[發明專利]一種半導體生產調度方法和裝置

在審

• 申請號: 201310740754.6
• 申請日: 2013-12-27
• 公開（公告）號: CN103700022A
• 公開（公告）日: 2014-04-02
• 發明（設計）人: 潘再生;丁進;呂勇哉;陳鵬
• 申請（專利權）人: 浙江大學
• 主分類號: G06Q50/04
• 分類號: G06Q50/04
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 王寶筠

1.一種半導體產品生產調度方法，其特征在于，所述半導體生產調度方法基于半導體產品流動層間平衡模型，所述半導體產品流動層間平衡流動模型為：

V_ijk(t+Δt)＝V_ijk(t)+L_ijk,in(t)-L_ijk,out(t)；

其中，V_ijk(t+Δt)是在時刻t+Δt，第i產品種類的lot在第j臺機臺組M_j的第k層上的數量，V_ijk(t)是在時刻t，第i產品種類的lot在第j臺機臺組M_j上的第k層上的數量，L_ijk,in(t)為第i產品種類的lot在時間間隔[t,t+Δt]內進入第j臺機臺組M_j的第k層的lot數量，L_ijk,out(t)為第i產品種類的lot在時間間隔[t,t+Δt]離開第j臺機臺組M_j的第k層的lot數量；

所述調度方法包括以下步驟，

確定在平穩狀態下相同種類產品在相同機臺組的每相鄰兩層累積加工完畢的lot量的標準差值；

計算預定時間段內相同種類產品在相同機臺組的各層上實際累積加工完畢的lot量；

比較所述預定時間段內相同種類產品在相同機臺組的第1層上實際累積加工完畢的lot量、每相鄰兩層的后一層上實際累積加工完畢的lot量與該相鄰兩層的標準差值之和的大小，得出所述第1層上實際累積加工完畢的lot量以及各個每相鄰兩層的后一層上實際累積加工完畢的lot量與該相鄰兩層的標準差值之和中的最小數值；

分派所述最小數值所屬層的lot進入機臺組加工；

其中，所述層定義為一個lot在整個生產流程中從離開預定機臺組到下一次重新回到該預定機臺組的過程。

2.根據權利要求1所述的調度方法，其特征在于，滿足所述平穩狀態的條件是：

ΣT1T2lijk(k)-ΣT1T2lij(k+1)(t)=Δlijk,(k+1);]]>

其中，l_ijk(t)為第i種類產品在t時刻從第j臺機臺組M_j的第k層上加工完畢的lot的數量，為第i種類產品在時間段[T2-T1]內從第j臺機臺組M_j的第k層上累積加工完畢的lot的數量，l_ij(k+1)(t)為第i種類產品在t時刻從第j臺機臺組M_j的第k+1層上加工完畢的lot的數量，為第i種類產品在時間段[T2-T1]內從第j臺機臺組M_j的第k+1層上累積加工完畢的lot的數量，Δl_ijk(k+1)為在平穩狀態下第i種類產品在第j臺機臺組的每相鄰兩層中的第k層與第k+1層累積加工完畢的lot的標準差值。

3.根據權利要求1所述的調度方法，其特征在于，所述Δl_ijk(k+1)通過生產線在初始加工的預定時間段內統計獲得。