[發明專利]引緯光學修正結構

無效

• 申請號: 201310743826.2
• 申請日: 2013-12-30
• 公開（公告）號: CN103696099A
• 公開（公告）日: 2014-04-02
• 發明（設計）人: 許尤理
• 申請（專利權）人: 蘇州尤盛紡織有限公司
• 主分類號: D03D47/27
• 分類號: D03D47/27
• 代理公司: 北京眾合誠成知識產權代理有限公司 11246
• 代理人: 連圍

1.一種引緯光學修正結構，其特征在于：包括設置在織機噴口（100）對面捕緯端的冷凝板（300）、測定緯紗（10）位置的位置測定構件（400）、捕緯裝置（200）和定位所述冷凝板（300）的二維移動裝置（310），所述冷凝板（300）的前方設置有所述捕緯裝置（200），所述位置測定構件（400）為設置在所述冷凝板（300）表面的電容屏，所述冷凝板（300）的前方還設置有占有液體薄膜的環圈（500），位置測定構件（400）連接一控制所述二維移動裝置（310）的控制模塊。

2.根據權利要求1所述的引緯光學修正結構，其特征在于：所述環圈（500）設置在所述捕緯裝置（200）與所述冷凝板（300）之間。

3.根據權利要求1所述的引緯光學修正結構，其特征在于：所述環圈（500）至少設置值有兩個并且均布的固定在一轉軸的周圍，所述轉軸的下方設置有提供所述環圈形成液體薄膜的液體。

4.根據權利要求3所述的引緯光學修正結構，其特征在于：所述液體設置在一儲液槽（520）中，所述儲液槽（520）內設置有連接靜電發生器的電極（530）。