[發明專利]一種在家用玻璃器皿上進行彩色鍍膜的方法

無效

• 申請號: 201310747119.0
• 申請日: 2013-12-30
• 公開（公告）號: CN103708738A
• 公開（公告）日: 2014-04-09
• 發明（設計）人: 陳湛玲
• 申請（專利權）人: 陳湛玲
• 主分類號: C03C17/00
• 分類號: C03C17/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種在家用玻璃器皿上進行彩色鍍膜的方法。

背景技術

在家用領域，玻璃鍍膜一般采用貼膜的方式，將彩色的圖案層貼覆在玻璃器皿表面，這種鍍膜方式的缺點在于，器皿表面的膜層容易氧化和刮傷，影響玻璃器皿的美觀。

真空磁控濺射鍍膜技術一般應用于建筑裝飾領域，使用此技術在建筑玻璃基材表面鍍上具有不同功能的膜層，膜層可以防氧化和劃掛，由于不同材料的膜層，其厚度不同，對光線的反射率也不同，會呈現出不同的顏色來。

發明內容

本發明的目的在于，將真空磁控濺射鍍膜技術應用于家用玻璃器皿領域，提供一種在家用玻璃器皿上進行彩色鍍膜的方法。

本發明采用的技術方案如下：

一種在家用玻璃器皿上進行彩色鍍膜的方法，包括以下步驟：

A.對家用玻璃器皿進行表面清洗和干燥；

B.將干燥后的家用玻璃器皿放入真空磁控濺射鍍膜設備的靶材室，鍍覆彩色膜層。

優選的，在步驟B中，將具有鏤空圖案的屏蔽膜覆蓋在家用玻璃器皿表面，并控制膜層厚度，以得到相應顏色的圖案膜層。

優選的，所述具有鏤空圖案的屏蔽膜有多張，在使用前一張屏蔽膜完成鍍覆后，揭去前一張屏蔽膜，將新的具有不同鏤空圖案的屏蔽膜覆蓋在家用玻璃器皿表面，進行新的鍍覆，以得到不同顏色的圖案膜層。

優選的，真空磁控濺射鍍膜設備的靶材室中，采用二氧化鈦或二氧化釩陶瓷靶為陰極濺射材料，濺射室內通入氬氣和氧氣的混合氣體，體積比為1：10，工作溫度為400-800℃。

優選的，控制膜層厚度的方法為，先利用石英晶振儀記錄薄膜沉積的時間與相對厚度，沉積完畢后，再利用橢偏儀對薄膜的幾何厚度進行精確測定，根據沉積時間算出薄膜沉積速度；在此基礎上設定薄膜的沉積時間，使薄膜達到需要的厚度。

本發明的有益效果在于：首次將將真空磁控濺射鍍膜技術應用于家用玻璃器皿領域，可在家用玻璃器皿表面得到多種顏色的圖案膜層，而且膜層可以防氧化防刮，美觀耐用。

具體實施方式

下面結合具體實施例對本發明做進一步詳細說明。

在家用玻璃器皿上進行彩色鍍膜的方法，包括以下步驟：

首先設計好需要在家用玻璃器皿表面鍍膜的圖案以及圖案顏色。而后根據鍍膜設備中靶材材料本身成膜的光學特性，設計好每個圖案層需鍍膜的厚度。例如，二氧化鈦膜的厚度在5-20nm時得到的反射顏色為粉紅色，在20-45nm時得到的反射顏色為藍色，在45-70nm時得到的反射顏色為綠色，在70nm以上時得到的反射顏色為黃色。

而后，在對玻璃器皿表面進行鍍膜前，在真空磁控濺射鍍膜設備的靶材室內，在先利用石英晶振儀記錄薄膜沉積的時間與相對厚度，沉積完畢后，再利用橢偏儀對薄膜的幾何厚度進行精確測定，根據沉積時間算出薄膜沉積速度；在此基礎上設定薄膜的沉積時間，使薄膜達到需要的厚度。

在鍍膜步驟中，先對家用玻璃器皿進行表面清洗和干燥；

而后將干燥后的家用玻璃器皿放入真空磁控濺射鍍膜設備的靶材室，將具有鏤空圖案的屏蔽膜覆蓋在家用玻璃器皿表面，然后進行濺射鍍膜，控制時間使膜層達到設定的厚度，以得到相應顏色的圖案膜層。

為了在玻璃器皿表面得到多種不同圖案的膜層，具有鏤空圖案的屏蔽膜有多張，每一張上的圖案和圖案位置各不相同，在使用前一張屏蔽膜完成鍍覆后，揭去前一張屏蔽膜，將新的具有不同鏤空圖案的屏蔽膜覆蓋在家用玻璃器皿表面，進行新的鍍覆，以得到不同顏色的圖案膜層。

真空磁控濺射鍍膜設備的靶材室中，采用二氧化鈦或二氧化釩陶瓷靶為陰極濺射材料，濺射室內通入氬氣和氧氣的混合氣體，體積比為1：10，工作溫度為400-800℃。

以上所述，僅為本發明的較佳實施例，并不用以限制本發明，凡是依據本發明的技術實質對以上實施例所作的任何細微修改、等同替換和改進，均應包含在本發明技術方案的保護范圍之內。