[發明專利]一種具有光學特性和防污特性的鍍膜玻璃及其制備方法有效
| 申請號: | 201310749443.6 | 申請日: | 2013-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN103722817A | 公開(公告)日: | 2014-04-16 |
| 發明(設計)人: | 胡偉;陳鵬;常瑞荊 | 申請(專利權)人: | 深圳市東麗華科技有限公司 |
| 主分類號: | B32B17/06 | 分類號: | B32B17/06;B32B33/00;C03C17/34 |
| 代理公司: | 深圳市恒申知識產權事務所(普通合伙) 44312 | 代理人: | 陳健 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 具有 光學 特性 防污 鍍膜 玻璃 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發明涉及鍍膜玻璃領域,尤其涉及一種具有光學特性和防污特性的鍍膜玻璃及其制備方法。
背景技術
玻璃材料的應用范圍很廣,電子、建筑、能源、汽車等領域,普通的無色玻璃的透過率在92%以下,其每個面的反射率大約為4%,由于玻璃固有存在的高反射率降低了光的透過效率,導致了在應用于顯示模組上時顯示效果和效率的大幅下降,從而能耗提升、器件壽命下降;導致了在應用于太陽能模組上時發電效率降低。
目前為了提升玻璃的透過率,通常的做法是通過真空鍍膜的方式在玻璃表面鍍上多層光學防反射鍍層。這種做法成本太高、生產效率低,同時這種做法受到真空鍍膜機的尺寸限制,對于稍大尺寸的玻璃來說,無法實施。
玻璃的表面活性能比較高,通俗的來說,不具備“潑水性”和“撥油性”,或者說不夠“滑”,因此應用于觸摸屏的玻璃的觸感不好,目前的做法也是通過真空鍍膜的方式在玻璃表面鍍上一層含氟低表面活性能的材料。同樣的,這種做法成本太高、生產效率低,同時這種做法受到真空鍍膜機的尺寸限制,對于稍大尺寸的玻璃來說,無法實施。對于太陽能領域來說,當有臟污附著在沒有鍍膜的玻璃表面之后,會影響發電效率,特別對于安放在野外的大型太陽能發電機組來說,維護、保潔的工程量很大。
發明內容
本發明的目的在于提供一種具有光學特性和防污特性的鍍膜玻璃及其制備方法,以解決上述現有技術中的不足。
本發明實現上述目的所采用的技術方案是提供一種具有光學特性和防污特性的鍍膜玻璃,所述鍍膜玻璃包括玻璃基體,所述玻璃基體上依次附有光學納米層和防污納米層;所述防污納米層與所述光學納米層之間為化學價鍵連接;所述光學納米層包括防反射納米層和/或防眩光學納米層。
本發明還提供一種具有光學特性和防污特性的鍍膜玻璃的制備方法,包括以下步驟:提供玻璃基體;在所述玻璃基體上形成光學納米層;在所述光學納米層上通過化學反應形成與光學納米層價鍵連接的防污納米層;所述光學納米層包括防反射納米層和/或防眩光學納米層。
本發明的有益效果在于:1)本發明所制得鍍膜玻璃具有復合鍍膜結構,同時具備光學特性和防污特性;2)本發明提供的防反射納米薄膜和防污特性納米薄膜,都是可以通過相對簡易的濕法涂布來完成;3)本發明提供的防污特性的材料的主要成分是低表面活性能的聚氟硅氧烷,該聚氟硅氧烷可以很好的與本發明提供的光學納米薄膜固化后表面的硅-氧基團進行化學反應,產生化學價鍵綁定,從而具備優越的膜層結合力。
附圖說明
圖1是本發明鍍膜玻璃在波長355nm到1035nm范圍內的透過率曲線圖;
圖2是本發明鍍膜玻璃在波長355nm到1035nm范圍內的反射率曲線圖;
圖3是本發明鍍膜玻璃在耐摩擦測試過程中防污特性的衰減曲線。
具體實施方式
為了使本發明所要解決的技術問題、技術方案及有益效果更加清楚明白,以下結合附圖及實施例,對本發明進行進一步詳細說明。應當理解,此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明,并不用于限定本發明。
本發明實現上述目的所采用的技術方案是提供一種具有光學特性和防污特性的鍍膜玻璃,所述鍍膜玻璃包括玻璃基體,所述玻璃基體上依次附有光學納米層和防污納米層;所述防污納米層與所述光學納米層之間為化學價鍵連接;所述光學納米層包括防反射納米層和/或防眩光學納米層。
作為本發明的進一步改進,所述防污納米層包括聚氟硅氧烷;所述光學納米層包括重量比至少50%的氧化硅。
本發明還提供一種具有光學特性和防污特性的鍍膜玻璃的制備方法,包括以下步驟:提供玻璃基體;在所述玻璃基體上形成光學納米層;在所述光學納米層上通過化學反應形成與光學納米層價鍵連接的防污納米層;所述光學納米層包括防反射納米層和/或防眩光學納米層。
作為本發明的進一步改進,所述形成光學納米層所述光學納米層由通過涂布至少一種聚硅氧烷金屬醇鹽后,固化形成。
作為本發明的進一步改進,所述通過化學反應形成與光學納米層價鍵連接的防污納米層的方式為在光學納米層上濕法涂布包括聚氟硅氧烷的材料后固化。
作為本發明的進一步改進,所述固化為熱固化或紫外固化的一種或兩種。
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