[發明專利]化學氣相沉積設備的工件裝卡工具

無效

• 申請號: 201310718256.1
• 申請日: 2013-12-24
• 公開（公告）號: CN103726031A
• 公開（公告）日: 2014-04-16
• 發明（設計）人: 胡恒寧;周彤;李洪林;曾祥才;吳春濤;薛峰;李波
• 申請（專利權）人: 成都工具研究所有限公司
• 主分類號: C23C16/458
• 分類號: C23C16/458
• 代理公司: 成都立信專利事務所有限公司 51100
• 代理人: 馮忠亮

技術領域：

本發明與化學氣相沉積設備的工裝器具有關。

背景技術：

????化學氣相沉積（chemical?vapor?deposition簡稱CVD）是一種化學氣相反應生長法。在不同的溫度場和真空度下，將幾種含有構成涂層材料元素的化合物或單質反應源氣體，通入放有被處理工件的反應爐中，在工件表面生成均勻一致的涂層，使涂層后的工件具有耐磨損、韌度高、化學穩定性能好等優異復合性能，使用壽命提高了1到10倍，甚至幾十倍，滿足了不同條件下對工件使用性能的需求。

????目前，用于CVD設備的工件裝卡工具是使用一種有帶有一定數量通孔的舟皿，將需要涂層的工件插入通孔或者平行擺放于舟皿上，由多個舟皿垂直層疊于CVD設備的反應爐內來達到批量涂層的目的。此方法的缺點是：通孔的大小限制了裝卡工件的大小；由于平行擺放于舟皿上的工件與舟皿屬于面接觸，所以接觸面的接觸痕跡明顯，與其余表面的涂層厚度不同、顏色不一致，特別是在工件體積較大的情況下，工件遮擋的通孔數量增加，阻礙了反應爐內氣體的流動，造成反應爐內氣體分布不均，導致反應爐內各工件的涂層厚度和顏色不均勻。

發明內容：

本發明的目的是提供兩種使CVD設備的可涂層工件范圍擴大，減輕工件與裝卡工具的接觸痕跡，促進反應爐內氣體流動，使涂層后各工件的厚度和顏色均勻的化學氣相沉積設備的工件裝卡工具。

本發明是這樣實現的：

本發明由正棱錐體或圓錐體與同軸的位于正棱錐體或圓錐體下面的柱體組成，柱體的直徑小于舟皿的孔徑和正棱錐體下面正多邊形的軸長或圓錐體下面圓的直徑。

本發明由金屬陶瓷或石墨或鉬或不銹鋼或硬質合金制成。所述正棱錐體為正五棱錐體或正四棱錐體或正三棱錐體。

本發明為底面為長方形的等腰楔形體，楔形體的頂部為鋸齒形，鋸齒齒尖截面為等腰或等邊三角形，鋸齒其它部分截面為等腰梯形。等腰楔形體至少為兩個。本發明的鋸齒齒尖為2—20個，由金屬陶瓷或石墨或鉬或不銹鋼或硬質合金制成。

本發明以現有CVD設備涂層的工件裝卡工具為基礎，增加了兩種結構和用法簡單的裝卡工具A和B，根據需涂層工件的具體情況（如需涂層工件的體積、形狀等）選擇合適的裝卡工具，使CVD設備的可涂層工件范圍擴大，減輕工件與裝卡工具的接觸痕跡，促進反應爐內氣體流動，使涂層后各工件的厚度和顏色均勻。

附圖說明：

圖1為棱錐形裝卡工具圖。

圖2為等腰楔形體裝卡工具圖。

圖3為棱錐形裝卡工具轉卡工件后的實例圖。

圖4為棱錐形裝卡工具轉卡工件后的縱剖面圖。

圖5為等腰楔形體裝卡工具轉卡工件后的實例圖。

圖6為等腰楔形體裝卡工具轉卡工件后的Z向視圖。

具體實施方式：

本發明為CVD設備的工件裝卡工具，由正四棱錐體或圓錐體與同軸的位于正棱錐體或圓錐體下面的柱體組成，柱體的直徑小于舟皿的孔徑和正棱錐體下面正多邊形的軸長或圓錐體下面圓的直徑。

正四棱錐形裝卡工具A由支撐頭1和固定腳2組成，支撐頭1的形狀是正四棱錐或圓錐，固定腳2的形狀是圓柱；對于有中心孔且不能插入舟皿通孔的工件，將裝卡工具A的固定腳2插入舟皿C的通孔T，帶中心孔3的工件D套入支撐頭1，裝卡后工件D的下表面應調整至與舟皿C平行，工件D與裝卡工具A只有a、b、c、d四個微小的接觸點，將接觸面變為接觸點，減輕了工件與裝卡工具接觸面的接觸痕跡明顯的問題，同時由于裝卡工具A與工件D之間的空隙和工件D與舟皿C之間的空隙可以促進反應爐內的氣體流動，使反應爐內的氣體分布均勻，所以工件涂層后的厚度和顏色均勻。中心孔是圓形或橢圓形的工件使用支撐頭1為正四棱錐的裝卡工具，中心孔是多邊形的工件使用支撐頭1為圓錐的裝卡工具，多邊形與圓錐截面的接觸屬于點接觸，工件與裝卡工具之間同樣有空隙來促進反應爐內的氣體流動。

CVD設備需要將反應爐包括爐內的工件和裝卡工具加熱至800到1100℃，所以舟皿C以及本發明裝卡工具A均使用耐高溫材料制造，如金屬陶瓷、石墨、鉬、不銹鋼和硬質合金。

實施例2：

裝卡工具為底面為長方形的等腰楔形體，楔形體的頂部為鋸齒形，鋸齒齒尖截面為等腰或等邊三角形，鋸齒其它部分截面為等腰梯形。等腰楔形體至少為兩個。

鋸齒齒尖為2—20個，由金屬陶瓷或石墨或鉬或不銹鋼或硬質合金制成。