[發(fā)明專利]一種TDLAS氣體檢測方法及系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310741792.3 | 申請日: | 2013-12-27 |
| 公開(公告)號: | CN103645156A | 公開(公告)日: | 2014-03-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 梁學(xué)軍 | 申請(專利權(quán))人: | 北京雪迪龍科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/39 | 分類號: | G01N21/39 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 王寶筠 |
| 地址: | 102206 北京市昌*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 tdlas 氣體 檢測 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種TDLAS氣體檢測方法,其特征在于,所述方法包括:
半導(dǎo)體激光器出射的線激光入射到傳輸光纖;
傳輸光纖出射的線激光入射到全反射鏡;
全反射鏡將線激光反射后入射到垂直放置的氣室;
入射到氣室的線激光經(jīng)第一透鏡組反射后從線激光的入射面出射;
分析裝置接收垂直放置的氣室出射的線激光進行檢測。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述傳輸光纖出射的線激光入射到全反射鏡后還包括:
全反射鏡將線激光反射后入射到第二透鏡組擴束成帶狀激光;
則全反射鏡將線激光反射后入射到垂直放置的氣室;入射到氣室的線激光經(jīng)第一透鏡組反射后從線激光的入射面出射;分析裝置接收垂直放置的氣室出射的線激光進行檢測為:
第二透鏡組出射的帶狀激光入射到垂直放置的氣室;
入射到氣室的帶狀激光經(jīng)第一透鏡組反射后從帶狀激光的入射面出射;
分析裝置接收垂直放置的氣室出射的帶狀激光進行檢測。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述全反射鏡將激光反射后入射到第二透鏡組擴束成帶狀激光包括:
全反射鏡將線激光反射后入射到凹透鏡,線激光經(jīng)所述凹透鏡折射后出射光為發(fā)散的線激光;
凹透鏡出射的發(fā)散的線激光入射到圓柱透鏡的側(cè)面,發(fā)散的線激光經(jīng)所述圓柱透鏡匯聚后出射光為帶狀激光。
4.根據(jù)權(quán)利要求2-3任意一項所述的方法,其特征在于,所述入射到氣室的帶狀激光經(jīng)第一透鏡組反射后從帶狀激光的入射面出射包括:
入射到垂直放置的氣室的帶狀激光經(jīng)第一透鏡組反射一次后從帶狀激光的入射面出射;
或者,
入射到垂直放置的氣室的帶狀激光經(jīng)第一透鏡組反射多次后從帶狀激光的入射面出射。
5.一種TDLAS氣體檢測系統(tǒng),其特征在于,所述系統(tǒng)包括:
半導(dǎo)體激光器、傳輸光纖、全反射鏡、垂直放置的氣室、第一透鏡組以及分析裝置;
所述半導(dǎo)體激光器,用于出射線激光;
所述傳輸光纖,用于將激光器出射的線激光傳輸至全反射鏡;
所述全反射鏡,用于將線激光反射后入射到垂直放置的氣室;
所述第一透鏡組,用于將入射到氣室的線激光反射后從線激光的入射面出射;
所述垂直放置的氣室,用于放置待測氣體;
所述分析裝置,用于對垂直放置的氣室出射的線激光進行檢測。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的系統(tǒng),其特征在于,所述系統(tǒng)還包括:
第二透鏡組,用于將全反射鏡反射后的線激光擴束成帶狀激光后入射到垂直放置的氣室;
則所述第一透鏡組,具體用于將入射到氣室的帶狀激光反射后從帶狀激光的入射面出射;
所述分析裝置,用于對垂直放置的氣室出射的帶狀激光進行檢測。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng),其特征在于,所述第二透鏡組包括:
凹透鏡和圓柱透鏡;
所述凹透鏡,用于將傳輸光纖出射的線激光折射,出射光為發(fā)散的線激光;
所述圓柱透鏡,用于將凹透鏡出射的發(fā)散的線激光折射匯聚,出射光為帶狀激光。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的系統(tǒng),其特征在于,所述凹透鏡為:
單凹透鏡或雙凹透鏡。
9.根據(jù)權(quán)利要求6-8任意一項所述的系統(tǒng),其特征在于,所述第一透鏡組包括:
靠近垂直放置的氣室的底面放置的第一全反射鏡;
第一全反射鏡,用于將入射到垂直放置的氣室的帶狀激光反射一次后從帶狀激光的入射面出射。
10.根據(jù)權(quán)利要求6-8任意一項所述的系統(tǒng),其特征在于,所述第一透鏡組包括:
靠近垂直放置的氣室的帶狀激光入射面放置的第二全反射鏡;
靠近垂直放置的氣室的底面放置的第三全反射鏡和第四全反射鏡;
第二全反射鏡、第三全反射鏡和第四全反射鏡用于將入射到垂直放置的氣室的帶狀激光反射多次后從帶狀激光的入射面出射。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





