[發(fā)明專利]顯示面板及其制作方法和顯示裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310727491.5
• 申請(qǐng)日: 2013-12-25
• 公開（公告）號(hào): CN103728797A
• 公開（公告）日: 2014-04-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 薛偉;李小和;邵賢杰;董職福;張曉潔
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/136
• 分類號(hào): G02F1/136;G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1335;G02F1/1333;H01L27/12;H01L21/77
• 代理公司: 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種顯示面板，包括陣列基板，所述陣列基板包括在第一襯底基板上依次形成的多個(gè)膜層，其特征在于，

數(shù)據(jù)線和漏極位于同一膜層，柵線、柵極和第一公共電極位于同一膜層，所述柵線、所述柵極和所述第一公共電極所在的膜層位于所述數(shù)據(jù)線和所述漏極所在的膜層與像素電極所在的膜層之間。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述在第一襯底基板上依次形成的多個(gè)膜層包括：

位于所述第一襯底基板上的第一膜層，所述第一膜層包括黑矩陣；

位于所述第一膜層上的第二膜層，所述第二膜層包括有源層，其中，所述有源層所在區(qū)域落在所述黑矩陣所在區(qū)域內(nèi)；

位于所述第二膜層上的第三膜層，所述第三膜層包括所述數(shù)據(jù)線和所述漏極；

位于所述第三膜層上的第四膜層，所述第四膜層為第一絕緣層；

位于所述第四膜層上的第五膜層，所述第五膜層包括所述柵線、所述柵極和所述第一公共電極；

位于所述第五膜層上的第六膜層，所述第六膜層為第二絕緣層，其中，所述第四膜層和所述第六膜層上設(shè)置有對(duì)應(yīng)于所述漏極的過(guò)孔；

位于所述設(shè)置有所述過(guò)孔的所述第六膜層上的第七膜層，所述第七膜層包括所述像素電極，所述像素電極通過(guò)所述過(guò)孔電連接所述漏極。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述顯示面板還包括彩膜基板，所述彩膜基板包括：

第二襯底基板；

位于所述第二襯底基板上的彩色濾色層；

位于所述彩色濾色層上的第二公共電極。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板，其特征在于，所述彩膜基板還包括：

透明保護(hù)層，所述透明保護(hù)層位于所述彩色濾色層和所述第二公共電極之間。

5.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1～4任一項(xiàng)所述的顯示面板。

6.一種顯示面板的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：

在基板上形成第一金屬層，經(jīng)過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成包括數(shù)據(jù)線和漏極的圖形；

在所述基板上形成第一絕緣層；

在所述第一絕緣層上形成第二金屬層，經(jīng)過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成包括柵線、柵極和第一公共電極的圖形；

在所述基板上，形成第二絕緣層；

在形成的所述第一絕緣層和所述第二絕緣層上，經(jīng)過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成對(duì)應(yīng)于所述漏極的過(guò)孔；

在所述基板上，形成一層透明導(dǎo)電層，經(jīng)過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成像素電極，所述像素電極通過(guò)所述過(guò)孔電連接所述漏極，以形成陣列基板。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，

還包括：

在第一襯底基板上，形成一層遮光層，經(jīng)過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成包括黑矩陣的圖形；

在所述第一襯底基板上，形成半導(dǎo)體薄膜，經(jīng)過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成包括有源層的圖形，以形成所述基板，其中，所述有源層所在區(qū)域落在所述黑矩陣所在區(qū)域內(nèi)。

8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，還包括：

在第二襯底基板上形成彩色濾色層；

形成第二公共電極，以形成彩膜基板。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，

在形成第二公共電極前還包括：

在所述彩色濾色層上，形成透明保護(hù)層。