[發明專利]具有渦控制裝置的流體動力設備及控制渦流的方法在審
| 申請號： | 201310726819.1 | 申請日： | 2013-12-24 |
| 公開（公告）號： | CN103754354A | 公開（公告）日： | 2014-04-30 |
| 發明（設計）人： | 韓軍;韓子飛 | 申請（專利權）人： | 韓軍 |
| 主分類號： | B64C23/06 | 分類號： | B64C23/06 |
| 代理公司： | 廣州市華學知識產權代理有限公司 44245 | 代理人： | 蔣劍明 |
| 地址： | 516006 廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 具有 控制 裝置 流體 動力設備 渦流 方法 | ||
1.具有渦控制裝置的流體動力設備，其特征在于：所述流體動力設備包括至少一個渦附著面、流體通道、渦控制器，所述流體通道設置在渦附著面上，渦控制器用于驅動流體流動，流體流向流體通道產生渦，渦附著于渦附著面上。
2.根據權利要求1所述的流體動力設備，其特征在于：所述渦附著面包含兩個渦附著面形成對，同一渦的兩端終止于渦附著面對的兩個面上。
3.根據權利要求2所述的渦附著面對，其特征在于：兩個面存在夾角，一個面相對另一個面轉動。
4.根據權利要求1所述的流體通道，其特征在于：所述流體動力設備還包括調節流體通道面積大小的調節器。
5.根據權利要求4所述的流體通道，其特征在于：通道曲面為平滑的。
6.根據權利要求1所述的渦控制器，其特征在于：所述渦控制器包括負壓發生器和流體驅動裝置，所述負壓發生器設置在流體通道內，所述流體驅動裝置設置在渦附著面上或渦附著面上方。
7.根據權力要求6所述的負壓發生器：其特征在于：所述渦控制器還包括渦動能回收裝置，所述渦動能回收裝置設置在流體通道內，渦動能回收裝置用于使用流體動能提升流體壓強。
8.根據權力要求7所述的渦動能回收裝置：其特征在于，渦動能回收裝置為離心渦輪。
9.根據權利要求6所述的流體驅動裝置，其特征在于：流體驅動裝置為非接觸式驅動。
10.根據權利要求1-9所述的流體動力設備，其特征在于：流體動力設備包括多組渦附著面對、流體通道、渦控制器，這些組呈陣例和/或組合分布于流體動力設備上。
11.一種控制渦流的方法，適用于流體動力設備，其特征在于，包括以下步驟：
形成渦附著面對，渦附著面對上形成至少一個流體通道；
驅動流體運動，流體流向流體通道產生渦；
渦的兩端附著于渦附著面對的兩個面上，渦附著面表面流體壓強降低，相對于無流動，對渦附著面的流體動力為負壓力。
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