[發明專利]一種高強耐磨涂料有效
| 申請號: | 201310718840.7 | 申請日: | 2013-12-23 |
| 公開(公告)號: | CN103773227A | 公開(公告)日: | 2014-05-07 |
| 發明(設計)人: | 朱恒橫;張國勝;梅長林 | 申請(專利權)人: | 安徽省金盾涂料有限責任公司 |
| 主分類號: | C09D183/04 | 分類號: | C09D183/04;C09D7/12 |
| 代理公司: | 合肥市長遠專利代理事務所(普通合伙) 34119 | 代理人: | 劉勇;楊靜 |
| 地址: | 239353 安徽*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高強 耐磨 涂料 | ||
技術領域
本發明涉及涂料技術領域,尤其涉及一種高強耐磨涂料。
背景技術
隨著現代科學技術的發展,人造衛星、宇宙飛船、高速列車、汽輪機和發動機的葉輪、艦船的螺旋槳、水輪發電機的葉片以及船舶的甲板、建筑物的地板、路標漆等,都受到高速氣流、砂石和水流的沖刷及機械力的作用,材料的磨損相當嚴重,為延長使用壽命,材料表面需要涂覆耐磨涂料,耐磨功能涂料是新型涂料領域中的核心,對現代涂料工業與技術的發展起著重要的推動和支撐作用。在全球現代涂料工業與技術的研究領域中,耐磨功能涂料占25-35%,已成為世界各國新型涂料領域研究發展的重點,目前隨著耐磨涂料應用領域不斷擴大,現有的耐磨涂料已經無法滿足需求,如何制備一種耐磨強度大,成本低,制備方法簡單的涂料成為目前需要解決的技術問題。
發明內容
本發明提出了一種高強耐磨涂料,可提高涂層的交聯度,增強涂層的耐擦傷強度,成本較低。
本發明提出的一種高強耐磨涂料,其原料按重量份包括:正硅酸乙酯20-30份,甲基三甲氧基硅烷15-25份,環烷酸鈣15-20份,二氧化硅溶膠3-5份,結晶氧化硅10-15份,石墨粉7-13份,輔料15-20份;其中,二氧化硅溶膠的粒徑為4-9nm,結晶氧化硅的粒徑為25-35μm,且二氧化硅溶膠與結晶氧化硅的重量比為2:(5-6),正硅酸乙酯與甲基三甲氧基硅烷的重量比為(1-2):1。
在具體實施例中,正硅酸乙酯的重量份可以為20、21、22、23、25、26、27、29、30,甲基三甲氧基硅烷的重量份可以為15、16、18、19、20、21、21.3、22、23、25,環烷酸鈣的重量份可以為15、16、16.8、17、18、18.6、19、19.3、20,二氧化硅溶膠的重量份可以為3、3.5、4、4.5、4.6、4.7、4.8、5,結晶氧化硅的重量份可以為10、10.6、11、11.8、12、12.6、13、13.4、14、15,石墨粉的重量份可以為7、8、8.5、9、9.8、10.6、11、11.6、12、13,輔料的重量份可以為15、15.6、16、16.3、17、17.5、18.6、19、20。
在具體實施例中,二氧化硅溶膠與結晶氧化硅的重量比可以為2:5、2:5.3、2:6,正硅酸乙酯與甲基三甲氧基硅烷的重量比可以為1:1、1.8:1、2:1。
優選地,輔料由三氧雜環已烷、雙乙酰丙酮及水組成。
優選地,石墨粉為天然鱗片石墨、高定向熱解石墨、3-9μm石墨粒子及拉絲石墨的一種或多種組成。
優選地,其原料按重量份包括:正硅酸乙酯21-25份,甲基三甲氧基硅烷19-23份,環烷酸鈣16-19份,二氧化硅溶膠4-5份,結晶氧化硅11-13份,石墨粉8-12份,輔料15-17份。
優選地,其原料按重量份包括:正硅酸乙酯22份,甲基三甲氧基硅烷20份,環烷酸鈣17份,二氧化硅溶膠5份,結晶氧化硅11份,石墨粉9份,輔料16份。
本發明中,所述高強耐磨涂料的基材為正硅酸乙酯與甲基三甲氧基硅烷,兩者混合使用可顯著增強涂料的耐磨性能,甲基三甲氧基硅烷水解后經脫水可形成高度交聯的硬質網絡,耐磨性能優異,因與Si直接相連的有機基團R的存在,可大大增加涂層的柔韌性,減少應力開裂,提高涂層與基底的粘結強度,二氧化硅溶膠一方面可以提高涂層的粘度得到較厚的膜層,另一方面由于本身為無機物質,可以增加膜層的耐磨損耗,結晶氧化硅、石墨粉的耐摩擦性能好,兩者與環烷酸鈣及二氧化硅溶膠共同作用,可在顯著提高高強耐磨涂料與基底的附著性能的前提下,大大增強涂料的耐摩擦性能,本發明中,所述高強耐磨涂料的耐摩擦性能優異,與基底的附著性能好,成本較低。
具體實施方式
實施例1
一種高強耐磨涂料,其原料按重量份包括:正硅酸乙酯21份,甲基三甲氧基硅烷21份,環烷酸鈣16份,二氧化硅溶膠4.8份,結晶氧化硅12份,石墨粉12份,輔料15份;其中,二氧化硅溶膠的粒徑為4-9nm,結晶氧化硅的粒徑為25-35μm,輔料由三氧雜環已烷、雙乙酰丙酮及水組成,石墨粉由天然鱗片石墨與高定向熱解石墨組成。
實施例2
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C09D183-16 .其中所有的硅原子與氧以外的原子連接





