[發(fā)明專利]雙折射光楔光軸方向的多入射角偏振干涉測量裝置及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310746711.9 | 申請日: | 2013-12-25 |
| 公開(公告)號: | CN103712781A | 公開(公告)日: | 2014-04-09 |
| 發(fā)明(設計)人: | 劉鐵根;江俊峰;劉琨;尹金德;鄒盛亮;王雙;秦尊琪;吳振海 | 申請(專利權)人: | 天津大學 |
| 主分類號: | G01M11/02 | 分類號: | G01M11/02 |
| 代理公司: | 天津市北洋有限責任專利代理事務所 12201 | 代理人: | 李素蘭 |
| 地址: | 300072*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 雙折射 光軸 方向 入射角 偏振 干涉 測量 裝置 方法 | ||
1.一種雙折射光楔光軸方向的多入射角偏振干涉測量裝置,其特征在于,該裝置包括激光光源(1)、光衰減器(2)、擴束鏡(3)、起偏器(4)、雙折射光楔(5)、樣品測試臺(6)、檢偏器(7)、面陣探測器(8)以及信號處理系統(tǒng)(9);其中:
激光光源(1),用于提供該裝置的輸入光源,采用空間相干性好的可見光波段激光器,包括He-Ne激光器和半導體激光器;
光衰減器(2),用于降低激光能量,控制激光光源功率穩(wěn)定,避免面陣探測器飽和;
擴束鏡(3),用于激光擴束,保證激光光源平行出射,獲得覆蓋雙折射光楔橫向尺寸的空間相干激光光斑;
起偏器(4),用于激光光束起偏,透光軸方向與水平基準成45°;
樣品測試臺(6),用于放置待測的雙折射光楔(5)和控制雙折射光楔入射角,測試臺可圍繞與放置其平面垂直的軸旋轉,實現(xiàn)至少三種不同角度入射至雙折射光楔表面產生偏振干涉;
檢偏器(7),用于實現(xiàn)偏振干涉,透光軸方向與水平基準成45°,同時與起偏器相垂直或平行;
面陣探測器(8),包括CCD和CMOS探測器,用于接收偏振干涉圖信號;
信號處理系統(tǒng)(9),包括圖像采集卡和計算機,用于采集偏振干涉圖信號,計算機根據(jù)測量算法進行處理,計算出雙折射光楔光軸三維方向;
激光光源(1)輸出激光平行入射,經光衰減器(2)降低激光能量時,控制激光功率穩(wěn)定避免探測器飽和;擴束鏡(3)對激光進行擴束,獲得覆蓋雙折射光楔橫向尺寸的空間相干激光光斑,經偏振器(4)起偏,透光軸方向與水平基準成45°,在樣品測試臺(6)上放置被測雙折射光楔5,通過調節(jié)樣品測試臺(6),旋轉雙折射光楔(5),從而實現(xiàn)不同角度入射光楔表面產生偏振干涉,通過雙折射光楔(5)后的光束在檢偏器(7)后實現(xiàn)偏振光干涉,采用面陣探測器(8)接收偏振干涉圖并傳入到信號處理系統(tǒng)(9)中。
2.一種雙折射光楔光軸方向的多入射角偏振干涉測量方法,其特征在于,該方法包括以下步驟:
激光光源(1)輸出激光平行入射,經光衰減器(2)降低激光能量時,控制激光功率穩(wěn)定避免探測器飽和;擴束鏡(3)對激光進行擴束,獲得覆蓋雙折射光楔橫向尺寸的空間相干激光光斑,經偏振器(4)起偏,透光軸方向與水平基準成45°,在樣品測試臺(6)上放置被測雙折射光楔(5),通過調節(jié)樣品測試臺(6),旋轉雙折射光楔(5),從而實現(xiàn)不同角度入射光楔表面產生偏振干涉,通過雙折射光楔(5)后的光束在檢偏器(7)后實現(xiàn)偏振光干涉,采用面陣探測器(8)接收偏振干涉圖并傳入到信號處理系統(tǒng)(9)中;在每一個入射角下,記錄一幅偏振干涉圖,當采集得到三個不同入射角的偏振干涉圖,在信號處理系統(tǒng)(9)中對偏振干涉信號進行灰度變換和hough變換處理,提取偏振干涉圖的亮條紋,計算出干涉條紋間距,通過三個角度入射構成的聯(lián)立光程差方程組,求解出雙折射光楔光軸的三維方向;
所述雙折射光楔通過三個角度入射構成聯(lián)立光程差方程組的過程如下:
建立相鄰亮條紋間距h與晶體楔面厚度t對應關系式:
偏振干涉中相鄰亮條紋光程差δΔ=λ,從而得到偏振干涉光相鄰條紋光程差δΔ公式:
式(1)中,θ為入射角度,nre為e光光線在其傳播方向上的折射率;θro為o光光線與晶體表面法線的夾角;δd為相鄰e光在雙折射光楔中傳播的路程差;δxe為相鄰e光在x軸方向上的傳播路程差;δze為相鄰e光在z軸方向上的傳播路程差;
當入射角θ不變時,nre、θro不變,只有δd、δxe、δze改變。
選取0°、30°、45°三個不同入射角,得到方程組:
而
式(3)中,分別為楔面與x、y、z軸的的夾角,α、β、γ為雙折射光楔光軸與x、y、z軸的的夾角,θke為e光光波矢量與晶體表面法線的夾角,M1、M2為相應的系數(shù)。
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