[發明專利]恒速度閉環光電控制面膜放料機構

無效

• 申請號: 201310749762.7
• 申請日: 2013-12-20
• 公開（公告）號: CN103738768A
• 公開（公告）日: 2014-04-23
• 發明（設計）人: 柯雄偉;陳余其;楊建波;柯建星;應曉豪
• 申請（專利權）人: 瑞安市大偉機械有限公司
• 主分類號: B65H23/16
• 分類號: B65H23/16;B65H26/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.恒速度閉環光電控制面膜放料機構，包括機架(15)、承料軸(36)、導輥(37)，其特征在于：所述承料軸(36)通過中間傳動組件(38)與放料電機(31)相連，在所述機架(15)上裝有擺臂芯軸(39)，在該擺臂芯軸(39)的一端裝有浮動平衡組件、該擺臂芯軸(39)的另一端裝有浮動擺臂(33)，所述導輥(37)裝在該浮動擺臂(33)上，在該浮動擺臂(33)上還裝有位移傳感器(32)。

2.根據權利要求1所述的恒速度閉環光電控制面膜放料機構，其特征在于：所述浮動平衡組件由配重擺臂(34)及配重擺臂(34)上的配重(35)組成。