[發明專利]一種化學機械拋光液及其應用

在審

• 申請號: 201310728668.3
• 申請日: 2013-12-25
• 公開（公告）號: CN104745090A
• 公開（公告）日: 2015-07-01
• 發明（設計）人: 荊建芬;姚穎;邱騰飛;蔡鑫元;陳寶明
• 申請（專利權）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務所 31246
• 代理人: 李佳銘

1.一種用于阻擋層平坦化的化學機械拋光液，其特征在于，所述拋光液包含研磨顆粒、唑類化合物、絡合劑、聚丙烯酸類化合物和/或其鹽、非離子表面活性劑和氧化劑。

2.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述的研磨顆粒選自二氧化硅、三氧化二鋁、二氧化鈰、摻雜鋁的二氧化硅和/或聚合物顆粒中的一種或多種。

3.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述的研磨顆粒的濃度為質量百分比1～20%。

4.如權利要求3所述的拋光液，其特征在于，所述的研磨顆粒的濃度為質量百分比2～10%。

5.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述的研磨顆粒的粒徑為20～150nm。

6.如權利要求5所述的拋光液，其特征在于，所述的研磨顆粒的粒徑為30～120nm。

7.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述唑類化合物選自下列中的一種或多種：苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑、5-苯基四氮唑、巰基苯基四氮唑、苯并咪唑，萘并三唑和/或2-巰基-苯并噻唑。

8.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述唑類化合物的濃度為質量百分比0.001～2%。

9.如權利要求8所述的拋光液，其特征在于，所述唑類化合物的濃度為質量百分比0.01～1%。

10.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述絡合劑為有機酸、有機磷酸和/或氨羧化合物中的一種或多種。

11.如權利要求10所述的拋光液，其特征在于，所述絡合劑選自下列中的一種或多種：乙酸、丙酸、草酸、丙二酸、丁二酸、檸檬酸、2-膦酸丁烷-1，2，4-三羧酸、氨基三甲叉膦酸、羥基乙叉二膦酸，乙二胺四甲叉膦酸和/或甘氨酸。

12.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述絡合劑的濃度為質量百分比0.001～2%。

13.如權利要求12所述的拋光液，其特征在于，所述絡合劑的濃度為質量百分比0.01～1%。

14.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述聚丙烯酸類化合物為聚丙烯酸，所述的鹽為銨鹽、鉀鹽或鈉鹽。

15.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述聚丙烯酸類化合物和/或其鹽的分子量為1000-20000。

16.如權利要求15所述的拋光液，其特征在于，所述聚丙烯酸類化合物和/或其鹽的分子量為2000-10000。

17.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述聚丙烯酸類化合物和/或其鹽的濃度為質量百分比0.001～1%。

18.如權利要求17所述的拋光液，其特征在于，所述聚丙烯酸類化合物和/或其鹽的濃度為質量百分比0.01～0.5%。

19.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述非離子表面活性劑選自下列中的一種或多種：C_10～18脂肪醇聚氧乙烯（n）醚(n=7～30)、C_8～9烷基酚聚氧乙烯(n)醚(n=8～200)、C_12～18脂肪胺聚氧乙烯（n）醚(n=10～60)、TritonCF-10、TritonCF-21、TritonDF-12、TritonDF-16和/或TritonDF-18。

20.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述非離子表面活性劑的濃度為質量百分比0.001～0.5%。

21.如權利要求20所述的拋光液，其特征在于，所述非離子表面活性劑的濃度為質量百分比0.01～0.2%。

22.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述氧化劑選自下列中的一種或多種：過氧化氫、過氧乙酸，過硫酸鉀和/或過硫酸銨。

23.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述的氧化劑的濃度為質量百分比0.01～5%。

24.如權利要求23所述的拋光液，其特征在于，所述的氧化劑的濃度為質量百分比0.1～2%。