[發(fā)明專利]一種自動(dòng)生成匹配器件方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310689154.1 | 申請(qǐng)日: | 2013-12-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104715094A | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-06-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉偉平;謝光益;李起宏;馮小輝;李京;肖薇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京華大九天軟件有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06F17/50 | 分類號(hào): | G06F17/50 |
| 代理公司: | 無(wú) | 代理人: | 無(wú) |
| 地址: | 100102 北京*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 自動(dòng) 生成 匹配 器件 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
在模擬電路版圖設(shè)計(jì)過(guò)程中,為了得到更好地電學(xué)效益,相同類型且承擔(dān)相同功能的器件需要在版圖實(shí)現(xiàn)中進(jìn)行器件匹配,本發(fā)明實(shí)現(xiàn)一種自動(dòng)生成匹配模式及匹配器件方法。本發(fā)明屬于EDA工具設(shè)計(jì)領(lǐng)域。?
背景技術(shù)
隨著集成電路的工藝不斷進(jìn)步,工藝尺寸不斷減小,集成電路版圖設(shè)計(jì)規(guī)模也越來(lái)越大,使得集成電路設(shè)計(jì)難度也日益增加,必須借助大量EDA工具與新的設(shè)計(jì)方法學(xué)才能保證設(shè)計(jì)出可靠的芯片。工藝尺寸不斷減小,器件的尺寸、摻雜、氧化層厚度和其他影響元器件值的參數(shù)極小值的起伏變得不再可以忽略不計(jì),這種現(xiàn)象也稱之為隨機(jī)失配。由工藝偏差、相互擴(kuò)散作用、機(jī)械應(yīng)力、溫度梯度以及其他許多原因引起的失配稱之為系統(tǒng)失配。為了解決隨機(jī)失配與系統(tǒng)失配,在版圖設(shè)計(jì)中,對(duì)于承擔(dān)相同功能的器件,為了得到相同的電學(xué)效益,需要在版圖設(shè)計(jì)中考慮以上因素對(duì)器件的影響,設(shè)計(jì)出匹配器件。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)一種自動(dòng)生成匹配器件方法,可以快速有效地完成器件匹配。這有利于加速集成電路設(shè)計(jì)后端版圖的工作。?
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提出一種自動(dòng)生成匹配器件的方法,其基本思想是:根據(jù)用戶選擇的待匹配器件,自動(dòng)計(jì)算器匹配模式,并生成所有匹配模式的列表,并自動(dòng)從匹配列表中選擇一個(gè)模式生成匹配器件的預(yù)覽圖,預(yù)覽圖所見(jiàn)的匹配器件即為真實(shí)的版圖陣列。用戶點(diǎn)擊一個(gè)實(shí)現(xiàn)的按鈕即可完成匹配器件的生成。該方法會(huì)在自動(dòng)計(jì)算器件匹配模式過(guò)程中,列出多種匹配模式,用戶可以選擇不同匹配模式,查看其匹配預(yù)覽圖。在選擇匹配模式后,可以實(shí)時(shí)看到排列后的真實(shí)版圖,設(shè)計(jì)者只需要進(jìn)行幾個(gè)簡(jiǎn)單的鼠標(biāo)操作,即可以完成復(fù)雜的器件匹配工作。考慮到在原理圖設(shè)計(jì)階段,原理圖設(shè)計(jì)工程師會(huì)預(yù)先標(biāo)注器件匹配模式,本發(fā)明中除了實(shí)現(xiàn)自動(dòng)產(chǎn)生匹配模式之外,允許用戶自定義匹配模式。由于原理圖設(shè)計(jì)工程師預(yù)先標(biāo)注的匹配模式中的名稱與器件本身的器件命名往往不一致,讓版圖工程師手動(dòng)把標(biāo)注模式轉(zhuǎn)換為器件名對(duì)應(yīng)的模式,其工作非常費(fèi)時(shí),且容易出錯(cuò),?出錯(cuò)后又不容易定位等問(wèn)題,因此在本發(fā)明中設(shè)計(jì)一種方法允許版圖工程師可對(duì)待匹配器件進(jìn)行臨時(shí)重命名,從而使得器件名與原理圖中標(biāo)注名一致,這樣從原理圖中拷貝過(guò)來(lái)的匹配模式可以直接生成匹配器件,從而準(zhǔn)確、快捷地完成了匹配器件的產(chǎn)生。同時(shí)為了滿足一些特殊的匹配需求,在這里增加了一個(gè)簡(jiǎn)單編輯功能,比如批量增加Dummy功能,共享源漏功能,以及鏡像功能,為方便設(shè)計(jì)者對(duì)自定義產(chǎn)生匹配器件進(jìn)行微調(diào)。這種簡(jiǎn)單、有效的實(shí)現(xiàn)可以極大節(jié)省版圖設(shè)計(jì)工程師在匹配器件花費(fèi)的巨大時(shí)間代價(jià),可以有效地加速版圖設(shè)計(jì),有效縮短設(shè)計(jì)周期,加速產(chǎn)品上市時(shí)間。?
本發(fā)明依托原理圖驅(qū)動(dòng)版圖(SDL,?Schematic?Driven?Layout)工具實(shí)現(xiàn)了器件匹配(Device?Matching)功能。
附圖說(shuō)明??
圖1??根據(jù)自動(dòng)生成匹配模式產(chǎn)生的MOS管匹配圖
圖2??器件Flod值為8與增加Dummy器件的效果圖???
圖3??使用shareSD之后的效果圖
圖4?使用自定義匹配模式自動(dòng)產(chǎn)生的匹配圖
圖5?部分器件鏡像前的效果圖???????
圖6?部分器件鏡像后的效果圖
圖7?根據(jù)自動(dòng)生成匹配模式產(chǎn)生的電阻管匹配圖
具體實(shí)施步驟:
結(jié)合一個(gè)實(shí)際操作以說(shuō)明實(shí)施步驟,操作流程步驟如下:
(1)選擇待匹配器件;
(2)自動(dòng)計(jì)算所有可能的匹配模式,并給出匹配模式列表;
(3)自動(dòng)選擇一個(gè)匹配模式生成匹配器件的預(yù)覽圖,此預(yù)覽圖即為真實(shí)器件形成的陣列;
(4)在器件匹配界面中,設(shè)計(jì)者也可自定義匹配模式,該方法根據(jù)自定義匹配模式,可以自動(dòng)產(chǎn)生匹配器件的預(yù)覽圖;
(5)在器件匹配界面中,設(shè)計(jì)者也可根據(jù)原理圖設(shè)計(jì)中指定匹配模式對(duì)待匹配器件進(jìn)行臨時(shí)重命名,并把原理圖設(shè)計(jì)中指定的匹配模式拷貝成自定義的匹配模式,并自動(dòng)產(chǎn)生匹配器件的預(yù)覽圖;
(6)在器件匹配界面中,設(shè)計(jì)者可以自定義匹配器件的間距,以及非常方便地進(jìn)行單個(gè)鏡像、批量鏡像、共享源漏等操作;
(7)在器件匹配界面中,設(shè)計(jì)者可使用一個(gè)簡(jiǎn)單按鈕即可完成Dummy器件添加與刪除,增加Dummy器件是為了得到更好的匹配效果;
(8)點(diǎn)擊一個(gè)實(shí)現(xiàn)按鈕即可把這些真實(shí)器件放置到版圖中。
在這個(gè)操作過(guò)程中,步驟4)、步驟5)、步驟6)與步驟7)是可選操作,且這四個(gè)步驟是可以獨(dú)立進(jìn)行操作。
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