[發明專利]一種印章制作方法及裝置

在審

• 申請號: 201310753064.4
• 申請日: 2013-12-31
• 公開（公告）號: CN103770483A
• 公開（公告）日: 2014-05-07
• 發明（設計）人: 劉鑫;郭德全;陳科;劉東權
• 申請（專利權）人: 美聲克（成都）科技有限公司
• 主分類號: B41K1/02
• 分類號: B41K1/02;G06F3/12
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 王寶筠

1.一種印章制作方法，其特征在于，包括：

獲取目標信息圖像；

將所述目標信息圖像轉換成二值圖像；

將所述二值圖像轉換成矩陣位圖；

依據所述矩陣位圖進行體繪制，生成立體光刻STL模型；

利用3D打印機對所述STL模型進行打印，生成印章。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在利用3D打印機對所述STL模型進行打印，生成印章之前，還包括：

響應操作者的操作，對所述STL模型進行修補以及屬性設計。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述獲取目標信息圖像，包括：

獲取與用戶手寫信息相對應的目標信息圖像。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述將二值圖像轉換成矩陣位圖的過程為：

依據預先設置的獲取順序逐個獲取所述二值圖像的單元像素；

判斷所述單元像素的幅值是否為1；

若是，則將矩陣位圖中與該單元像素相對應的位置上的數據設置為0；

若否，則將矩陣位圖中與該單元像素相對應的位置上的數據設置為255。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，還包括：

判斷所述單元像素是否為所述二值圖像上的最后一個單元像素；

當否時，返回執行如上述權利要求4所述的方法。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述依據所述矩陣位圖進行體繪制，生成立體光刻STL模型，包括：

依據所述矩陣位圖，保存兩張與所述矩陣位圖相同的矩陣位圖；

利用Marching?Cubes算法對兩張所述矩陣位圖進行體繪制生成數字模型；

將預先設置的圖像模型融合到所述數字模型中生成立體光刻STL模型。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，還包括：預先設置Marching?Cubes算法中的長寬高比例為1:1:2。

8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，還包括：預先設置Marching?Cubes算法中的梯度值為45。

9.一種印章制作裝置，其特征在于，包括：目標信息圖像獲取單元、二值圖像生成單元、矩陣位圖生成單元、STL模型生成單元以及印章生成單元，其中，

所述目標信息圖像獲取單元用于獲取目標信息圖像；

所述二值圖像生成單元與所述目標信息圖像獲取單元相連接，用于將所述目標信息圖像轉換成二值圖像；

所述矩陣位圖生成單元與所述二值圖像生成單元相連接，用于將所述二值圖像轉換成矩陣位圖；

所述STL模型生成單元與所述矩陣位圖生成單元相連接，用于依據所述矩陣位圖進行體繪制，生成立體光刻STL模型；

所述印章生成單元與所述STL模型生成單元相連接，用于利用3D打印機對所述STL模型進行打印，生成印章。

10.根據權利要求9所述的裝置，其特征在于，還包括：STL模型設計單元，

所述STL模型設計單元的一端與所述STL模型生成單元相連接，另一端與所述印章生成單元相連接，用于響應操作者的操作，對所述STL模型進行修補以及屬性設計。