[發明專利]用于具有凹槽和錐度的分散機盤的齒

無效

• 申請號: 201310706284.1
• 申請日: 2013-12-19
• 公開（公告）號: CN103898792A
• 公開（公告）日: 2014-07-02
• 發明（設計）人: 伊斯莫·伊哈萊恩
• 申請（專利權）人: 安德里茲有限公司
• 主分類號: D21C9/08
• 分類號: D21C9/08
• 代理公司: 北京金信立方知識產權代理有限公司 11225
• 代理人: 黃威

1.用于從纖維原料上移除污物的分散機盤段，其包括：

徑向的內緣和外緣；

多個徑向的同心齒排；

每個齒排具有限定分布在齒中間的多個通道的多個齒；

每個通道具有一個下方的通道基部表面，且每個齒包括：

頂部表面，

至少一個從通道基部表面延伸到頂部表面的正表面；和

其中，所述至少一個正表面包括至少兩個凹槽。

2.根據權利要求1所述的分散機盤段，其中，凹槽中至少一個從頂部表面延伸到或基本到通道基部表面。

3.根據權利要求1所述的分散機盤段，其中，凹槽中至少一個具有比至少一個齒的頂部表面低的最高端。

4.根據權利要求1所述的分散機盤段，其中，凹槽中至少一個具有在至少一個齒的頂部表面和通道基部表面中間的最低端。

5.根據權利要求1所述的分散機盤段，其中，凹槽中至少一個的寬度不同于正表面上其他凹槽的寬度。

6.根據權利要求1所述的分散機盤段，其中，凹槽中至少一個的寬度沿長度變化，使長度在正表面上向外形成錐度。

7.根據權利要求1所述的分散機盤段，其中，凹槽中至少一個的深度沿長度變化，使長度向正表面內形成錐度。

8.用于從纖維原料上移除污物的分散機盤段，其包括：

徑向的內緣和外緣以及多個徑向的同心齒排；

每個齒排具有限定分布在齒中間的多個通道的多個齒；

每個通道具有一個下方的通道基部表面，且每個齒包括：

頂部表面，

至少一個從通道基部表面延伸到頂部表面的正表面，所述至少一個正表面限定了相對于正表面的垂直軸成角度θ的至少兩個凹槽。

9.根據權利要求8所述的分散機盤段，其中，角度θ在大約5度到大約60度之間。

10.根據權利要求8所述的分散機盤段，其中，正表面上凹槽的至少一個的長度不同于該正表面上其他凹槽的長度。

11.根據權利要求8所述的分散機盤段，其中，正表面上凹槽的至少一個的寬度不同于該正表面上其他凹槽的寬度。

12.根據權利要求8所述的分散機盤段，其中，凹槽的至少一個的寬度沿長度變化，使該凹槽延伸過正表面時長度向外形成錐度。

13.根據權利要求8所述的分散機盤段，其中，凹槽的至少一個的深度沿長度變化，使該凹槽朝通道基部表面延伸過正表面時長度向內形成錐度。

14.分散機盤，包括：

多個徑向同心齒排，其中每個齒排構造成嚙合在相對盤上的齒排之間；

徑向同心齒排的相鄰齒限定了相鄰齒之間的通道，其中每個通道與相對盤上對應齒排對齊，且

多個凹槽在至少一個同心排上的每個齒的正表面上。

15.根據權利要求14所述的分散機盤，其中，分散機盤被分割成盤段。

16.根據權利要求14所述的分散機盤，其中，在徑向同心齒排的至少一排上的每個齒具有上表面和從一個通道延伸到各自齒的頂部表面的凹槽。

17.根據權利要求14所述的分散機盤，其中，每個齒上的至少一個凹槽的深度沿該凹槽長度變化。

18.根據權利要求14所述的分散機盤，其中，凹槽的至少一個部分沿齒的高度延伸。

19.根據權利要求14所述的分散機盤，其中，凹槽是平行的。

20.根據權利要求14所述的分散機盤，其中，凹槽傾斜于盤旋轉的平面。

21.根據權利要求14所述的分散機盤，其中，每個齒上的至少一個凹槽的寬度不同于該齒上其他一個凹槽的寬度。