[發(fā)明專利]一種硅塊拋光裝置和硅塊拋光方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310755847.6 | 申請日： | 2013-12-30 |
| 公開（公告）號： | CN103722480A | 公開（公告）日： | 2014-04-16 |
| 發(fā)明（設計）人： | 馬帥;王鑫波;王康 | 申請（專利權）人： | 天津英利新能源有限公司 |
| 主分類號： | B24B29/02 | 分類號： | B24B29/02 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 魏曉波 |
| 地址： | 301510 天津市濱海新區(qū)津漢公*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 拋光 裝置 方法 | ||
1.一種硅塊拋光裝置，其特征在于，包括：
第一拋光單元，其研磨部件為金剛砂磨石；
第二拋光單元，其研磨部件為毛刷；
其中，所述毛刷為組合毛刷，包括第一毛刷和第二毛刷；所述第一毛刷位于毛刷的內部；所述第二毛刷位于所述第一毛刷的外側，其刷毛目數(shù)和刷毛長度均大于所述第一毛刷。
2.根據(jù)權利要求1所述的硅塊拋光裝置，其特征在于，所述第一毛刷的刷毛目數(shù)為200～300，所述第二毛刷的刷毛目數(shù)為700～900。
3.根據(jù)權利要求2所述的硅塊拋光裝置，其特征在于，所述第一毛刷的刷毛目數(shù)為240，所述第二毛刷的刷毛目數(shù)為800。
4.根據(jù)權利要求1所述的硅塊拋光裝置，其特征在于，所述第二毛刷比第一毛刷的刷毛前探0.3mm～0.5mm。
5.根據(jù)權利要求4所述的硅塊拋光裝置，其特征在于，所述第二毛刷比第一毛刷的刷毛前探0.4mm。
6.根據(jù)權利要求1至5任一項所述的硅塊拋光裝置，其特征在于，所述金剛砂磨石為天然或人工金剛砂砂輪。
7.根據(jù)權利要求6所述的硅塊拋光裝置，其特征在于，所述金剛砂磨石的結合劑為樹脂型結合劑。
8.一種硅塊拋光方法，采用上述權利要求1至7任一項所述的硅塊拋光裝置進行拋光，包括：
第一拋光工序，采用所述第一拋光單元的金剛砂磨石進行研磨，對開方后的硅塊進行形狀修正和初步表面處理；
第二拋光工序，采用所述第二拋光單元的毛刷對經過所述第一拋光工序處理的硅塊進行研磨，去除硅塊表面的損傷層。
9.根據(jù)權利要求8所述的硅塊拋光方法，其特征在于，所述第二拋光工序的研磨深度為0.2mm～0.3mm。
10.根據(jù)權利要求8所述的硅塊拋光方法，其特征在于，在所述第一拋光工序中，向金剛砂磨石表面供給充足的冷卻水。
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