[發明專利]一種銅合金靶材的加工方法在審
| 申請號: | 201310741633.3 | 申請日: | 2013-12-27 |
| 公開(公告)號: | CN104746020A | 公開(公告)日: | 2015-07-01 |
| 發明(設計)人: | 曾浩;李勇軍;何金江;熊曉東;劉書芹;劉紅賓;高巖;王欣平 | 申請(專利權)人: | 有研億金新材料股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34;C22F1/08 |
| 代理公司: | 北京眾合誠成知識產權代理有限公司 11246 | 代理人: | 陳波 |
| 地址: | 102200*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 銅合金 加工 方法 | ||
技術領域
本發明屬于靶材制造技術領域,具體涉及一種銅合金靶材的加工方法。
背景技術
集成電路微細化制程技術日新月異,結構尺寸從微米推向深亞微米,進而邁入納米時代,目前全球45nm及以下工藝產能占半導體制造總產能的比例越來越大。
到45nm及以下制程階段,IC芯片電路的金屬線寬愈來愈微小,導線層數越來越多。且由于電氣與機械特性的關系,信號傳輸會因短路而產生延遲。邏輯芯片電路的信號傳輸,也因制程細微化使繞線距離縮短,繞線容量增加而導致繞線延遲。這些都必須以銅導線與低介電材料,取代先前的鋁合金,來解決電容電阻時間延遲(RC?Time?Delay)問題,因此低介電材料的開發與應用也變得愈來愈緊迫。金屬銅線互連可以優化電路板并提高制造密度,從而大幅度降低成本的同時為性能提升開辟道路,但是對于布線寬度為45nm及以下,縱橫尺寸比超過8的超精細布線,種子層(seed)的厚度變為100nm以下的極薄膜,在用6N超高純銅靶形成種子層的場合,就會產生凝聚,不能形成良好的種子層,而且電遷移問題也愈顯嚴重,它通常發生在銅導線頂部與電介質相接的交界處。
目前研究開發超高純銅合金材料(CuMn、CuAl等)是銅互連工藝中的重要發展方向,用來抑制電遷移,并利于提高Cu種子層的穩定性和均勻性,同時避免電鍍期間出現凝聚物現象。
綜上所述,超高純銅合金材料濺射靶材是在制造高性能的、特征尺寸為45nm和更小的半導體IC器件中用于互連線Cu薄膜所必須的。
專利CN101473059A公開了一種Cu-Mn合金濺射靶的制備方法,該方法采用純度為6N的Cu和純度為5N的Mn進行熔煉,得到高純Cu-Mn合金鑄錠,再將鑄錠在350℃條件下進行軸向鍛造,并進行熱軋和冷軋,經過再結晶熱處理得到濺射靶坯。在靶坯形成過程中,主要控制Mn元素含量、雜質含量以及織構取向來獲得顆粒含量少的濺射薄膜。但是該方法的鍛造方式為單向鐓拔,僅沿軸向進行鍛造。
專利CN101243201A公開了一種微粒發生少的含Mn濺射靶的制備方法,該方法采用6N的Cu和純度為3N的Mn進行熔煉,得到高純Cu-Mn合金鑄錠,再將鑄錠進行鍛造,控制終鍛溫度為450℃以上,并進行反復冷軋退火,經過再結晶熱處理得到濺射坯料,經過機加工后與純鋁制背板在500℃溫度下實施熱等靜壓處理,得到濺射靶材。在靶坯形成過程中,主要控制Mn元素含量、雜質含量來獲得顆粒含量少的濺射薄膜。
發明內容
本發明的目的是提供一種銅合金靶材的加工方法,能夠滿足集成電路45nm及以下工藝制程的要求。
本發明的上述目的是通過以下技術方案達到的:
一種銅合金靶材的加工方法,包含步驟如下:
1)加熱爐將高純銅合金鑄錠均勻加熱到350~600℃,保溫1~3小時;
2)對鑄錠分別沿X/Y/Z三方向進行熱鍛;X、Y為徑向且互相垂直,Z為軸向;
3)熱鍛后坯料在二輥軋機上進行多道次往復冷軋,道次變形量為8%~20%,總變形量為70%~90%;
4)軋后坯料在熱處理爐250~450℃范圍,保溫2~4小時,得到高純銅合金濺射靶坯。
所述的銅合金為CuMn或CuAl合金。
所述的熱鍛的鍛造時間須控制在20min以內,終鍛溫度為400℃~500℃;
所述的熱鍛,拔長鐓粗比例為1.5:1~2:1之間。
本發明的有益效果:本發明的加工方法可以實現銅合金靶材的制備,防止在布線寬度為45nm及以下時,避免電鍍期間出現凝聚現象,同時可以有效地抑制電遷移,有利于提高Cu種子層的穩定性和均勻性,本方法未規定鍛造方式,只限定了終鍛溫度為450℃以上,并且使用X/Y/Z三方向鐓拔鍛造可以進一步提升濺射靶材坯料的均勻性。本發明方法得到的銅合金靶材平均晶粒尺寸在30μm以下,織構取向為隨機分布。
附圖說明
圖1為高純銅合金鑄錠鍛造示意圖,其中X、Y為徑向且互相垂直,Z為軸向。
具體實施方式
實施例1~5:
銅合金鑄錠規格為φ150×130t,在350~600℃條件下進行熱鍛,鍛造方式為X/Y/Z三方向鐓粗拔長,鐓拔比為2:1,終鍛溫度為450℃,冷軋道次變形量為15%,經過冷軋而軋制φ400×18t;
然后在400℃/2h條件下進行再結晶熱處理,對靶坯進行急速冷卻,制成靶材,通過機械加工將其加工成φ380×15t的靶坯,再使用擴散焊接使其與銅合金背板焊接,制成濺射靶材。
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