[發(fā)明專(zhuān)利]薄膜應(yīng)力測(cè)試方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310700453.0
• 申請(qǐng)日: 2013-12-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103630277A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-03-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙升升;程毓
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 深圳職業(yè)技術(shù)學(xué)院
• 主分類(lèi)號(hào): G01L1/24
• 分類(lèi)號(hào): G01L1/24
• 代理公司: 深圳市順天達(dá)專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 44217
• 代理人: 王小青

1.一種薄膜應(yīng)力測(cè)試方法，其特征在于，通過(guò)以下步驟分別測(cè)量鍍膜前、后的基片的曲率半徑：

1）、將基片放置在樣品臺(tái)上；

2）、使激光器產(chǎn)生的入射激光束，穿過(guò)半透鏡到達(dá)所述基片，經(jīng)基片反射回半透鏡，再由半透鏡反射至激光探測(cè)儀；

3）、驅(qū)動(dòng)所述樣品臺(tái)運(yùn)動(dòng)，并采集數(shù)據(jù)，記錄運(yùn)動(dòng)的距離、以及所述激光探測(cè)儀表面的激光光斑的對(duì)應(yīng)移動(dòng)距離；

4）對(duì)于鍍膜前表面平直的基片，通過(guò)以下計(jì)算式計(jì)算薄膜應(yīng)力：

σ=-Es·hs26(1-vs)·hf(1R-1R0)=-Es·hs212(1-vs)·hf·(H-hs)[(∂D∂l)-(∂D0∂l)];]]>

對(duì)于鍍膜前表面不平直的基片，通過(guò)以下計(jì)算式計(jì)算薄膜應(yīng)力：

σ=-Es·hs26(1-vs)·hf(1R-1R0)=-Es·hs212(1-vs)·hf·(H-hs)[∂(D-D0)∂l];]]>

其中σ是薄膜應(yīng)力，R₀是基片鍍膜前的曲率半徑；R是基片鍍膜后的曲率半徑；E_s和V_s分別為鍍膜前基片的楊氏模量和泊松比，h_s和h_f分別為鍍膜前基片和薄膜的厚度，l是樣品臺(tái)移動(dòng)的距離；D₀是基片鍍膜前、樣品臺(tái)移動(dòng)距離l時(shí)，激光探測(cè)儀處的激光光斑的移動(dòng)的距離；D是基片鍍膜后、樣品臺(tái)移動(dòng)距離l時(shí)，激光探測(cè)儀處的激光光斑的移動(dòng)的距離；H是樣品臺(tái)到半透鏡中心的垂直距離與半透鏡中心到激光探測(cè)儀表面的距離之和。