[發明專利]平面反射陣天線設計方法有效
| 申請號: | 201310717827.X | 申請日: | 2013-12-24 |
| 公開(公告)號: | CN103646151B | 公開(公告)日: | 2017-01-04 |
| 發明(設計)人: | 余劍鋒;陳蕾;劉淑芳;陳陽;鐘顯江;史小衛 | 申請(專利權)人: | 西安電子科技大學 |
| 主分類號: | G06F17/50 | 分類號: | G06F17/50;H01Q15/14;H01Q19/10;H01Q21/00 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司11205 | 代理人: | 劉芳 |
| 地址: | 710071 陜*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 平面 反射 天線 設計 方法 | ||
1.一種平面反射陣天線設計方法,其特征在于,包括:
建立陣列單元模型,所述陣列單元模型的極化方式為圓極化、諧振頻率滿足設計要求并且主極化反射波與交叉極化反射波的相位相差180度;
建立初始平面反射陣天線模型,所述初始平面反射陣天線模型中包括M×N個所述陣列單元模型,且M>2、N>2;
根據所述平面反射陣天線的入射激勵波計算所述初始平面反射陣天線模型的方向圖,所述初始平面反射陣天線模型的方向圖中單元方向圖為所述陣列單元模型的方向圖;
通過交集算法對所述初始平面反射陣天線模型的方向圖進行優化,以使所述初始平面反射陣天線模型的優化后的方向圖滿足設計要求;
根據所述初始平面反射陣天線模型的優化后的方向圖獲取所述初始平面反射陣天線模型中每一陣列天線單元模型的激勵補償相位;
根據所述初始平面反射陣天線模型中每一陣列天線單元模型的激勵補償相位調整所述初始平面反射陣天線模型中每一陣列天線單元模型的相位,得到平面反射陣天線設計結果。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據所述平面反射陣天線的入射激勵波計算所述初始平面反射陣天線模型的方向圖,所述初始平面反射陣天線模型的方向圖中單元方向圖為所述陣列單元模型的方向圖之前,還包括:
將所述平面反射陣天線口面上的球面入射激勵波轉換為所述平面反射陣天線陣列平面上的線極化入射激勵波。
3.根據權利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述通過交集算法對所述初始平面反射陣天線模型的方向圖進行優化,以使所述初始平面反射陣天線模型的優化后的方向圖滿足設計要求,包括:
通過交集算法僅對所述初始平面反射陣天線模型方向圖的陣因子進行優化,以使所述初始平面反射陣天線模型的優化后的方向圖滿足設計要求。
4.根據權利要求3所述的方法,其特征在于,所述通過交集算法僅對所述初始平面反射陣天線模型方向圖的陣因子進行優化,以使所述初始平面反射陣天線模型的優化后的方向圖滿足設計要求,包括:
對所述初始平面反射陣天線模型的方向圖乘以縮放因子并進行迭代優化,在迭代優化過程中逐漸增大所述縮放因子,直至所述縮放因子等于1,得到所述初始平面反射陣天線模型的優化后的方向圖,所述縮放因子小于等于1。
5.根據權利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述根據所述初始平面反射陣天線模型中每一陣列天線單元模型的激勵補償相位調整所述初始平面反射陣天線模型中每一陣列天線單元模型的相位,得到平面反射陣天線設計結果,包括:
將所述初始平面反射陣天線模型中每一陣列天線單元模型的激勵補償相位減去所述平面反射陣天線的入射激勵波到達所述初始平面反射陣天線模型中每一陣列天線單元模型的相位后除以2,得到所述初始平面反射陣天線模型中每一陣列天線單元模型的單元旋轉角;
將所述初始平面反射陣天線模型中每一陣列天線單元模型旋轉所述單元旋轉角,得到所述平面反射陣天線設計結果。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于西安電子科技大學,未經西安電子科技大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310717827.X/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:液壓竹蔸拉馬
- 下一篇:具有關閉組件的濾水系統殼體及濾水系統





