[發(fā)明專利]表面處理設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310694879.X
• 申請日: 2013-12-13
• 公開（公告）號: CN103692668A
• 公開（公告）日: 2014-04-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 林龍
• 申請（專利權(quán)）人: 東莞市益亨表面處理科技有限公司
• 主分類號: B29C71/00
• 分類號: B29C71/00;B08B3/12;B08B3/08;F26B23/04
• 代理公司: 北京天奇智新知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11340
• 代理人: 陸軍

1.一種表面處理設(shè)備，包括：

清洗部（1），用于對工件表面進行清洗，去除工件表面附著的雜質(zhì)；

前段烘干部（2），設(shè)置在清洗部（1）之后，用于對工件表面進行烘干處理以去除工件表面殘留的液體；

前段冷卻部（3），設(shè)置在前段烘干部（2）之后，用于將工件冷卻到預(yù)定溫度；

預(yù)處理部（4），設(shè)置在前段冷卻部（3）之后，用于對工件表面進行預(yù)處理以增加硅化保護層與工件表面的粘合力；

中段烘干部（5），設(shè)置在預(yù)處理部（4）之后，用于對工件表面進行烘干處理以去除工件表面殘留的液體；

中段冷卻部（6），設(shè)置在中段烘干部（5）之后，用于將工件冷卻到預(yù)定溫度；

硅化處理部（7），設(shè)置在中段冷卻部（6）之后，用于對工件表面進行硅化處理以在工件表面形成硅化保護層；和

后段烘干部（8），設(shè)置在硅化處理部（7）之后，用于對工件表面進行烘干處理以去除工件表面殘留的液體。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面處理設(shè)備，所述清洗部（1）包括多個清洗槽（11-18），依次對工件進行表面清洗操作，每個所述清洗槽在靠近工件輸入端側(cè)壁的一定距離處設(shè)置有隔板（112），將清洗槽隔離成主槽（110）和副槽（111），靠近工件輸入端的槽體為副槽（111），副槽（111）右側(cè)為主槽（110）。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的表面處理設(shè)備，每個所述清洗槽中，在所述副槽11后側(cè)側(cè)壁且低于主槽（110）液面的位置設(shè)有一個溢流口113。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的表面處理設(shè)備，所述清洗槽的主槽（110）底部設(shè)置有超聲波發(fā)生裝置114，用于產(chǎn)生變頻超聲波以清洗掉工件表面的雜質(zhì)，所述超聲波的頻率在20KHZ—120KHZ范圍內(nèi)連續(xù)變化。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的表面處理設(shè)備，多個所述清洗槽還設(shè)置有給排水系統(tǒng)，包括：

主槽（110）底部設(shè)置的用于補給新水的進水口，副槽（111）的底部設(shè)置的用于排水的出水口，出水口連接到水泵（P），水泵（P）的出水端連接到單向閥（V），單向閥（V）的出水端連接到過濾器（F），過濾器（F）的出水端連接到主槽（110）底部的進水口。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的表面處理設(shè)備，每個所述清洗槽中，主槽（110）中設(shè)置有補水口，在副槽（111）側(cè)壁高于槽體底部的位置處設(shè)置有第一水位感應(yīng)器，在第一水位感應(yīng)器上方低于主槽液面的位置設(shè)置有第二水位感應(yīng)器，當(dāng)副槽液面低于第二水位感應(yīng)器的位置時，通過所述主槽（110）的補水口向主槽補水。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項所述的表面處理設(shè)備，所述清洗部（1）包括8個清洗槽（11-18），依次對工件進行表面清洗操作，其中，

第一清洗槽（11）中放置PH值為12-14的強堿性第一清洗藥水，用于清除附著在工件表面的油污和顆粒物；

第二清洗槽（12）中放置PH值為8-10的弱堿性第二清洗藥水，用于進一步去除附著在工件表面的油污和顆粒物；

第三清洗槽（13）中放置PH值為2-5的強酸性第三清洗藥水，用于清除附著在工件表面的堿性殘留物；

第四清洗槽（14）和第五清洗槽（15）形成為連體槽，其中放置PH值為8-8.5的弱堿性第四清洗藥水，用于去除殘留在工件表面的酸性藥水；

第六清洗槽（16）和第七清洗槽（17）形成為連體槽，其中放置常溫超純水，用于去除殘留在工件表面的弱堿性第四清洗藥水及其產(chǎn)生物；以及

第八清洗槽（18）中放置溫度在60—75度之間的高溫超純水，用于進一步去除殘留在工件表面的雜質(zhì)；

所述第一至第七清洗槽中的超聲波開啟時間在60秒至180秒之間。