[發(fā)明專利]加速待測(cè)物老化的方法及設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310719781.5 | 申請(qǐng)日: | 2013-12-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104729977A | 公開(公告)日: | 2015-06-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郭鐘亮;秦海巖 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 樂利士實(shí)業(yè)股份有限公司;北京鑒衡認(rèn)證中心有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N17/00 | 分類號(hào): | G01N17/00;H02S50/10 |
| 代理公司: | 北京戈程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11314 | 代理人: | 程偉;王剛 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 加速 待測(cè)物 老化 方法 設(shè)備 | ||
1.一種加速待測(cè)物老化的設(shè)備,用以縮短一待測(cè)物的測(cè)試時(shí)間,其特征在于,該設(shè)備包括:
一殼體,所述殼體內(nèi)定義出一容置空間;
一光源,所述光源位于該容置空間中,用以提供強(qiáng)度大于1000W/m2的光線;
一溫濕度控制裝置,所述溫濕度控制裝置連接至該殼體,用以控制該容置空間中的溫度及濕度;及
一散熱裝置,所述散熱裝置位于該容置空間內(nèi),用以降低該待測(cè)物的溫度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加速待測(cè)物老化的設(shè)備,其特征在于,所述散熱裝置還用以承載該待測(cè)物。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的加速待測(cè)物老化的設(shè)備,其特征在于,所述散熱裝置包括:
一承載平臺(tái),所述承載平臺(tái)具有多個(gè)透孔;
多個(gè)中空導(dǎo)管,所述多個(gè)中空導(dǎo)管位于該承載平臺(tái)的一表面,且連通所述透孔,其中所述中空導(dǎo)管彼此間隔一間隙,且面對(duì)該待測(cè)物;
至少一支撐裝置,所述至少一支撐裝置位于該中空導(dǎo)管上,用以支撐該待測(cè)物,使得該待測(cè)物與所述中空導(dǎo)管之間具有一距離;
一冷卻氣體提供裝置,所述冷卻氣體提供裝置提供一冷卻氣體穿過該承載平臺(tái)的所述透孔及所述中空導(dǎo)管至該待測(cè)物,以均勻冷卻該待測(cè)物。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的加速待測(cè)物老化的設(shè)備,其特征在于,所述散熱裝置還包括一測(cè)試架,所述測(cè)試架位于該容置空間中,所述測(cè)試架具有一封閉腔體及多個(gè)通風(fēng)孔,所述通風(fēng)口連通至該封閉腔體,該承載平臺(tái)位于該測(cè)試架上,且該承載平臺(tái)的所述透孔連通至該測(cè)試架的所述通風(fēng)孔,所述冷卻氣體提供裝置位于該測(cè)試架的一側(cè)邊,用以將該容置空間中的氣體導(dǎo)入所述測(cè)試架的封閉腔體。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加速待測(cè)物老化的設(shè)備,其特征在于,所述待測(cè)物為平板狀的光電元件。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加速待測(cè)物老化的設(shè)備,其特征在于,所述光源為單一發(fā)光體或多個(gè)發(fā)光體,所述光源提供強(qiáng)度為2400W/m2至3500W/m2的光線,且所述光線的光譜范圍為200nm至1300nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加速待測(cè)物老化的設(shè)備,其特征在于,所述待測(cè)物所受的光強(qiáng)度的非均勻性小于5%。
8.一種加速待測(cè)物老化的方法,用以縮短一待測(cè)物測(cè)試時(shí)間,該方法包括以下步驟:
a)提供一溫濕度可控的容置空間;
b)在該容置空間提供一光源,其中該光源是用以提供強(qiáng)度大于1000W/m2的光線;及
c)提供一散熱裝置以降低該待測(cè)物的溫度。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,所述步驟b)中,該光源提供強(qiáng)度為2400W/m2至3500W/m2的光線,該光線的光譜范圍為200nm至1300nm,且該待測(cè)物所受的光強(qiáng)度的非均勻性小于5%;所述步驟c)中該散熱裝置是以熱對(duì)流方式降低該待測(cè)物的溫度。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,還包括以下步驟:
d)在一第一期間持續(xù)提供該光線后關(guān)閉該光源;
e)在一第二期間持續(xù)停止提供該光線后再開啟該光源,且在該第二期間中降低該容置空間中的溫度及提高該容置空間中的濕度;及
f)反復(fù)依序進(jìn)行所述步驟d)及所述步驟e)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于樂利士實(shí)業(yè)股份有限公司;北京鑒衡認(rèn)證中心有限公司;,未經(jīng)樂利士實(shí)業(yè)股份有限公司;北京鑒衡認(rèn)證中心有限公司;許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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