[發明專利]真空蒸鍍裝置及蒸鍍方法

有效

• 申請號: 201310743673.1
• 申請日: 2013-12-30
• 公開（公告）號: CN103741097A
• 公開（公告）日: 2014-04-23
• 發明（設計）人: 匡友元
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/04
• 代理公司: 深圳市銘粵知識產權代理有限公司 44304
• 代理人: 楊林;李友佳

1.一種真空蒸鍍裝置，包括真空腔體、設于真空腔體內的蒸鍍源（10）以及設于蒸鍍源（10）上方的固定單元，所述蒸鍍源（10）包括加熱容器和加熱單元（140），其特征在于，所述加熱容器包括從下到上依次設置的材料容器（110）、蒸汽容器（120）以及輸出單元（130），所述材料容器（110）與蒸汽容器（120）之間的第一隔板（112）上設有第一氣孔（113），所述蒸汽容器（120）與輸出單元（130）之間的第二隔板（122）上設有第二氣孔（123），所述第一氣孔（113）的面積大于所述第二氣孔（123）的面積。

2.根據權利要求1所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述加熱單元（140）設于所述材料容器（110）和蒸汽容器（120）的外部，用于給所述材料容器（110）和蒸汽容器（120）加熱。

3.根據權利要求2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述輸出單元（130）具有光滑的內壁。

4.根據權利要求1至3任一所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述加熱容器包括一個輸出單元（130）。

5.根據權利要求1至3任一所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述加熱容器包括多個輸出單元（130）。

6.根據權利要求5所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述多個輸出單元（130）呈線狀排列。

7.根據權利要求5所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述多個輸出單元（130）呈面狀排列。

8.根據權利要求1至3任一所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述真空蒸鍍裝置還包括用于帶動蒸鍍源（10）或者固定單元運動的動力機構。

9.一種真空蒸鍍方法，其特征在于，使用如權利要求1-8任一所述的真空蒸鍍裝置進行蒸鍍，包括步驟：

提供一基板（220）和掩模板（230），將基板（220）固定于固定單元下方，掩模板（230）置于基板的正下方；

加熱單元（140）對加熱容器進行加熱，使蒸鍍材料（111）蒸發為材料蒸汽（121）進入到蒸汽容器（120）中；

材料蒸汽（121）從輸出單元（130）噴出，通過掩模板（230）的開口區沉積在基板上（220）。