[發(fā)明專利]一種化學(xué)機(jī)械拋光液及其使用方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310697623.4
• 申請日: 2013-12-18
• 公開（公告）號: CN104726028A
• 公開（公告）日: 2015-06-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 尹先升;房慶華;周仁杰;王雨春
• 申請（專利權(quán)）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務(wù)所 31246
• 代理人: 李佳銘

1.一種用于阻擋層的拋光液，包含水，氧化鈰磨料，有機(jī)分散劑，絡(luò)合劑，和腐蝕抑制劑，其特征在于，所述拋光液中不含有氧化劑。

2.如權(quán)利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述氧化鈰磨料的濃度為質(zhì)量百分比0.1%-5%。

3.如權(quán)利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述氧化鈰磨料的平均粒徑為60-160納米，平均晶粒尺寸為10-60納米。

4.如權(quán)利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述有機(jī)分散劑選自聚丙烯酸、聚乙二醇、聚乙烯基吡咯烷酮中的一種或多種。

5.如權(quán)利要求4所述的拋光液，其特征在于，所述聚丙烯酸的分子量3000-5000、所述聚乙二醇的分子量為3000-1000、所述聚乙烯基吡咯烷酮的分子量為3000-10000。

6.如權(quán)利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述有機(jī)分散劑的濃度為質(zhì)量百分比0.001%-0.5%。

7.如權(quán)利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述絡(luò)合劑選自L-精氨酸、氨基乙酸、檸檬酸和醋酸中的一種或多種。

8.如權(quán)利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述絡(luò)合劑的濃度為質(zhì)量百分比0.1%-1%。

9.如權(quán)利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述腐蝕抑制劑為苯并三氮唑類化合物。

10.如權(quán)利要求9所述的拋光液，其特征在于，所述腐蝕抑制劑為苯并三氮唑和/或3-氨基-1,2,4-三氮唑。

11.如權(quán)利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述腐蝕抑制劑的濃度為質(zhì)量百分比0.01-0.1%。

12.如權(quán)利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述水為去離子水。

13.如權(quán)利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述拋光液還進(jìn)一步含有pH調(diào)節(jié)劑。

14.如權(quán)利要求13所述的拋光液，其特征在于，所述pH調(diào)節(jié)劑為KOH或H₂SO₄。

15.如權(quán)利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述拋光液的pH值為7.5-12.0。