[發明專利]硬化膜用防粘連涂層組合物及相應的雙面硬化膜

有效

• 申請號: 201310692943.0
• 申請日: 2013-12-17
• 公開（公告）號: CN103756383A
• 公開（公告）日: 2014-04-30
• 發明（設計）人: 徐金龍;陳慶松;宋明雄
• 申請（專利權）人: 張家港康得新光電材料有限公司
• 主分類號: C09D4/02
• 分類號: C09D4/02;C09D135/02;C09D7/12;C09D5/00;B32B27/06;B32B27/08;B32B27/36;B32B33/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 常亮

技術領域

本發明屬于光學級硬化膜技術領域，涉及一種硬化膜用防粘連涂層組合物以及采用了該防粘連涂層組合物制成的雙面硬化膜。

背景技術

目前國內市場上的ITO（Indium?Tin?Oxides，銦錫氧化物）用雙面硬化膜全部從日本、韓國等發達國家進口，國內先前暫無生產ITO用雙面硬化膜的配方和能力，且國外進口的ITO用雙面硬化膜還存在眾多問題，例如：鍍完ITO層后，ITO層與防粘連（Anti-blocking）層接著不佳、耐酸堿性差、光學特性不佳及耐候性不穩定等技術缺陷。

國外進口的ITO用雙面硬化膜幾乎占了全部國內市場，產品主要有以下兩種類型：

類型1：部分進口雙面硬化膜的防粘連層僅具有硅元素，無金屬離子和活性基團成分，有些甚至連硅元素含量也不能滿足要求，如果ITO層鍍在此防粘連層上，存在ITO層與防粘連層接著不佳以及光學特性不佳等技術缺陷。

類型2：還有部分進口雙面硬化膜的防粘連層雖有硅元素及活性基團，但無金屬離子，導致防粘連層與PET(聚對苯二甲酸乙二醇酯)預涂層（primer）的折射率匹配度不佳，彩虹紋嚴重。

發明內容

有鑒于此，本發明的目的在于提供一種可以提高ITO層與防粘連層的附著力，降低彩虹紋的硬化膜用防粘連涂層組合物；本發明的另一目的在于提供了一種采用了上述防粘連涂層組合物制成的雙面硬化膜。

為了實現上述的目的，本發明主要是吸取了現有技術中雙面硬化膜的經驗教訓，充分考慮各種元素和含量給產品帶來的影響，選用的防粘連硬化膜（Hard?Coating，全文簡稱HC）中硅的含量達到5～40份，不僅可以改善抗粘連效果，還可以提高ITO層與防粘連層的附著力；鈦、鋯或銻等金屬離子的含量達到1～10份，可以調節防粘連HC的折射率，使其與PET的光學匹配性佳，從而降低彩虹紋；羥基、羧基或氨基等活性基團含量達到5～20份，這是改善ITO層與防粘連層的附著力的關鍵所在；在此基礎上，結合目前的涂布技術，制備出高端ITO客戶所需的雙面硬化膜。

具體的，本發明提供的硬化膜用防粘連涂層組合物，以質量份數計，包括：

其中，組分D的量決定其他各組分的添加量，組分F的添加量為使得組分A～E的總質量濃度為0.5～80%。

組分A主要功能是起到抗粘連效果，但其用量需嚴格控制在一定范圍內，否則會影響HC的折射率及耐堿性。如果組分A的重量份數小于5，所得硬化產品涂層抗粘連效果不明顯；如果組分A的重量份數大于40，所得硬化產品涂層折射率明顯降低，從而會出現彩虹紋現象。

優選的，所述的硅氧化物納米粒子為SiO₂。

組分B與組分A搭配使用目的是調節硬化液的折射率，其用量也是隨著組分A的變化而變化，組合物中至少含有一種選自鈦、鋯、銻、銦、鋅、錫及鋁等的金屬氧化物納米粒子。組分B的質量份數控制在10以內，如果組分B的重量份數大于10，所得硬化產品涂層折射率偏高及材料費用大大提高，影響折射率匹配和經濟效益。

優選的，所述的金屬氧化物納米粒子為氧化銦（In₂O₃）、氧化錫（SnO₂）、氧化鋅（ZnO）、氧化鈦（TiO₂）、氧化鋯（ZrO₂）、氧化鋁（Al₂O₃）、氧化銻（Sb₂O₃）中一種或兩種以上。

組分C是含有活性基團的有機物，從ITO真空濺鍍的附著性考慮，通過使用組分C中至少含有一種活性基團作為聚合物的功能基團，可以很大的改善ITO鍍層與防粘連層的附著力。如果組分C的重量份數小于5，所得硬化產品與真空濺鍍的ITO層附著力不佳；如果組分C的重量份數大于20，UV固化時交聯不充分，影響硬化產品基本物性。

優選的，所述的含活性可聚合基團的化合物為含有羥基、羧基、氨基、磺酸基、硝基或巰基的化合物中的一種或兩種以上的混合物。

進一步的，所述的含活性可聚合基團的化合物為三官能團（甲基）丙烯酸酯單體、四官能團（甲基）丙烯酸酯單體、五官能團（甲基）丙烯酸酯單體或六官能團（甲基）丙烯酸酯單體。