[發(fā)明專利]窄線寬激光器線寬高精度測(cè)量系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310732083.9
• 申請(qǐng)日: 2013-12-27
• 公開（公告）號(hào): CN103674497A
• 公開（公告）日: 2014-03-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 呂亮;張文華;杜正婷;向榮;楊波;吳爽;鄧涵元;趙力杰;曹志剛;劉宇;俞本立
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 安徽大學(xué)
• 主分類號(hào): G01M11/02
• 分類號(hào): G01M11/02
• 代理公司: 江蘇英特東華律師事務(wù)所 32229
• 代理人: 邵鋆

1.一種窄線寬激光器線寬高精度測(cè)量系統(tǒng)，其特征是：包括第一光耦合器（2）與第二光耦合器（4），所述第一光耦合器（2）具有a、b、c、d四個(gè)端口，所述第二光耦合器（4）具有e、f、g三個(gè)端口；所述第一光耦合器（2）的a端口與待測(cè)激光光源（1）相連，其b端口通過(guò)光電探測(cè)器（7）與信號(hào)接收單元（8）相連，其c端口通過(guò)隔離器（3）與所述第二光耦合器（4）的f端口相連，其d端口與所述第二光耦合器（4）的e端口相連；所述第二光耦合器（4）的g端口經(jīng)光纖延遲線（5）與反射面（6）相連；由所述反射面（6）外腔反饋而兩次經(jīng)過(guò)所述光纖延遲線（5）的光經(jīng)所述第二光耦合器（4）的g端口與其f端口的光產(chǎn)生拍頻信號(hào)，該拍頻信號(hào)經(jīng)所述第一光耦合器（2）的b端口輸出，并由所述光電探測(cè)器（7）轉(zhuǎn)換為電流信號(hào)，該電流信號(hào)由所述信號(hào)接收單元（8）接收并獲得相應(yīng)的洛倫茲線形的光電流譜線；所述光電流譜線的半高寬即為所述待測(cè)激光光源（1）的線寬。

2.按照權(quán)利要求1所述的窄線寬激光器線寬高精度測(cè)量系統(tǒng)，其特征是：所述反射面（6）為耦合器二輸出端融合形成的環(huán)形鏡構(gòu)成的反射面。

3.按照權(quán)利要求1所述的窄線寬激光器線寬高精度測(cè)量系統(tǒng)，其特征是：所述反射面（6）為具有反射特性的馬赫曾德干涉器、法布里-泊羅干涉儀或薩格奈克干涉儀。

4.按照權(quán)利要求1所述的窄線寬激光器線寬高精度測(cè)量系統(tǒng)，其特征是：所述反射面（6）為一八度角APC跳線頭與一陶瓷套管表面黏貼介質(zhì)膜構(gòu)成的外腔。

5.按照權(quán)利要求1所述的窄線寬激光器線寬高精度測(cè)量系統(tǒng)，其特征是：所述反射面（6）為一平角PC跳線頭與一陶瓷套管表面黏貼介質(zhì)膜構(gòu)成具有一定反射率的法布里珀羅腔構(gòu)成的外腔。

6.按照權(quán)利要求1所述的窄線寬激光器線寬高精度測(cè)量系統(tǒng)，其特征是：所述反射面（6）為表面涂有介質(zhì)膜的裸光纖平切面。

7.按照權(quán)利要求4或5或6所述的窄線寬激光器線寬高精度測(cè)量系統(tǒng)，其特征是：所述介質(zhì)膜為非金屬介質(zhì)膜或金屬介質(zhì)膜；所述非金屬介質(zhì)膜的材料為石墨烯或碳化硅，所述金屬介質(zhì)膜的材料包括金銀銅鐵鋁鋅。

8.按照權(quán)利要求7所述的窄線寬激光器線寬高精度測(cè)量系統(tǒng)，其特征是：所述介質(zhì)膜為采用電鍍、化學(xué)鍍、脈沖激光沉積、化學(xué)氣相沉積、分子束外延、溶膠凝膠、磁控濺射、氧化法、離子注入法、擴(kuò)散法、電鍍法、涂布法或液相生成法通過(guò)鍍膜方法獲得。

9.按照權(quán)利要求1所述的窄線寬激光器線寬高精度測(cè)量系統(tǒng)，其特征是：所述信號(hào)接收單元（8）采用頻譜分析儀、示波器或數(shù)據(jù)采集卡。

10.????按照權(quán)利要求1所述的窄線寬激光器線寬高精度測(cè)量系統(tǒng)，其特征是：所述第一光耦合器（2）與所述隔離器（3）之間加入一個(gè)聲光移頻器，實(shí)現(xiàn)自外差法測(cè)量激光線寬系統(tǒng)。