[發明專利]至少包含銦和鎵的氧化物的蝕刻液以及蝕刻方法有效
| 申請號： | 201310713080.0 | 申請日： | 2013-12-20 |
| 公開（公告）號： | CN103911159B | 公開（公告）日： | 2019-09-27 |
| 發明（設計）人： | 竹內秀范;夕部邦夫;岡部哲;臼井麻里 | 申請（專利權）人： | 三菱瓦斯化學株式會社 |
| 主分類號： | C09K13/06 | 分類號： | C09K13/06;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 劉新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 至少 包含 氧化物 蝕刻 以及 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種蝕刻液，其為用于蝕刻至少包含銦和鎵的氧化物的蝕刻液，包含硫酸或其鹽、以及除了草酸以外的羧酸或其鹽，所述蝕刻液的pH值為0.4以下，其中，除了草酸以外的羧酸或其鹽為選自由乙醇酸、乳酸、丙二酸、馬來酸、琥珀酸、蘋果酸、酒石酸以及檸檬酸所組成的組的一種以上。
2.根據權利要求1所述的蝕刻液，其特征在于，硫酸或其鹽的濃度為0.5～20質量％、羧酸或其鹽的濃度為0.1～15質量％。
3.根據權利要求1或2所述的蝕刻液，其進而包含pH調節劑。
4.根據權利要求3所述的蝕刻液，其中，pH調節劑為選自由甲磺酸和氨基磺酸所組成的組的一種以上。
5.根據權利要求1或2所述的蝕刻液，其中，進而包含多磺酸化合物。
6.根據權利要求5所述的蝕刻液，其特征在于，多磺酸化合物為選自由萘磺酸甲醛縮合物及其鹽、聚氧乙烯烷基醚硫酸鹽、以及聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸鹽所組成的組的一種以上。
7.根據權利要求1或2所述的蝕刻液，其中，氧化物為膜厚1～1000nm的薄膜。
8.一種至少包含銦和鎵的氧化物的蝕刻方法，其特征在于，使用權利要求1～6的任一項所述的蝕刻液。
9.根據權利要求8所述的蝕刻方法，其中，氧化物為膜厚1～1000nm的薄膜。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于三菱瓦斯化學株式會社，未經三菱瓦斯化學株式會社許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310713080.0/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種MMORPG網絡游戲的服務器架構方法
- 下一篇：一種虛擬場景網絡健身單車
