[發明專利]一種改進的差分架構SONOS Flash存儲單元無效
| 申請號: | 201310723107.4 | 申請日: | 2013-12-25 |
| 公開(公告)號: | CN103745748A | 公開(公告)日: | 2014-04-23 |
| 發明(設計)人: | 翁宇飛;姜偉;張其笑;胡玉青;李二亮 | 申請(專利權)人: | 蘇州寬溫電子科技有限公司 |
| 主分類號: | G11C16/26 | 分類號: | G11C16/26 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 改進 架構 sonos flash 存儲 單元 | ||
技術領域
本發明涉及Flash存儲器領域,具體涉及一種改進的差分架構SONOS?Flash存儲單元。?
背景技術
Flash是一種非易失性的存儲器,具有存儲容量大、數據保存時間長的特點,其擦寫次數多達10萬次,數據更新速度比EEPROM要快很多,在斷電的情況下也能保存數據,常用來保存一些重要的配置信息。?
1988年,Intel公司的?S.?Tam等人在文獻?“A?High?Density?CMOS?1-T?Electrically?Erasable?Non-Volatile?(Flash)?Memory?Technology”中提出了經典的ETOX(?Elect?ron?T?unneling?Ox?ide?device?)?FLASH結構,?至今,?大部分新的結構都是從它的基礎上發展而來。其架構如圖1所示,主要由襯底、隧道氧化層、多晶浮柵(?FG)?、柵間絕緣層和多晶控制柵(?CG)?組成。Flash?存儲器是通過向浮柵中注入或拉出電子來實現“寫”或“擦”。由于浮柵中電子的變化,?存儲單元的閾值電壓也會隨之而改變,向浮柵中注入電子時,?閾值電壓升高,定義為“1”;將浮柵中的電子拉出定義為“0?”。?
MLC(Multi-level?Cell)技術,這是INTEL提出的一種旨在提高存儲密度的新技術。通常數據存儲中存在一個閾值電壓,低于這個電壓表示數據0,高于這個電壓表示數據1,所以一個基本存儲單元(即一個場效應管)可存儲一位數據(0或者1)。現在將閾值電壓變為4種,則一個基本存儲單元可以輸出四種不同的電壓,令這四種電壓分別對應二進制數據00、01、10、11,則可以看出,每個基本存儲單元一次可存儲兩位數據(00或者01或者10或者11)。如果閾值電壓變為8種,則一個基本存儲單元一次可存儲3位數據。閾值電壓越多,則一個基本存儲單元可存儲的數據位數也越多。這樣一來,存儲密度大大增加,同樣面積的硅片上就可以做到更大的存儲容量。不過閾值電壓越多,干擾也就越嚴重,對設計工藝的要求很高。?
由于浮動柵結構(Floating?Gate)非揮發性存儲器件,?擦和寫過程需要高電壓,?將浮動柵結構非揮發性存儲器件,?與CMOS?器件整合在一起,?越來越困難.?另外,?隨著浮動柵結構存儲器件尺寸的縮小,?過度擦除和反常漏電流都現得越來越嚴重;?在這樣的情況下,?三十多年前就被提出的SONOS(Silicon-Oxide-Nitirde-Oxide-Sil?-icon)器件又重新被關注。除了小的器件尺寸之外,?SONOS?還具有很多優勢,?如好的耐久性,?低操作電壓和低功率,?工藝過程簡單并與標準CMOS?工藝兼容。圖?2?是SONOS?存儲器件的截面圖,?最上面是多晶硅柵,?在柵和俘獲電荷的氮化硅層之間為調度二氧化硅層,?在氮化硅層和硅基底,之間為隧穿二氧化硅層。一般認為,?寫過程機制是FN?隧穿和溝道熱電子注入;?擦除過程機制是FN?隧穿和熱空穴增強注入。?
在專利US6847556B2?“Method?for?operating?NOR?type?flash?memory?device?including?SONOS?cells”?中,三星電子有限公司提出一種用SONOS?CELL來實現NOR?FLASH構架的一種方法,由于這種NOR構架在編程時無法通過FN隧穿原理來編程單一的存儲單元,所以在編程時采用了溝道熱電子注入原理,在擦出時采用了FN隧穿和熱空穴注入原理。但隨著近年來集成電路工藝的不斷進步,器件的尺寸越來越小,器件編程前后可區分的電流范圍也越來越小,電流范圍的局限嚴重限制了參考電路的阻抗選擇,很容易帶來阻抗不匹配問題,造成讀取錯誤。?
有鑒于此,有必要提出一種改進的SONOS存儲單元結構來優化這些問題。?
發明內容
本發明的目的在于克服現有技術存在的以上問題,提供一種改進的差分架構Flash存儲單元,在傳統單個SONOS存儲單元的基礎上,讀取時采用兩條支路對比輸入差分放大器,避免了采用基準電路帶來的不匹配問題,極大地提高了讀取的穩定性。?
為實現上述技術目的,達到上述技術效果,本發明通過以下技術方案實現:?
一種改進的差分架構SONOS?Flash存儲單元,包括兩個完全相同的SONOS晶體管M1和M2,所述M1和M2的柵極相連,作為整個存儲單元的字線,所述M1和M2的漏極分別連接存儲單元的兩根源線SL1和SL2,所述M1和M2的源極分別作為存儲單元的兩根位線BL1和BL2。
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