[發(fā)明專利]感光性導電膜、導電膜的形成方法、導電圖形的形成方法以及導電膜基板

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310692470.4
• 申請日: 2009-07-23
• 公開（公告）號: CN103728794B
• 公開（公告）日: 2019-04-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 山崎宏
• 申請（專利權(quán)）人: 日立化成株式會社
• 主分類號: G02F1/1343
• 分類號: G02F1/1343
• 代理公司: 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 鐘晶;孔博

本發(fā)明涉及感光性導電膜、導電膜的形成方法、導電圖形的形成方法以及導電膜基板。本發(fā)明提供一種感光性導電膜，其特征在于，具備：支撐膜；設(shè)置于該支撐膜上并含有導電性纖維的導電層；設(shè)置于該導電層上的感光性樹脂層。

本發(fā)明是申請?zhí)枮?009801323695（國際申請?zhí)枮镻CT/JP2009/063187），申請日為2009年7月23日、發(fā)明名稱為“感光性導電膜、導電膜的形成方法、導電圖形的形成方法以及導電膜基板”的發(fā)明申請的分案申請。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及感光性導電膜、導電膜的形成方法、導電圖形的形成方法以及導電膜基板，特別涉及可用于液晶顯示元件等平板顯示器、觸摸屏、太陽能電池等裝置的電極配線的導電圖形的形成方法以及導電膜基板。

背景技術(shù)

在個人電腦、電視等大型電子設(shè)備，車載導航、手機、電子字典等小型電子設(shè)備，OA·FA設(shè)備等顯示設(shè)備方面，液晶顯示元件、觸摸屏的使用得到了普及。對于這些液晶顯示元件、觸摸屏以及太陽能電池等器件而言，在要求透明的配線、像素電極或端子的一部分中使用有透明導電膜。

作為透明導電膜的材料，一直以來，使用對可見光顯示高的透過率的ITO(氧化銦錫、Indium-Tin-Oxide)、氧化銦以及氧化錫等。在液晶顯示元件用基板等的電極中，對由上述材料形成的透明導電膜進行成圖而成的電極已成為主流。

作為透明導電膜的成圖方法，一般有如下方法：形成透明導電膜之后，通過光刻法而形成抗蝕圖形，通過濕法蝕刻去除導電膜的規(guī)定部分從而形成導電圖形。在ITO和氧化銦膜的情況下，蝕刻液一般使用包含鹽酸和氯化鐵這2種溶液的混合液。

ITO膜、氧化錫膜，一般通過濺射法而形成。但是，就該方法而言，因濺射方式的不同、以及濺射功率、氣壓、基板溫度、環(huán)境氣體種類等的不同，使得透明導電膜的性質(zhì)容易變化。因濺射條件的變動而導致的透明導電膜的膜質(zhì)的不同，成為在對透明導電膜進行濕法蝕刻時的蝕刻速度偏差的原因，并容易招致因成圖不良而導致的制品的成品率降低。另外，就上述導電圖形的形成方法而言，由于經(jīng)過濺射工序、抗蝕層形成工序以及蝕刻工序，因此工序長，在成本方面也成為大的負擔。

最近，為了解決上述的問題，進行有如下嘗試：使用替代ITO、氧化銦以及氧化錫等的材料來形成透明的導電圖形。例如，在下述專利文獻1中公開有如下導電圖形的形成方法：在基板上形成含有銀纖維等導電性纖維的導電層之后，在導電層上形成感光性樹脂層，在其上隔著圖形掩模而曝光、顯影。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：美國專利公開第2007/0074316號公報

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的課題

然而，通過本發(fā)明人的研究而判明，上述專利文獻1中記載的方法，難以在確保基板與導電圖形的粘接性的同時實現(xiàn)導電圖形的表面電阻率的低電阻率化。另外，將前述導電圖形用作配線、像素電極或端子的情況下，需要去除感光性樹脂層的工序，而存在有導電圖案形成的工序變繁雜化的問題。

本發(fā)明鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)所具有的問題而開發(fā)，其目的在于提供一種感光性導電膜、以及使用該感光性導電膜的導電膜的形成方法、導電圖形的形成方法以及導電膜基板，就所述感光性導電膜而言，可在基板上以充分的分辨率來簡便地形成與基板的粘接性充分且表面電阻率充分小的導電圖形。

解決課題的技術(shù)方案

為了解決上述課題，本發(fā)明提供一種感光性導電膜，其具備支撐膜、設(shè)置于該支撐膜上并含有導電性纖維的導電層、設(shè)置于該導電層上的感光性樹脂層。