[發明專利]一種制備特定失效點透射電子顯微鏡平面樣品的方法

有效

• 申請號: 201310692024.3
• 申請日: 2013-12-17
• 公開（公告）號: CN103698179A
• 公開（公告）日: 2014-04-02
• 發明（設計）人: 李劍;郭偉;仝金雨;李桂花
• 申請（專利權）人: 武漢新芯集成電路制造有限公司
• 主分類號: G01N1/28
• 分類號: G01N1/28
• 代理公司: 北京輕創知識產權代理有限公司 11212
• 代理人: 楊立

1.一種制備特定失效點透射電子顯微鏡平面樣品的方法，包括：

步驟一，將帶有特定失效點的硅片水平放置在聚焦離子束機臺的樣品臺上，在所述硅片上制作特定失效點標記，對所述硅片的特定失效點進行定位；

步驟二，調整所述樣品臺角度，使所述硅片與聚焦離子束不垂直，用聚焦離子束轟擊所述硅片形成第一斜切口；

步驟三，調整所述樣品臺角度，使所述硅片與聚焦離子束垂直，用聚焦離子束轟擊所述硅片，在所述硅片上形成U型垂直切口，所述U型垂直切口的U型兩端分別與所述第一斜切口相交形成閉合的目標區域，所述硅片的特定失效點位于所述目標區域內，轟擊所述U型垂直切口直到所述目標區域與所述硅片分割開，得到包含特定失效點的目標樣品；

步驟四，將所述目標樣品從聚焦離子束機臺拿出，將所述目標樣品放在所述硅片上，保證所述目標樣品的特定失效點所在面與所述硅片表面垂直；

步驟五，將放有所述目標樣品的硅片放到聚焦離子束機臺中，用聚焦離子束鍍金方法將所述目標樣品與所述硅片固定后進行平面制樣。

2.如權利要求1所述一種制備特定失效點透射電子顯微鏡平面樣品的方法，其特征在于：在所述步驟二中，所述聚焦離子束與水平方向的夾角范圍在36度～40度。

3.如權利要求2所述一種制備特定失效點透射電子顯微鏡平面樣品的方法，其特征在于：

在所述步驟二中，聚焦離子束與水平方向的夾角為38度，所述樣品臺與水平方向的夾角為0度；

在所述步驟三中，聚焦離子束與水平方向的夾角為38度，所述樣品臺的角度為52度。

4.根據權利要求1至3任一所述一種制備特定失效點透射電子顯微鏡平面樣品的方法，其特征在于，所述第一斜切口靠近所述特定失效點的截面與所述硅片的交線到所述特定失效點的距離為1～2um；所述U型垂直切口的U型兩端靠近所述特定失效點的截面到所述特定失效點的距離分別為1～2um。

5.如權利要求4所述一種制備特定失效點透射電子顯微鏡平面樣品的方法，其特征在于，所述第一斜切口的轟擊圖形為線形、矩形或梯形。

6.如權利要求4所述一種制備特定失效點透射電子顯微鏡平面樣品的方法，其特征在于，所述U型垂直切口由兩個側邊和一個底邊組成，且兩個所述側邊和一個所述底邊均為矩形。

7.根據權利要求4所述一種制備特定失效點透射電子顯微鏡平面樣品的方法，其特征在于，所述步驟四中采用透射電子顯微鏡樣品拾取系統將所述目標樣品吸起并放在所述硅片上，保證所述目標樣品的特定失效點所在面與所述硅片表面垂直。