[發(fā)明專利]鋰離子電池負極集流體材料及制備方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310706139.3 | 申請日: | 2013-12-19 |
| 公開(公告)號: | CN103647085A | 公開(公告)日: | 2014-03-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 關(guān)成善;宗繼月;李濤;賈傳龍;劉艷輝 | 申請(專利權(quán))人: | 山東精工電子科技有限公司 |
| 主分類號: | H01M4/66 | 分類號: | H01M4/66;C23C14/35;C23C14/06 |
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| 地址: | 277800 山東省棗莊*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 鋰離子電池 負極 流體 材料 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種負極集流體材料及制備方法,尤其涉及一種鋰離子電池負極集流體材料及制備方法。
背景技術(shù)
目前,在鋰離子電池負極集流體材料主要使用銅箔,銅箔具有良好的導電性能,但在電池實際工作過程中,銅箔作為負極集流體存在缺陷:1)金屬銅箔表面易被氧化,影響其導電性,影響負極漿料與銅箔的粘結(jié)性能;2)電池在使用過程中,金屬銅箔表面很容易生長單質(zhì)鋰晶枝,這使電池的安全性能減低,使用壽命縮短,從而在動力電池領(lǐng)域的應(yīng)用得到限制。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種能夠提高電池的安全性能,減小電池的內(nèi)阻,提高電池使用壽命的鋰離子電池負極集流體材料。
??本發(fā)明的另一目的是提供一種鋰離子電池負極集流體材料的制備方法。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案為:一種鋰離子電池負極集流體材料,包括金屬銅箔,其特征是:金屬銅箔表面覆有碳化硅層,碳化硅層厚度是0.003-0.009mm。
一種鋰離子電池負極集流體材料的制備方法,采用物理氣相沉積方法中的射頻磁控濺射工藝制備材料,其工藝條件為:以碳化硅為濺射靶,金屬銅箔為濺射基材,通入氬氣,射頻電源頻率為30-50MHz,?加速電壓為300-500V,磁場為50-200G,氣壓為1?-5mTorr,電流密度為30-50mA/cm?,功率密度為20-40W/cm?,濺射靶與基材之間的距離為50-100mm,基材的速度為20-30m/min。
此方法中,所述的射頻磁控濺射工藝后,再進行熱處理,熱處理中有可還原金屬的環(huán)境。
此方法中,所述的射頻磁控濺射工藝后,再進行熱處理,熱處理過程中有氬氣氣氛保護。
此方法中,所述的熱處理的溫度為300-500℃,保溫5-12小時。
此方法中,在射頻磁控濺射,以碳化硅為濺射靶,厚度為0.009mm金屬銅箔為濺射基材,通入氬氣,工作室的真空度為1?mTorr,射頻電源頻率為30?MHz,?加速電壓為300V,磁場約為50G,電流密度為30mA/cm?,功率密度為20W/cm?,濺射靶與基材之間的距離為50mm,基材的速度為20m/min,在銅箔的表面的沉積一層碳化硅層,沉積層的厚度為0.003mm;再對覆有碳化硅層的銅箔在包含CO和氬氣的混合氣氛的熱處理爐中進行熱處理,熱處理的溫度為300℃,保溫12小時。
此方法中,在射頻磁控濺射,以碳化硅為濺射靶,厚度為0.012mm金屬銅箔為濺射基材,通入氬氣,工作室的真空度為5?mTorr,射頻電源頻率為50MHz,?加速電壓為500V,磁場約為200G,電流密度為50mA/cm?,功率密度為40W/cm?,濺射靶與基材之間的距離為100mm,基材的速度為30m/min,在銅箔的表面的沉積一層碳化硅層,沉積層的厚度為0.009mm;再對覆有碳化硅層的銅箔在包含CO和氬氣的混合氣氛的熱處理爐中進行熱處理,熱處理的溫度為500℃,保溫5小時。
此方法中,在射頻磁控濺射,以碳化硅為濺射靶,厚度為0.010mm金屬銅箔為濺射基材,通入氬氣,工作室的真空度為3?mTorr,射頻電源頻率為40MHz,?加速電壓為400V,磁場約為100G,電流密度為40mA/cm?,功率密度為30W/cm?,濺射靶與基材之間的距離為80mm,基材的速度為25m/min,在銅箔的表面的沉積一層碳化硅層,沉積層的厚度為0.005mm;再對覆有碳化硅層的銅箔在包含CO和氬氣的混合氣氛的熱處理爐中進行熱處理,熱處理的溫度為400℃,保溫7小時。
本發(fā)明的優(yōu)點效果在于:(1)采用發(fā)明的表面覆有碳化硅層的金屬銅箔材料,在應(yīng)用與鋰離子負極集流體材料時,提高了銅箔導電性能,增強了銅箔在電池工作中耐氧化的化學性能、耐腐性能,從而提高電池的安全性能。(2)?采用本發(fā)明的覆有碳化硅層的金屬銅箔材料,在用于鋰離子電池負極集流體材料時,因提高了其導電性能,所以減小了內(nèi)阻。(3)本發(fā)明優(yōu)選射頻磁控濺射工藝沉積碳化硅層,相對其它的物理氣相沉積方法,射頻電源的時候,有一小部分時間是在沖抵靶上積累的電荷,不會發(fā)生靶中毒。
附圖說明
圖1為電池循環(huán)容量保持率對比測試結(jié)果圖;
圖2為電池內(nèi)阻對比測試結(jié)果圖;
圖3為電池正極活性物質(zhì)克容量對比測試結(jié)果圖。
具體實施方式
下面結(jié)合附圖和具體實施例對本發(fā)明作進一步說明:
本發(fā)明如圖1、2、3所示,
實施例1
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