[發明專利]一種提高鎂及鎂合金表面耐蝕性能的復合膜層制備方法

有效

• 申請號: 201310744535.5
• 申請日: 2013-12-30
• 公開（公告）號: CN103710738A
• 公開（公告）日: 2014-04-09
• 發明（設計）人: 胡津;張玉芬;唐莎巍
• 申請（專利權）人: 哈爾濱工業大學
• 主分類號: C25D11/30
• 分類號: C25D11/30;C25D3/56;C25D3/54;C25D5/18
• 代理公司: 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109
• 代理人: 侯靜

1.一種提高鎂及鎂合金表面耐蝕性能的復合膜層制備方法，其特征在于一種提高鎂及鎂合金表面耐蝕性能的復合膜層制備方法是按照以下步驟進行的：

一、預處理：使用1500目砂紙將鎂板進行打磨處理，得到打磨后的鎂板，然后在超聲頻率為25KHz～130KHz下，將打磨后的鎂板放入無水乙醇中進行超聲清洗5min～15min，并冷風吹干，得到預處理后的鎂板；

二、陽極氧化：以預處理后的鎂板為陰極和陽極，將鎂板陰極和鎂板陽極放入電解液I中，然后以直流電源為電源在電解池兩端外加20V～100V的電壓，并在電壓為20V～100V下氧化5min～60min，得到陽極氧化后的鎂板；步驟二中所述的電解液I的溶質為非鎂金屬鹽和鎂鹽，溶劑為無水乙醇，且所述的電解液I中非鎂金屬鹽濃度為0.01mol/L～0.1mol/L，所述的電解液I中鎂鹽濃度為0.001mol/L～0.05mol/L；

三、陰極電沉積：以陽極氧化后的鎂板為陰極、以石墨板為陽極，將陽極氧化后的鎂板陰極和石墨板陽極放入電解液Ⅱ中，然后以直流電源或脈沖電源為電源在電解池兩端外加20V～100V的電壓，并在電壓為20V～100V下沉積5min～60min，即得到提高鎂板表面耐蝕性能的復合膜層；步驟三中所述的電解液Ⅱ的溶質為Ca(NO₃)₂和有機酸，溶劑為無水乙醇，且所述的電解液Ⅱ中Ca(NO₃)₂濃度為0.01mol/L～0.1mol/L，所述的電解液Ⅱ中有機酸濃度為0.001mol/L～0.2mol/L。

2.根據權利要求1所述的一種提高鎂及鎂合金表面耐蝕性能的復合膜層制備方法，其特征在于步驟一中所述的鎂板為純鎂板或鎂合金板。

3.根據權利要求1所述的一種提高鎂及鎂合金表面耐蝕性能的復合膜層制備方法，其特征在于步驟二中所述的非鎂金屬鹽為Ca(NO₃)₂、Zn(NO₃)₂、CaCl₂或FeCl₃。

4.根據權利要求1所述的一種提高鎂及鎂合金表面耐蝕性能的復合膜層制備方法，其特征在于步驟二中所述的鎂鹽為Mg(NO₃)₂或MgCl₂。

5.根據權利要求1所述的一種提高鎂及鎂合金表面耐蝕性能的復合膜層制備方法，其特征在于步驟三中所述的有機酸為十四酸、十六酸或十八酸。

6.根據權利要求1所述的一種提高鎂及鎂合金表面耐蝕性能的復合膜層制備方法，其特征在于步驟三中所述的脈沖電源占空比為1%～50%。