[實用新型]一種新型電鍍槽

有效

• 申請號: 201320023106.4
• 申請日: 2013-01-03
• 公開（公告）號: CN203034119U
• 公開（公告）日: 2013-07-03
• 發明（設計）人: 方萌;劉衛東;錢嘉彧;趙玉玲
• 申請（專利權）人: 浙江師范大學
• 主分類號: C25D17/00
• 分類號: C25D17/00;C25D21/14;C25D21/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及一種新型電鍍槽。

背景技術

在現有的技術中，電鍍槽作為一種常用化工容器，已擁有諸多優點，如：1、良好的耐腐蝕性；2、具有一定的耐溫性等。對于電鍍而言，電鍍液pH值是一個重要參數，對電鍍質量影響很大，但是現有的電鍍槽不能準確控制運行中電鍍液的pH值，從而直接影響了電鍍質量。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種新型電鍍槽，能夠有效解決現有電鍍槽不能準確控制運行中電鍍液pH值的問題。

為了解決上述技術問題，本實用新型是通過以下技術方案實現的：一種新型電鍍槽，包括主鍍槽、pH控制系統和電鍍液循環系統三個部分。所述的pH控制系統包括pH傳感器、pH控制器和藥液添加裝置，所述的電鍍液循環系統是將輔助槽、泵、分別設置在主鍍槽上部和下部的出液口和進液口用導管連通，使電鍍液可以循環。

與現有技術相比，本實用新型的優點是：pH控制系統和電鍍液循環系統可以保證在運行過程中，電鍍液的pH值得到準確控制，電鍍液濃度均勻，從而提高電鍍質量。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖。

具體實施方式

參閱圖1為本實用新型一種新型電鍍槽的實施例，一種新型電鍍槽，包括主鍍槽1、pH控制系統和電鍍液循環系統三個部分，所述的電鍍液循環系統包括輔助槽2、出液口8、進液口9、導管5和泵6，所述的輔助槽2上設有加液口10，所述進液口9與主鍍槽1下部連接并導通，所述出液口8與主鍍槽1上部連接并導通，所述導管5將進液口9、出液口8、輔助槽2和泵6連通，形成電鍍液循環系統可以保證在運行過程中電鍍液濃度均勻，所述的pH控制系統包括pH傳感器3、pH控制器4和藥液添加裝置7，所述的pH傳感器3設置在主鍍槽1內部，實時監測電鍍液的pH值并反映給pH控制器4，由pH控制器4控制藥液添加裝置7通過加液口10向輔助槽2內添加藥液，所添加的藥液經電鍍液循環系統進入主鍍槽1內，從而實現對電鍍液pH值的控制，保障電鍍質量。

以上所述僅為本實用新型的具體實施例，但本實用新型的技術特征并不局限于此，任何本領域的技術人員在本實用新型的領域內，所作的變化或修飾皆涵蓋在本實用新型的專利范圍之中。