[發(fā)明專(zhuān)利]用于七根硅芯生產(chǎn)帶葫蘆形拉制孔的高頻感應(yīng)線圈裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310714247.5 | 申請(qǐng)日: | 2013-12-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104726929A | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-06-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉劍 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 劉劍 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C30B13/20 | 分類(lèi)號(hào): | C30B13/20 |
| 代理公司: | 無(wú) | 代理人: | 無(wú) |
| 地址: | 332000 *** | 國(guó)省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 七根硅芯 生產(chǎn) 葫蘆 拉制 高頻 感應(yīng) 線圈 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及硅芯區(qū)熔法拉制設(shè)備技術(shù),尤其涉及一種用于七根硅芯生產(chǎn)帶葫蘆形拉制孔的高頻感應(yīng)線圈裝置。
背景技術(shù)
區(qū)熔硅單晶是制作各種探測(cè)器、傳感器的關(guān)鍵原材料,其市場(chǎng)增長(zhǎng)趨勢(shì)也很明顯。采用高阻區(qū)熔硅制造微波單片集成電路以及微電子機(jī)械系統(tǒng)等高端微電子器件,顯示出巨大的應(yīng)用前景。硅芯的拉制例如區(qū)熔法分為兩種:水平區(qū)熔法和立式懸浮區(qū)熔法,前者主要用于鍺、砷化鎵等材料的提純和單晶生長(zhǎng),后者主要用于硅,這是由于硅熔體的溫度高,化學(xué)性能活潑,容易受到異物的玷污,難以找到適合的舟皿,不能采用水平區(qū)熔法。再如,懸浮區(qū)熔法是在真空的爐室中,利用高頻線圈在單晶籽晶和其上方懸掛的多晶硅棒的接觸處產(chǎn)生熔區(qū),然后使熔區(qū)向上移動(dòng)進(jìn)行單晶生長(zhǎng),由于硅熔體完全依靠其表面張力和高頻電磁力的支托,懸浮于多晶棒與單晶之間,故稱(chēng)為懸浮區(qū)熔法。
隨著全球?qū)G色能源的共識(shí),光伏產(chǎn)業(yè)得以迅猛發(fā)展,作為光伏產(chǎn)業(yè)鏈條中的上游產(chǎn)品,多晶硅供不應(yīng)求,國(guó)內(nèi)外有實(shí)力的商業(yè)巨頭紛紛投入巨資介入多晶硅行業(yè),發(fā)展規(guī)模越來(lái)越大,硅芯爐是多晶硅生產(chǎn)鏈條上的一個(gè)重要環(huán)節(jié),需求也越來(lái)越大。目前大量使用的硅芯爐,一次只能拉制一根硅芯,一爐次只能拉制4-6根硅芯,面對(duì)巨量的市場(chǎng)需求,需要投入大量的硅芯爐進(jìn)行生產(chǎn),設(shè)備占地面積越來(lái)越大,人力、物力及能源消耗巨大,而能源消耗也已成為多晶硅生產(chǎn)廠家的考量指標(biāo)之一,因此,從提高設(shè)備效率,節(jié)能降耗,節(jié)約成本方面考慮,很有必要研發(fā)性能更為卓越的硅芯設(shè)備。因此,針對(duì)以上方面,需要對(duì)現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行有效創(chuàng)新。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)以上缺陷,本發(fā)明提供一種結(jié)構(gòu)穩(wěn)固、有利于節(jié)約生產(chǎn)成本、可使硅芯區(qū)熔法拉制更加穩(wěn)定、有利于最大限度提高單機(jī)產(chǎn)能的用于七根硅芯生產(chǎn)帶葫蘆形拉制孔的高頻感應(yīng)線圈裝置,以解決現(xiàn)有技術(shù)的諸多不足。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
