[實用新型]一種用于半導體廠房的潔凈室

有效

• 申請號: 201320012791.0
• 申請日: 2013-01-10
• 公開（公告）號: CN203320997U
• 公開（公告）日: 2013-12-04
• 發明（設計）人: 楊政諭
• 申請（專利權）人: 亞翔系統集成科技（蘇州）股份有限公司
• 主分類號: E04H5/02
• 分類號: E04H5/02;E04H1/12
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103
• 代理人: 陶海鋒;陸金星

1.一種用于半導體廠房的潔凈室，包括新風輸送系統、排氣系統和一大型潔凈空間，所述大型潔凈空間內具有中央走道(1)和至少一條生產走道(2)；

所述大型潔凈空間從上到下包括架構空間(4)、潔凈空間(5)和循環空間(6)，架構空間和潔凈空間之間設有天花板(7)，潔凈空間和循環空間之間設有高架地板(10)和混凝土板(11)；其特征在于：

所述中央走道和所有生產走道的四周圍設有隔板(8)，使其所在的至少一部分架構空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構成獨立的潔凈微環境結構；

所述潔凈微環境的底部設有下密封板(12)，其頂部設有上密封板(13)；

所述中央走道的內圍設有第二隔板(19)，第二隔板設于所述隔板的內側，隔板和第二隔板之間的天花板鏤空，使隔板和第二隔板之間的架構空間和潔凈空間構成回風通道(18)；

所述各個生產走道的天花板下設有至少一個通風管(20)，構成潔凈微環境結構的回風通道；連接管的頂端設于天花板上并與所述架構空間連通，其尾端位于潔凈微環境結構的潔凈空間內；所述隔板的底部設有氣體調節風門(14)；

所述潔凈微環境結構內設有化學過濾器(16)；

所述潔凈微環境的頂部設有第二新風輸送系統(17)，使所述獨立的潔凈微環境結構中的氣壓大于其外部的大型潔凈空間中的氣壓。

2.根據權利要求1所述的用于半導體廠房的潔凈室，其特征在于：所述下密封板設于高架地板和混凝土板之間。

3.根據權利要求1所述的用于半導體廠房的潔凈室，其特征在于：所述化學過濾器設于天花板上的風機濾器單元(9)的入風口處。

4.根據權利要求1所述的用于半導體廠房的潔凈室，其特征在于：所述生產走道的四周圍設有隔板(8)，隔板與其正下方的擺放區之間具有空隙，構成所述氣體調節風門(14)。

5.根據權利要求1所述的用于半導體廠房的潔凈室，其特征在于：所述中央走道所在的潔凈微環境結構的下密封板上設有氣體調節風門。