[發(fā)明專利]光學(xué)玻璃的制造方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310741391.8
• 申請日: 2008-04-16
• 公開（公告）號: CN103803777A
• 公開（公告）日: 2014-05-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 妹尾龍也;永岡敦
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社小原
• 主分類號: C03B5/43
• 分類號: C03B5/43;C03B11/00
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

本申請是申請日為2008年04月16日、申請?zhí)枮?00810093733.9、發(fā)明名稱為“光學(xué)玻璃的制造方法”的申請的分案申請。

相關(guān)申請的描述

本申請以2007年4月16日申請的日本專利申請2007－106854號作為在先申請，要求優(yōu)先權(quán)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及大量含有Bi₂O₃成分和/或TeO₂成分的光學(xué)玻璃的制造方法。本發(fā)明特別涉及使用規(guī)定的部件制造前述光學(xué)玻璃的方法，該光學(xué)玻璃大量含有Bi₂O₃成分和/或TeO₂成分，折射率高，玻璃化轉(zhuǎn)變點(diǎn)低。

背景技術(shù)

目前，高折射率、高色散范圍的光學(xué)玻璃代表性的是大量含有氧化鉛的組成體系，由于這些玻璃的穩(wěn)定性好并且玻璃化轉(zhuǎn)變點(diǎn)（Tg）低，因此可用在精密壓制成型中。例如，專利文獻(xiàn)1中公開了大量含有氧化鉛的精密壓制用的光學(xué)玻璃。但是在實施精密壓制成型的情況下，為了防止模具的氧化，多在還原性氣氛下進(jìn)行壓制，玻璃成分中含有氧化鉛時，則存在如下的問題：被還原的鉛從玻璃表面析出并附著在模具表面，不能維持模具的精密面。另外，氧化鉛對環(huán)境有害，環(huán)境方面經(jīng)常期待無鉛化。

作為不以鉛為主要成分并且可使用于精密壓制成型的具有低溫軟化特性的玻璃，已知大量含有Bi₂O₃、TeO₂的玻璃。例如，專利文獻(xiàn)2中記載一種對0.8μm的光線的折射率為1.9以上、適合于精密壓制成型的低溫軟化性光學(xué)玻璃。專利文獻(xiàn)3中記載了如下的光學(xué)玻璃：以Bi₂O₃為主要成分，在可見區(qū)域的透明性高，具有折射率（n_d）為1.85以上以及阿貝數(shù)（ν_d）在10～30的范圍的光學(xué)常數(shù)的光學(xué)玻璃。專利文獻(xiàn)4中記載了如下的光學(xué)玻璃：以Bi₂O₃為主要成分，在可見區(qū)域的透明性高，具有折射率（n_d）為1.75以上以及阿貝數(shù)（ν_d）在15～40的范圍的光學(xué)常數(shù)的光學(xué)玻璃。

在制造玻璃化轉(zhuǎn)變點(diǎn)低的光學(xué)玻璃的情況下，通常采用通過在鉑或鉑合金、強(qiáng)化鉑等耐熱容器內(nèi)將原料熔融從而玻璃化的方法。

但是，大量含有Bi₂O₃、TeO₂的光學(xué)玻璃通常由于各種各樣的原因而存在可見光線透過性容易變差的缺點(diǎn)，作為光學(xué)玻璃使用時的困難多。特別是將上述玻璃熔融時和成型時，通常被用作熔融槽和流路材料的鉑族合金與熔融玻璃之間發(fā)生反應(yīng)，玻璃多被著色。這些著色在光學(xué)玻璃用途中非常不利。另外，這些熔融玻璃與鉑族合金的反應(yīng)不僅是著色性惡化導(dǎo)致的不利，而且由于該反應(yīng)促進(jìn)熔融部件的劣化，因此存在玻璃漏出等危險性而成為阻礙穩(wěn)定生產(chǎn)的重要原因。

為了解除上述不利，還對熔融Bi₂O₃等玻璃時的部件進(jìn)行了各種研究。

專利文獻(xiàn)5中記載了在容納熔融玻璃的坩鍋中使用含鈀合金。專利文獻(xiàn)6中記載了在制造大量含有Bi₂O₃的低融點(diǎn)玻璃時，在由Au或Au合金制成的耐熱容器內(nèi)進(jìn)行原料配合料的熔融玻璃化。

但是，在專利文獻(xiàn)5中記載的坩鍋內(nèi)將大量含有Bi₂O₃、TeO₂的玻璃熔融的情況下，著色抑制效果并不充分，為了用作光學(xué)玻璃的熔融部件，需要進(jìn)一步改良。另外，專利文獻(xiàn)6中記載的坩鍋對玻璃的著色抑制效果顯著，在實驗室水平的小規(guī)模生產(chǎn)中非常有效。但是，由于加熱時的強(qiáng)度不充分，因此在施加大量的溫度、壓力等負(fù)荷的大量生產(chǎn)時不合適。

專利文獻(xiàn)1：日本特開平1－308843號公報

專利文獻(xiàn)2：日本特開2002－201039號公報

專利文獻(xiàn)3：日本特開2006－327925號公報

專利文獻(xiàn)4：日本特開2006－327926號公報

專利文獻(xiàn)5：日本特開2004－59362號公報

專利文獻(xiàn)6：日本特開2004－18312號公報

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的問題