[發明專利]一種監控操作真空爐

有效

• 申請號: 201310727368.3
• 申請日: 2013-12-25
• 公開（公告）號: CN103725843A
• 公開（公告）日: 2014-04-16
• 發明（設計）人: 李榮華
• 申請（專利權）人: 蘇州市萬泰真空爐研究所有限公司
• 主分類號: C21D1/773
• 分類號: C21D1/773;C21D1/63;C21D11/00
• 代理公司: 南京經緯專利商標代理有限公司 32200
• 代理人: 張惠忠

1.一種監控操作真空爐，包括爐體外殼，所述爐體外殼內設置有冷卻室和加熱室，所述冷卻室和加熱室之間通過分室墻隔開；所述冷卻室由上到下依次設置有氣淬室和油淬室，同時所述氣淬室上部設置有充氣速冷機構，而油淬室下部設置有油淬油槽，同時所述冷卻室與加熱室相對的一側設置有冷卻室爐門；所述加熱室內設置有加熱室平臺，所述料框放置于加熱室平臺上，同時所述加熱室內部沿周向均勻設置有一個及以上的加熱管，而所述冷卻室、加熱室外部各設置有抽真空機構，同時所述加熱室與冷卻室相對的一側設置有加熱室爐門；而所述分室墻上開設有分室墻進出口，所述分室墻進出口安裝有隔熱門，所述隔熱門通過隔熱門升降機構開合，其特征在于:?所述油淬室外部設置有攪拌器；而所述加熱室上設置有氣體對流循環機構，所述氣體對流循環機構包括氣體供給機構和加熱室風機，所述加熱室風機進風口與氣體供給機構連通，所述氣體供給機構通過管道與加熱室內部連通，而加熱室風機安裝在加熱室爐門上，且其扇葉位于加熱室內；所述冷卻室內部設置有料框移送機構，所述料框移送機構包括移送機構支架、第一支桿、豎向電機和水平電機，所述移送機構支架設置于冷卻室內，所述第一支桿上設置有水平齒輪軌道，所述移送機構支架上設置有與水平齒輪軌道相配合的水平齒輪組，而所述水平電機設置于移送機構支架上且為水平齒輪組提供動力，所述第一支桿上設置有豎向齒輪組，所述移送機構支架上設置有與豎向齒輪組相配合的豎向齒輪軌道，而所述豎向電機為設置于第一支桿上且為豎向齒輪組提供動力；所述加熱室、隔熱門由加熱室內部向外均依次設置有隔熱層、真空層和不銹鋼外殼，所述隔熱層與不銹鋼外殼之間通過支柱支撐；還包括操作監控系統，所述操作監控系統分別與充氣速冷機構、抽真空機構、加熱管、隔熱門升降機構、攪拌器、氣體對流循環機構、料框移送機構連接；所述操作監控系統包括輸入單元、溫度監控單元、真空度監控單元以及操作單元，所述輸入單元、溫度監控單元、真空度監控單元分別與操作單元連接；所述溫度監控單元包括氣淬室溫度監控單元、油淬油槽溫度監控單元和加熱室溫度監控單元，所述氣淬室溫度監控單元、油淬油槽溫度監控單元和加熱室溫度監控單元分別與操作單元連接，所述油淬油槽溫度監控單元包括溫度計、浮球和滑軌，所述滑軌安裝在油淬油槽的側壁上，所述滑軌上滑動連接有與之相配合的滑桿，所述溫度計、浮球安裝在滑桿上，其中：所述輸入單元用于輸入物料加工信息，并將該物料加工信息反饋給操作單元；所述溫度監控單元用于監測氣淬室、油淬油槽和加熱室內的溫度，并將該溫度反饋給操作單元；所述真空度監控單元用于監測冷卻室和加熱室內的真空度，并將該真空度反饋給操作單元；所述操作單元根據輸入單元輸入的物料加工信息分別對充氣速冷機構、抽真空機構、加熱管、隔熱門升降機構、攪拌器、氣體對流循環機構、料框移送機構進行操作控制；所述操作單元根據溫度監控單元反饋的加熱室的溫度控制加熱管加熱，所述操作單元根據溫度監控單元反饋的油淬油槽的溫度控制攪拌器攪拌；所述操作單元根據真空度監控單元反饋的冷卻室和加熱室的真空度分別控制冷卻室和加熱室相應的抽真空機構進行抽真空。

2.根據權利要求1所述監控操作真空爐，其特征在于：所述支柱沿周向均與分布。

3.根據權利要求2所述監控操作真空爐，其特征在于：所述支柱個數為四個。

4.根據權利要求3所述監控操作真空爐，其特征在于：所述充氣速冷機構為氮氣速冷機構。

5.根據權利要求4所述監控操作真空爐，其特征在于：所述攪拌器為攪拌電機，所述攪拌電機的葉輪設置于冷卻室內，且位于油面以下。

6.根據權利要求5所述監控操作真空爐，其特征在于：所述抽真空機構為抽真空機。

7.根據權利要求6所述監控操作真空爐，其特征在于：所述隔熱層為石墨氈層。

8.根據權利要求7所述監控操作真空爐，其特征在于：所述隔熱門升降機構包括氣缸，所述氣缸驅動軸與隔熱門連接。