一種用于七根硅芯生產(chǎn)帶葫蘆形拉制孔的高頻感應(yīng)線圈裝置,包括開(kāi)式聚流環(huán)、進(jìn)水管、出水管、陰極連接法蘭、陽(yáng)極連接法蘭、接地連接片,所述開(kāi)式聚流環(huán)為端部開(kāi)口的圓柱體結(jié)構(gòu)并且位于此圓柱體頂部安裝接地連接片,位于此開(kāi)式聚流環(huán)的上端面中心區(qū)域設(shè)有向內(nèi)凹陷的聚流環(huán)圓錐面,位于開(kāi)式聚流環(huán)的下端面中心區(qū)域由內(nèi)向外依次設(shè)有三個(gè)環(huán)形化料臺(tái)階,即中心化料臺(tái)階、外圓化料臺(tái)階一和外圓化料臺(tái)階二;
在開(kāi)式聚流環(huán)的中心化料臺(tái)階位置處設(shè)置中心化料孔,在中心化料孔外部的開(kāi)式聚流環(huán)內(nèi)環(huán)繞分布七個(gè)葫蘆形拉制孔,每?jī)蓚€(gè)相鄰的葫蘆形拉制孔之間帶有一個(gè)磁場(chǎng)分割線,從而形成自中心化料孔向外圍的放射式結(jié)構(gòu);
同時(shí),位于七個(gè)葫蘆形拉制孔的外緣設(shè)置菱形的通水槽,位于此通水槽兩個(gè)外端依次分別開(kāi)設(shè)進(jìn)水管、出水管,此進(jìn)水管和出水管外端依次分別連接陰極法蘭和陽(yáng)極連接法蘭。
此外,所述中心化料孔外邊沿處帶有化料孔圓錐面,每個(gè)葫蘆形拉制孔外邊沿處帶有拉制孔圓錐面,所述葫蘆形拉制孔由外圓孔與內(nèi)圓孔組成,外圓孔與內(nèi)圓孔相交處設(shè)置圓弧過(guò)渡面;每個(gè)火柴形磁場(chǎng)分割線的外端分別設(shè)有圓弧形的孔。
所述開(kāi)式聚流環(huán)外緣面通過(guò)氬弧紫銅焊接通水槽,使通水槽與開(kāi)式聚流環(huán)形成一體,所述陰極連接法蘭與陽(yáng)極連接法蘭為菱形或半圓形,位于接地連接片外部連接接地裝置。
本發(fā)明所述的用于七根硅芯生產(chǎn)帶葫蘆形拉制孔的高頻感應(yīng)線圈裝置的有益效果為:該高頻感應(yīng)線圈裝置結(jié)構(gòu)穩(wěn)固,可使硅芯區(qū)熔法拉制更加穩(wěn)定、有利于最大限度提高單機(jī)產(chǎn)能,大大提高了硅芯的生產(chǎn)效率,降低了單根硅芯的能耗,減少了人力與物力的投入,從而降低了多晶硅生產(chǎn)過(guò)程的成本。
附圖說(shuō)明
下面根據(jù)附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
圖1是本發(fā)明實(shí)施例所述用于七根硅芯生產(chǎn)帶葫蘆形拉制孔的高頻感應(yīng)線圈裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是本發(fā)明實(shí)施例所述用于七根硅芯生產(chǎn)帶葫蘆形拉制孔的高頻感應(yīng)線圈裝置的側(cè)面剖視圖;
圖3是本發(fā)明實(shí)施例所述用于七根硅芯生產(chǎn)帶葫蘆形拉制孔的高頻感應(yīng)線圈裝置的下端面部分化料臺(tái)階部分示意圖。
圖中:
1、開(kāi)式聚流環(huán);2、進(jìn)水管;3、出水管;4、陰極連接法蘭;5、陽(yáng)極連接法蘭;6、接地連接片;7、葫蘆形拉制孔;8、拉制孔圓錐面;9、磁場(chǎng)分割線;10、聚流環(huán)圓錐面;11、中心化料孔;12、化料孔圓錐面;13、通水槽;14、外圓化料臺(tái)階一;15、外圓化料臺(tái)階二。
具體實(shí)施方式
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