[發明專利]一種納米級光柵的制備方法無效
| 申請號： | 201310716503.4 | 申請日： | 2013-12-13 |
| 公開（公告）號： | CN103645533A | 公開（公告）日： | 2014-03-19 |
| 發明（設計）人： | 孟現柱;王明紅;張黎明;任忠民 | 申請（專利權）人： | 聊城大學 |
| 主分類號： | G02B5/18 | 分類號： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 252059*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 納米 光柵 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種納米級光柵，其特征在于：光柵的亮條紋和暗條紋由多層膜各層薄膜材料的橫截面構成，其中亮條紋為多層膜中反光材料薄膜的橫截面，能夠反射特定波長的光波，暗條紋為多層膜中透光材料(或吸光材料)薄膜的橫截面，能夠透射(或吸收)特定波長的光波。
2.根據權利要求1所述的納米級光柵，其特征在于：所述光柵由多層膜各層薄膜材料的橫截面構成。
3.一種納米級光柵制備方法，其特征在于：首先利用多層膜制備技術，由反光材料和透光材料(或吸光材料)交替沉積形成一定厚度的多層膜，然后垂直于多層膜中各層薄膜對多層膜進行切割得到平面反射光柵，其中多層膜中反光材料薄膜和透光材料(或吸光材料)薄膜的橫截面分別構成光柵的亮條紋和暗條紋。
4.根據權利要求3所述的納米級光柵制備方法，其特征在于：所述光柵為對多層膜進行切割得到。
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