | H01L27/06;H01L29/78;H01L29/06 |
| 代理公司: | 貴陽中新專利商標事務所 52100 | 代理人: | 吳無懼 |
| 地址: | 550025 貴州*** | 國省代碼: | 貴州;52 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 外延 技術 三維 集成 功率 半導體 | ||
【權利要求書】:
1.一種基于外延技術的三維集成功率半導體,其特征在于:所述集成功率半導體從下至上依次包括重摻雜N型硅片、第一層輕摻雜N型外延層、第二層輕摻雜N型外延層和第三層輕摻雜N型外延層,第二層輕摻雜N型外延層和第三層輕摻雜N型外延層之間包含P_bulk層,P_bulk層上方的第三層輕摻雜N型外延層中包含PBL、P_sink區和N_sink區,第二、三層輕摻雜N型外延層中有填充槽,槽內為填充介質。
2.根據權利要求1所述的一種基于外延技術的三維集成功率半導體,其特征在于:填充槽內為SiO2或SiO2和多晶硅的疊合結構。
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H01 基本電氣元件
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





