[發(fā)明專利]一種陰圖免處理平印版

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310710843.6
• 申請(qǐng)日: 2013-12-19
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104730865B
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-11-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊青海;張剛;宋小偉;吳兆陽(yáng);黃文明;劉東黎;吳俊君;劉紅來(lái)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 樂(lè)凱華光印刷科技有限公司;北京航天創(chuàng)新專利投資中心(有限合伙)
• 主分類號(hào): G03F7/09
• 分類號(hào): G03F7/09;G03F7/004;G03F7/033
• 代理公司: 鄭州中原專利事務(wù)所有限公司 41109
• 代理人: 霍彥偉;王曉麗

1.一種陰圖免處理平印版，包含版基、版基之上的成像層和成像層之上的保護(hù)層，其特征在于：所述成像層包含聚合物粘結(jié)劑、成像曝光時(shí)能夠引發(fā)聚合/交聯(lián)的引發(fā)體系以及可聚合/交聯(lián)的組分，聚合/交聯(lián)的組分包含納米SiO₂/聚氨酯丙烯酸預(yù)聚物；納米SiO₂/聚氨酯丙烯酸預(yù)聚物是由納米SiO₂和異佛爾酮二異氰酸酯、聚丙二醇以及丙烯酸羥乙酯經(jīng)過(guò)原位聚合得到的納米SiO₂/聚氨酯丙烯酸酯預(yù)聚物，占成像層中固體總重量的10－50%，其中，納米Si0₂/聚氨酯丙烯酸預(yù)聚物中納米SiO₂的質(zhì)量百分比為0. 5-5%，納米SiO₂的平均粒徑為10-100nm；保護(hù)層重為0. 2-2. 0g/m²；版基是經(jīng)過(guò)電解粗化和陽(yáng)極氧化并進(jìn)行封孔處理后的鋁版基，其中心線平均粗度為0. 4-0. 5um。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陰圖免處理平印版，其特征在于：其中納米SiO₂含有表面羥基。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陰圖免處理平印版，其特征在于：其中聚合物粘合劑有如下結(jié)構(gòu)(A):

占成像層中固體總重量的10－50%。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的陰圖免處理平印版，其特征在于：其中成像曝光時(shí)能夠引發(fā)聚合/交聯(lián)的引發(fā)體系含有成像曝光時(shí)能產(chǎn)生足以引發(fā)聚合反應(yīng)的自由基引發(fā)劑，占成像層中固體總重量的1－10%。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的陰圖免處理平印版，其特征在于：其中成像曝光時(shí)能夠引發(fā)聚合/交聯(lián)的引發(fā)體系還含有選自碘鎓鹽、硫鎓鹽、磷鎓鹽、硒鎓鹽中的一種或多種，占成像層中固體總重量的1－10%。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陰圖免處理平印版，其特征在于：其中成像曝光時(shí)能夠引發(fā)聚合/交聯(lián)的引發(fā)體系還含有一種吸收在750-850nm的菁染料，占成像層中固體總重量的1－20%。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陰圖免處理平印版，其特征在于：其中保護(hù)層含有聚乙烯醇和含氟非離子型表面活性劑。

8.根據(jù)權(quán)利要求1－7任一項(xiàng)所述的陰圖免處理平印版，其特征在于：其中平印版的版基封孔處理使用的溶液是含有氟離子和磷酸鹽的水溶液。