[實用新型]梯度線圈組件及勻場條模具

有效

• 申請號: 201320019045.4
• 申請日: 2013-01-15
• 公開（公告）號: CN203149103U
• 公開（公告）日: 2013-08-21
• 發明（設計）人: 汪濤;高媛
• 申請（專利權）人: 上海聯影醫療科技有限公司
• 主分類號: G01R33/385
• 分類號: G01R33/385;G01R33/387;G01R3/00;B29C39/26
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• 代理人: 暫無信息

【技術領域】

本實用新型涉及磁共振成像技術領域，尤其涉及一種用于磁共振成像的梯度線圈組件及成型該梯度線圈組件的勻場孔的勻場條模具。?

【背景技術】

磁共振成像需要具有高強度和高均勻性的磁場，此磁場通常由超導或電阻性線圈的電磁體提供。目前，雖然對磁體系統的設計投入了大量精力以使得其能夠產生高強度均勻場。然而，所設計出的磁體系統在在實際應用中仍然不能產生完全均勻的磁場。主要原因有以下幾點：制造公差不可避免地使線圈從其設計位置偏移，且所使用的電線的特性可能不同于設計過程中所假定的特性；此外，當磁體安裝在操作場所時，其可產生的磁場將受到周圍環境的影響，舉例來說，在醫院環境中，建筑物的結構通常含有結構鋼，且附近的其它設備將影響磁體系統最終產生的場。出于這些原因，使用勻場(shimming)來校正實際場與設計場的偏差，改進實際場，以便實際場更加接近設計場。已知兩種類型的勻場：有源勻場及無源勻場。有源勻場是指在磁體系統中增加勻場體線圈，通過調整勻場體線圈中的電流，使得其產生整體上影響磁體系統的場的磁場。無源勻場涉及在磁場內放置多片磁性材料(通常是鋼)以使實際磁場變形，使得其更接近類似于所設計的磁場。?

在用于成像的磁體系統中，許多線圈攜載電流以產生高強度且相對均勻的磁場。此場可稱為主場或背景場。另外，需要梯度場，梯度場沿著主場的軸向的強度有所變化，而并非是均勻的。通常，梯度線圈布置在主場線圖的徑向內部的管狀空間中。請參閱圖1及圖2，一種典型的梯度線圈組件20包括嵌入在鑄封材料(例如樹脂)中的導線。此外，梯度線圈組件還設有沿軸向延伸的若干勻場孔202，若干勻場片10被安裝在勻場孔202內。勻場片是由磁性材料制成的片狀體。?

圖1中梯度線圈組件20的勻場孔202是通過預先在模腔內設置相應的勻場條模具，待灌膠成型后，將勻場條模具取出，即可得到。實際生產中，由于加工精度及?生產成本造成勻場條模具的出模端的邊角不可能是完全的直角(不考慮拔模斜度)，即使一開始加工精度很高，邊角沒有倒角或圓角，在長期的使用過程中，邊角也會慢慢變鈍，產生倒角或者圓角。這樣在灌膠時，樹脂會填充該倒角或圓角，并固化成型，導致在出模時，勻場條模具出模時不僅需要克服樹脂對模具的膠粘力，還需將倒角或圓角沖破，而脆性材料所需的破壞力大，增大了出模所需的沖擊力，并可能在勻場孔裂紋應力集中處產生裂紋，同時，由于尖角被沖破時去除得不徹底，形成鋒利的刀邊，會在模具表面留下劃痕，劃傷模具表面的鍍層。梯度線圈勻場孔處的裂紋會降低梯度線圈的疲勞性能，也增加了將梯度線圈內部水管撕裂的可能性。?

【實用新型內容】

本實用新型所要解決的技術問題是提供一種改進的梯度線圈組件及用于制造該梯度線圈組件的勻場條模具。?

本實用新型為解決上述技術問題而采用的技術方案如下：一種梯度線圈組件，包括具有收容腔的主體部、設置在主體部上并且沿軸向延伸的勻場孔，所述勻場孔包括第一槽道以及鄰近主體部前端面或后端面的第二槽道，且第二槽道較第一槽道在徑向上寬。?

進一步的，所述第一槽道較第二槽道在軸向上長。?

進一步的，所述第一槽道的縱截面為矩形，第二槽道的縱截面為等腰梯形。?

進一步的，所述第一槽道、第二槽道在同一軸向上依次設置并相互連通。?

本實用新型為解決上述技術問題而采用的技術方案如下：一種用于梯度線圈組件的勻場條模具，包括與第一槽道相對應的條狀體以及設置在條狀體的自由末端的輔助件，且輔助件與第二槽道相吻合。?

進一步的，所述輔助件設有收容孔，用于容納條狀體的自由末端。?

進一步的，所述輔助件的收容孔是在軸向上延伸的貫穿孔，且貫穿孔的縱截面是矩形或者是T型。?

進一步的，所述輔助件由硅膠或橡膠或塑料材料制成。?

進一步的，所述輔助件的高度沿軸向由大變小。?

進一步的，所述條狀體由鋁或鋼制成。?

本實用新型對比現有技術有如下的有益效果：梯度線圈組件設有勻場孔，可用于容納相應的勻場片，可提高磁場的均勻性，且勻場孔具有較大寬度的第二槽道，方便將勻場片組裝入第一槽道中；勻場條模具上設置輔助件，在灌膠成型梯度線圈組件的勻場孔時，勻場條模具的條狀體與勻場孔的末端處不接觸，在取出輔助件后，灌膠形成的尖角不會受到勻場條模具的條狀體硬性沖擊造成梯度線圈組件的勻場孔的破損或裂紋，同樣尖角也不會刮傷勻場條模具的條狀體的涂層。?

【附圖說明】

圖1為現有技術中梯度線圈組件的結構示意圖；?

圖2為安裝在圖1中的梯度線圈組件的勻場孔內的勻場片的放大圖；?