[發明專利]顯示基板及其制備方法在審
| 申請號: | 201310729311.7 | 申請日: | 2013-12-25 |
| 公開(公告)號: | CN103728683A | 公開(公告)日: | 2014-04-16 |
| 發明(設計)人: | 侯文軍;劉則 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/08 | 分類號: | G02B5/08;H01L27/32;H01L33/10;H01L33/00 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;張天舒 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發明屬于顯示領域,具體涉及一種顯示基板及其制備方法。
背景技術
布拉格反射結構(DBR)一般是采用高折射率材料層和低折射率材料層的相互交叉堆疊的結構形成,同時要求材料在可見光區無吸收。中國專利(CN101478025A)介紹的DBR結構用于提高半導體微腔發光二極管的出光效率。
普通有機電致發光(OLED)器件的出光效率約為20%,提高出光效率是OLED研究中重要的課題。
發明內容
本發明的目的是解決現有技術中的顯示基板出光效率不高的問題,提供一種光效率高、全彩顯示的顯示基板及其制備方法。
解決本發明技術問題所采用的技術方案是一種顯示基板,包括分為至少兩種不同顏色的顯示單元,所述顯示基板還包括與各顯示單元相對的位于不同區域的多個布拉格反射單元,所述的布拉格反射單元包括折射率不同的交替堆疊的第一結構層和第二結構層,所述的第一結構層的厚度為來自對應的顯示單元的入射光波長的4n1分之一,其中,n1為第一結構層的折射率;
所述的第二結構層的厚度為來自對應的顯示單元的入射光波長的4n2分之一,其中,n2為第二結構層的折射率。
本發明的顯示基板具有布拉格反射單元,該布拉格反射單元的第一結構層和第二結構層的厚度具有上述特點,能夠提高入射光的出光效率,并實現全彩顯示。
優選的是,所述的第一結構層的折射率小于第二結構層的折射率,所述的入射光從第二結構層入射進入所述布拉格反射單元。
優選的是,所述的第一結構層和第二結構層至少各兩層。
優選的是,所述的第一結構層的材料是SiO2。
優選的是,所述的第二結構層的材料是SiNx或TiO2。
優選的是,所述的顯示單元包括三原色的三種顯示單元。
進一步優選的是,所述的三原色分別為紅、綠、藍。
優選的是,所述的顯示單元包括發相應顏色光的有機電致發光器件,且布拉格反射單元相對于有機電致發光器件更靠近顯示基板出光側設置。
優選的是,所述的顯示單元中包括相應顏色的彩色濾光膜,其中,布拉格反射單元相對于彩色濾光膜更靠近顯示基板出光側設置。
本發明的另一個目的是提供一種光效率高、全彩顯示的顯示基板的制備方法,包括以下步驟;
1)形成第一結構層
在襯底上沉積第一材料層,通過構圖工藝形成包括第一結構層的圖形,其中,不同區域的第一結構層的厚度是來自該區域對應的顯示單元的入射光波長的4n1分之一,其中,n1為第一結構層的折射率;
2)形成第二結構層
在第一結構層上沉積第二材料層,通過構圖工藝形成包括第二結構層的圖形,其中,不同區域的第二結構層的厚度是來自該區域對應的顯示單元的入射光波長的4n2分之一,其中,n2為第二結構層的折射率;
3)重復步驟1和步驟2。
優選的是,所述的通過構圖工藝形成包括第一結構層的圖形,還包括:
在不同區域的第一結構層上形成不同厚度的光刻膠;
對第一結構層進行等離子體刻蝕,使不同區域的第一結構層的厚度是來自該區域對應的顯示單元的入射光波長的4n1分之一,其中,n1為第一結構層的折射率。
優選的是,所述的通過構圖工藝形成包括第二結構層的圖形,還包括:
在不同區域的第二結構層上形成不同厚度的光刻膠;
對第二結構層進行等離子體刻蝕,使不同區域的第二結構層的厚度是來自該區域對應的顯示單元的入射光波長的4n2分之一,其中,n2為第二結構層的折射率。
本發明提供一種顯示基板及其制備方法,該顯示基板,包括分為至少兩種不同顏色的顯示單元,所述顯示基板還包括與各顯示單元相對的位于不同區域的多個布拉格反射單元,所述的布拉格反射單元包括折射率不同的交替堆疊的第一結構層和第二結構層,所述的第一結構層和第二結構層的厚度為來自對應的顯示單元的入射光波長的4n分之一,其中,n為第一結構層或第二結構層的折射率。本發明的顯示基板出光效率高、能適用于全彩顯示。
附圖說明
圖1為本發明實施例中顯示基板的截面示意圖。
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