[發(fā)明專利]一種非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)、方法和光刻機(jī)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310716930.2
• 申請(qǐng)日: 2013-12-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103631098A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-03-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊若夫;敖明武
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 成都虹博宇光電科技有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/207
• 分類號(hào): G03F7/207
• 代理公司: 四川力久律師事務(wù)所 51221
• 代理人: 林輝輪;王蕓

1.一種非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)，其特征在于，包括：

至少三個(gè)光譜共焦位移傳感器，用于采集光刻機(jī)的掩膜版下表面與位于光刻機(jī)上的樣片表面的光刻膠層的上表面之間的間隙距離數(shù)據(jù)；

信號(hào)處理電路，用于根據(jù)所述光譜共焦位移傳感器采集的所述間隙距離數(shù)據(jù)計(jì)算處理，輸出控制信號(hào)到光刻機(jī)的承片機(jī)構(gòu)和升降機(jī)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)對(duì)樣片的調(diào)平與調(diào)焦控制，使樣片表面的光刻膠層的上表面與所述掩膜版的下表面之間的間隙距離保持在預(yù)定工作距離內(nèi)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)，其特征在于，所述承片機(jī)構(gòu)包括用于安裝樣片的承片臺(tái)、分別連接在所述承片臺(tái)下方左右兩側(cè)用于對(duì)所述承片臺(tái)進(jìn)行二維傾斜調(diào)整實(shí)現(xiàn)調(diào)平控制的傾斜控制電機(jī)，所述傾斜控制電機(jī)通過(guò)電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制單元與所述信號(hào)處理電路電連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)，其特征在于，所述傾斜控制電機(jī)為伺服電機(jī)、步進(jìn)電機(jī)或壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)，其特征在于，所述升降機(jī)構(gòu)包括連接于所述承片機(jī)構(gòu)下方的升降臺(tái)、設(shè)置在所述升降臺(tái)下方用于控制升降臺(tái)高度從而調(diào)整所述承片機(jī)構(gòu)的高度實(shí)現(xiàn)調(diào)焦控制的升降控制電機(jī)，所述升降控制電機(jī)通過(guò)電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制單元與所述信號(hào)處理電路連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)，其特征在于，所述升降控制電機(jī)為伺服電機(jī)、步進(jìn)電機(jī)或壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)，其特征在于，所述光譜共焦位移傳感器通過(guò)光纖信號(hào)輸出線連接位移信號(hào)采集模塊，所述位移信號(hào)采集模塊與所述信號(hào)處理電路電連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)，其特征在于，所述光譜共焦位移傳感器為3個(gè)，3個(gè)光譜共焦位移傳感器位于所述掩膜版的上方且在同一平面呈三角形分布。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)，其特征在于，所述光譜共焦位移傳感器為4個(gè)，4個(gè)光譜共焦位移傳感器位于所述掩膜版的上方且呈在同一平面呈四邊形分布。

9.一種非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟一、采用至少三個(gè)光譜共焦位移傳感器采集光刻機(jī)的掩膜版下表面與位于光刻機(jī)上的樣片表面的光刻膠層的上表面之間的間隙距離數(shù)據(jù)；

步驟二、根據(jù)所述光譜共焦位移傳感器輸出的間隙距離數(shù)據(jù)計(jì)算處理后輸出控制信號(hào)到光刻機(jī)的承片機(jī)構(gòu)和升降機(jī)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)對(duì)樣片的調(diào)平與調(diào)焦控制，使樣片表面的光刻膠層的上表面與掩膜版的下表面之間的間隙距離保持在預(yù)定工作距離內(nèi)。

10.一種非接觸式光刻機(jī)，其特征在于，包括權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)。