[發(fā)明專利]顯示設(shè)備、其光學(xué)組件以及光學(xué)組件的制作方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310721747.1 | 申請(qǐng)日: | 2013-12-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104635329A | 公開(公告)日: | 2015-05-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 方崇仰;王文俊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 勝華科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02B17/00 | 分類號(hào): | G02B17/00;G02B27/22 |
| 代理公司: | 深圳新創(chuàng)友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44223 | 代理人: | 江耀純 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 設(shè)備 光學(xué) 組件 以及 制作方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種顯示設(shè)備、其光學(xué)組件以及光學(xué)組件的制作方法,特別是涉及一種具有多個(gè)不相接觸的透明長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)的浮空影像顯示設(shè)備、其光學(xué)組件以及光學(xué)組件的其制作方法。
背景技術(shù)
現(xiàn)有浮空影像顯示設(shè)備由一物體以及一光學(xué)組件所構(gòu)成。并且,光學(xué)組件可細(xì)微地反射光束,使得設(shè)置在光學(xué)組件一側(cè)的物體的影像可通過(guò)光學(xué)組件的反射而鏡面成像于光學(xué)組件的另一側(cè)。如此一來(lái),物體的影像可在光學(xué)組件的另一側(cè)顯示出。
目前美國(guó)專利公開案號(hào)第20110181949號(hào)所公開的光學(xué)組件由多條長(zhǎng)條狀的微反射鏡單元并排堆疊而成,且各微反射鏡單元由透明長(zhǎng)條體與設(shè)置在透明長(zhǎng)條體的一側(cè)表面的光反射膜所構(gòu)成。然而,在制作光學(xué)組件的過(guò)程中,須針對(duì)每一個(gè)微小的透明長(zhǎng)條體的側(cè)表面上進(jìn)行濺鍍工藝,以形成光反射膜,然后再將每一個(gè)微反射鏡單元并排堆疊在一起,因此造成制作光學(xué)組件的過(guò)程繁復(fù),進(jìn)而增加制作成本。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種顯示設(shè)備、其光學(xué)組件以及光學(xué)組件的制作方法,以降低光學(xué)組件的制作成本。
為達(dá)到上述目的,本發(fā)明提供一種光學(xué)組件,包括一第一透明基板、多個(gè)第一透明長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)以及一填充介質(zhì)。第一透明基板包括一第一表面與一第二表面,其中第二表面與第一表面彼此相對(duì),并平行于第一表面。第一透明長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)設(shè)置在第一透明基板的第一表面上,且各第一透明長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)包括彼此相對(duì)的一第一頂表面與一第一底表面、彼此相對(duì)的兩第一側(cè)表面以及彼此相對(duì)的兩第二側(cè)表面,其中第一底表面與第一表面相接觸,并平行于第一表面,且第一透明長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)的第一側(cè)表面彼此相互平行,其中至少一部分的第一透明長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)沿著垂直于第一側(cè)表面的一第一方向依序排列,且任兩相鄰的第一透明長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)之間具有一第一間隙。填充介質(zhì)填滿在第一間隙中,其中填充介質(zhì)的折射率小于各第一透明長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)的折射率。
為達(dá)到上述目的,本發(fā)明提供一種顯示設(shè)備,包括一顯示面板、一第一透明基板、多個(gè)第一透明長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)以及一填充介質(zhì)。第一透明基板包括一第一表面與一第二表面,其中第二表面與第一表面彼此相對(duì),并平行于第一表面。第一透明長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)設(shè)置在第一透明基板的第一表面上,且各第一透明長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)包括彼此相對(duì)的一第一頂表面與一第一底表面、彼此相對(duì)的兩第一側(cè)表面以及彼此相對(duì)的兩第二側(cè)表面,其中第一底表面與第一表面相接觸,并平行于第一表面,且第一透明長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)的第一側(cè)表面彼此相互平行,其中至少一部分的第一透明長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)沿著垂直于第一側(cè)表面的一第一方向依序排列,且任兩相鄰的第一透明長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)之間具有一第一間隙。填充介質(zhì)填滿在第一間隙中,其中填充介質(zhì)的折射率小于各第一透明長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)的折射率。
為達(dá)到上述目的,本發(fā)明提供一種光學(xué)組件的制作方法。首先,提供一第一透明基板。然后,在第一透明基板的一表面上形成一第一光刻膠圖案層。接著,進(jìn)行一非等向性蝕刻工藝,以在第一透明基板的一第一表面上形成多個(gè)第一透明長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu),其中各第一透明長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)包括一第一頂表面、彼此相對(duì)的兩第一側(cè)表面以及彼此相對(duì)的兩第二側(cè)表面,其中第一頂表面平行于第一表面,且第一透明長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)的第一側(cè)表面彼此相互平行,其中至少一部分的第一透明長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)沿著垂直于第一側(cè)表面的一第一方向依序排列,且任兩相鄰的第一透明長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)之間具有一第一間隙。隨后,移除第一光刻膠圖案層。
本發(fā)明僅需通過(guò)微影工藝與蝕刻工藝即可形成透明長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu),且同時(shí)相鄰的透明長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)之間可填有填充介質(zhì),借此可避免需針對(duì)每一個(gè)長(zhǎng)條體進(jìn)行濺鍍工藝并將其堆疊的繁復(fù)工藝,進(jìn)而可降低光學(xué)組件的制作成本。
附圖說(shuō)明
圖1至圖3為本發(fā)明第一實(shí)施例的光學(xué)組件的制作方法示意圖。
圖4為光線穿透本實(shí)施例的光學(xué)組件的行進(jìn)路徑示意圖。
圖5為本發(fā)明第二實(shí)施例的光學(xué)組件的立體示意圖。
圖6至圖8為本發(fā)明第三實(shí)施例的光學(xué)組件的制作方法示意圖。
圖9為本發(fā)明第四實(shí)施例的光學(xué)組件的立體示意圖。
圖10至圖12為本發(fā)明第五實(shí)施例的光學(xué)組件的制作方法示意圖。
圖13為本發(fā)明顯示設(shè)備的側(cè)視示意圖。
其中,附圖標(biāo)記說(shuō)明如下:
100、200、300、400、500???????????????????????光學(xué)組件
102?????????第一透明基板?????????102a?????????第一表面
102b????????第二表面?????????????104??????????第一光刻膠圖案層
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于勝華科技股份有限公司;,未經(jīng)勝華科技股份有限公司;許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310721747.1/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





