[發明專利]一種磁場測量分析系統

有效

• 申請號: 201310720934.8
• 申請日: 2013-12-24
• 公開（公告）號: CN103675723B
• 公開（公告）日: 2017-11-21
• 發明（設計）人: 魏慶瑄;張俊峰;李桂良
• 申請（專利權）人: 上海子創鍍膜技術有限公司
• 主分類號: G01R33/07
• 分類號: G01R33/07
• 代理公司: 上海百一領御專利代理事務所(普通合伙)31243
• 代理人: 陳貞健

技術領域

本發明涉及到一種磁場測量分析裝置,尤其涉及到一種通過霍爾探頭的磁場測量分析系統。

背景技術

目前鍍膜玻璃采用的磁控濺射技術，磁控濺射已發展為工業鍍膜生產中的技術之一，在批量鍍膜生產中特別關注靶材利用率、膜層均勻性、沉積速率及濺射過程穩定性等方面的問題，在磁控濺射鍍膜設備中，磁鋼只能單獨測量，磁鋼安裝好后，沒法有效的測量磁場的均勻性，因此會使等離子體產生局部収縮效應。

鍍膜玻璃的膜厚均勻性是鍍膜玻璃的非常重要的一個性能指標，它會直接影響到產品的外觀質量和使用效果。國家標準要求低輻射玻璃光學性能允許最大偏差為1.5%,當均勻性超過一定范圍時，肉眼即可從玻璃面感覺到色差。當前的建筑幕墻玻璃都是采用大面積鍍膜玻璃，在此控濺射中，約束金屬離子濺射區域磁場的均勻性直接影響著所鍍膜層的均勻性，因此保證磁場均勻性問題一直是工藝調試中十分重要而又令人頭疼的問題；目前國內很多生產設備的廠家只能利用量具測量單個磁鐵的磁場強度，裝配好后，不能很好的測量磁場的均勻性，進行調整和優化。

發明內容

為了解決現有技術中磁場強度分布不均勻,難以測量的缺陷,本發明提供一種磁場測量分析系統。

針對上述的技術問題，達到上述的技術目的，本發明提供一種磁場測量分析系統，其采用的技術方案為一種磁場測量分析系統，其包括機架裝置、安裝在機架裝置上端的橫向移動裝置，安裝在機架裝置上端且與橫向移動裝置“十”字交叉的縱向移動裝置，可隨橫向移動裝置左右移動和縱向移動裝置上下移動的霍爾探針，在橫向移動裝置上設有橫向刻度尺，在縱向移動裝置上設有縱向刻度尺。

本發明的優先實施方案是，在機架裝置的上端、霍爾探針下方位設有被測部件，所述被測部件通過定位裝置固定。

本發明的優先實施方案是，所述橫向移動裝置包括第一手輪、第一齒輪齒條，橫向直線導軌，所述霍爾探針可通過橫向直線導軌內導軌進行左、右移動，所述第一手輪轉動，帶動第一齒輪齒條運動，進一步帶動霍爾探針在橫向直線導軌內左、右移動。

本發明的優先實施方案是，所述橫向刻度尺安裝在橫向直線導軌的上，通過橫向刻度尺觀測到霍爾探針在橫向直線導軌的移動距離。

本發明的優先實施方案是，所述縱向移動裝置包括第二手輪、第二齒輪齒條，縱向直線導軌，所述霍爾探針測量機構通過其上的滑塊安裝在縱向直線導軌內，所述第二手輪轉動，帶動第二齒輪齒條運動，進一步帶動霍爾探針測量機構在縱向直線導軌內做上、下移動。

本發明的優先實施方案是，所述霍爾探針測量機構包括第一手輪、第一齒輪齒條、橫向直線導軌、霍爾探針、橫向刻度尺。

本發明的優先實施方案是，在機架裝置的頂端安裝有一個高斯儀，所屬高斯儀于霍爾探針測量裝置相連，通過高斯儀的數字現實屏，顯示采集各點的磁場強度。

本發明的優先實施方案是，所屬機架裝置的底端移動腳輪，所屬移動腳輪的下端還設有支撐板。

本發明的一種優先實施方案是， 在霍爾探針的上端還設有上下移動裝置，通過上下移動裝置可微調霍爾探針與被測部件上下之間的距離。

本發明的技術效果是，通過高斯儀上的霍爾探頭的霍爾效應對磁鐵表面分不同需要進行定點法進行磁場測量，采集不同點的磁場強度，并通過相應的軟件繪制出磁場的曲線圖，根據測量獲得的磁鋼排布的磁場均勻性，可用于磁鋼的安裝及調整，提高了磁場排布的均勻性。本發明具有測量過程方面快捷、測量結果精確、穩定可靠等特點。

附圖說明

附圖1為本發明的結構示意圖。

1-機架裝置；2-橫向移動裝置；3-縱向移動裝置；4-橫向刻度尺；5-縱向刻度尺；6-定位裝置；7-移動腳輪；8-支撐板；9-上下移動裝置；10-被測部件；11-第二手輪；12-第一手輪；13-霍爾探針；14-霍爾探針測量機構；15-第一齒輪；16-第二齒輪；17-高斯儀；19-橫向直線導軌；20-縱向直線導軌；21-位移感應器；100-霍爾探針測量裝置。

具體實施方式

為了更清楚的敘述本發明的技術方案,下面結合附圖對本發明做進一步的說明。

參照圖1所示，一種磁場測量分析系統包括機架裝置1，設置在機架裝置1上端的縱向移動裝置3和橫向移動裝置2，其中，縱向移動裝置3與橫向移動裝置2成“十”字交叉型。