[發(fā)明專利]一種基板及其對(duì)位標(biāo)的制作方法、顯示裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310699711.8
• 申請(qǐng)日: 2013-12-18
• 公開（公告）號(hào): CN103715179B
• 公開（公告）日: 2017-05-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊光;宋亞歌;于光光
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號(hào): H01L23/544
• 分類號(hào): H01L23/544;H01L21/02;H01L21/67
• 代理公司: 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司11274
• 代理人: 申健

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基板及其對(duì)位標(biāo)的制作方法、顯示裝置。

背景技術(shù)

TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶體管-液晶顯示器)作為一種平板顯示裝置，因其具有體積小、功耗低、無輻射以及制作成本相對(duì)較低等特點(diǎn)，而越來越多地被應(yīng)用于高性能顯示領(lǐng)域當(dāng)中。

TFT-LCD由陣列基板、彩膜基板以及填充于陣列基板和彩膜基板之間的液晶構(gòu)成。其中，陣列基板和彩膜基板具有多膜層的特點(diǎn)。例如，對(duì)于陣列基板而言，如圖1所示，可以包括依次位于透明基板01上的柵極10、柵極絕緣層11、有源層12、TFT結(jié)構(gòu)、像素電極14、鈍化層15等。因此在制作過程中，膜層與膜層之間的重合精度需要控制在一定的范圍內(nèi)看，才能夠使得顯示器件的性能保持穩(wěn)定。

為了保證各個(gè)膜層的對(duì)位精度，如圖2所示，可以在柵極10上設(shè)置對(duì)位標(biāo)20，該對(duì)位標(biāo)20可以采用高反射率的金屬構(gòu)成。這樣一來，當(dāng)光源發(fā)出的光線照射到對(duì)位標(biāo)時(shí)，可以通過CCD相機(jī)(Charge Coupled Device，電荷耦合裝置)接收對(duì)位標(biāo)20反射的光線對(duì)形成于柵極10表面的柵極絕緣層進(jìn)行對(duì)位。并以相同的方式依次形成有源層12、TFT結(jié)構(gòu)、像素電極14等。

現(xiàn)有技術(shù)中，人眼能夠識(shí)別的光線的波長一般為550nm，并且現(xiàn)有技術(shù)中的柵極絕緣層的厚度設(shè)置為4000埃左右，有源層為1800埃左右，鈍化層的厚度在2000～6000埃左右。然而，如圖3所示的兩組測(cè)試曲線A和B可以看出波長在550nm附近的光線其透過率僅為10％，這樣一來，會(huì)使得光源照射到對(duì)位標(biāo)后，其反射光與周邊環(huán)境的反射光的對(duì)比度降低，從而使得對(duì)位標(biāo)難以識(shí)別，降低了各個(gè)薄膜之間的重合精度，進(jìn)而對(duì)顯示器件的質(zhì)量造成不良影響。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的實(shí)施例提供一種基板及其對(duì)位標(biāo)的制作方法、顯示裝置，能夠增強(qiáng)對(duì)位標(biāo)的可視性。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案：

本發(fā)明實(shí)施例的一方面提供一種基板，包括第一膜層和位于所述第一膜層表面的第二膜層；所述第一膜層和所述第二膜層之間具有至少一個(gè)對(duì)位標(biāo)；

其中，對(duì)應(yīng)所述對(duì)位標(biāo)位置的所述第二膜層的厚度小于對(duì)應(yīng)所述對(duì)位標(biāo)位置以外的所述第二膜層的厚度。

本發(fā)明實(shí)施例的另一方面提供一種顯示裝置，包括如上所述的任意一種基板。

本發(fā)明實(shí)施例的又一方面提供一種基板對(duì)位標(biāo)的制作方法，包括：

在第一膜層的表面通過構(gòu)圖工藝制作至少一個(gè)對(duì)位標(biāo)；

在制作有所述對(duì)位標(biāo)的第一膜層的表面制作第二膜層；

對(duì)所述第二膜層進(jìn)行構(gòu)圖工藝處理，以使得對(duì)應(yīng)所述對(duì)位標(biāo)位置的所述第二膜層的厚度小于對(duì)應(yīng)所述對(duì)位標(biāo)位置以外的所述第二膜層的厚度。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種基板及其對(duì)位標(biāo)的制作方法、顯示裝置，該基板包括第一膜層和位于第一膜層表面的第二膜層；第一膜層和第二膜層之間具有至少一個(gè)對(duì)位標(biāo)。其中，對(duì)應(yīng)對(duì)位標(biāo)位置的第二膜層的厚度小于對(duì)應(yīng)對(duì)位標(biāo)位置以外的第二膜層的厚度。這樣一來，由于該第二膜層對(duì)應(yīng)對(duì)位標(biāo)處的厚度減小，因此對(duì)位標(biāo)的可視性提高，在該第二膜層的表面制作其它膜層時(shí)，可以提高膜層之間的重合精度。從而，提高顯示器件的質(zhì)量。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)提供的一種陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為現(xiàn)有技術(shù)提供的一種對(duì)位標(biāo)位置結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為現(xiàn)有技術(shù)提供的一種光線透過率示意圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種對(duì)位標(biāo)位置結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種基板對(duì)位標(biāo)的制作方法流程圖；

圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種基板對(duì)位標(biāo)的制作方法流程圖；

圖7為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種基板對(duì)位標(biāo)的制作方法流程圖；

圖8為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種對(duì)位標(biāo)位置結(jié)構(gòu)示意圖；

圖9為本發(fā)明實(shí)施例提供的又一種基板對(duì)位標(biāo)的制作方法流程圖；

圖10為本發(fā)明實(shí)施例提供的又一種基板對(duì)位標(biāo)的制作方法流程圖。

具體實(shí)施方式