[發明專利]一種靜電卡盤靜電吸附力及脫附時間的測量裝置無效
| 申請號: | 201310689053.4 | 申請日: | 2013-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN103698070A | 公開(公告)日: | 2014-04-02 |
| 發明(設計)人: | 徐登峰;程嘉;許巖;王興闊;張旭光;王珂晟;成榮;劉濤 | 申請(專利權)人: | 北京華卓精科科技有限公司 |
| 主分類號: | G01L5/00 | 分類號: | G01L5/00;G01M13/00 |
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| 地址: | 100084 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 靜電 卡盤 吸附力 時間 測量 裝置 | ||
1.一種靜電卡盤靜電吸附力及脫附時間的測量裝置,其特征在于,包括:
真空腔室;
靜電卡盤(10);所述靜電卡盤設于真空腔室內;
測量系統(14),所述測量系統設于真空腔室內,所述測量系統位于所述靜電卡盤(10)的下方;
和動力系統,所述動力系統安裝在所述真空腔室上,所述動力系統用于帶動測量靜電卡盤移動,使所述測量系統與靜電卡盤產生相對運動。
2.根據權利要求1所述的測量裝置,其特征在于,所述測量系統固定安裝在所述真空腔室內的下部;所述動力系統帶動所述靜電卡盤(10)在靠近所述測量系統和遠離所述測量系統的方向上移動。
3.根據權利要求2所述的測量裝置,其特征在于,
所述動力系統包括:
傳動裝置,所述傳動裝置與所述靜電卡盤連接;
和驅動裝置,所述驅動裝置連接所述傳動裝置,并通過傳動裝置驅動真空腔室內的靜電卡盤移動。
4.根據權利要求3所述的測量裝置,其特征在于,所述測量裝置還包括:
腔室支架(1),所述腔室支架(1)適于支撐真空腔室;所述驅動裝置安裝在所述腔室支架(1)上,所述驅動裝置位于真空腔室的下方;
所述驅動裝置包括:電機支座(4)、垂向電機(5)、和用以控制所述垂向電機(5)精密運動的控制系統。
5.根據權利要求4所述的測量裝置,其特征在于,所述真空腔室底部設有安裝孔;
所述傳動裝置包括:直線軸承(3)、導向軸固定件(6)、導向軸(7)、靜電卡盤連接件(9)、與所述安裝孔和所述導向軸(7)相配合的動密封件(19);
所述導向軸(7)一端通過導向軸固定件(6)與所述驅動裝置連接,另一端通過動密封件(19)進入所述真空腔室內,通過所述直線軸承(3)與所述靜電卡盤連接件(9)連接,所述靜電卡盤連接件(9)通過螺栓與靜電卡盤(10)連接。
6.根據權利要求1所述的測量裝置,其特征在于,所述測量系統(14)包括:傳感器基座(16)、壓力傳感器(17)、和支撐件(18),所述壓力傳感器(17)安裝在傳感器基座(16)上,傳感器基座(16)固定在真空腔室底部,壓力傳感器(17)上方與所述支撐件(18)連接,所述支撐件(18)適于支撐晶片。
7.根據權利要求6所述的測量裝置,其特征在于,所述支撐件(18)穿過靜電卡盤(10)自帶的PIN孔與晶片接觸,所述支撐件(18)為頂針或銷。
8.根據權利要求6所述測量裝置,其特征在于,所述測量裝置包括三個以上所述測量系統,所述各個測量系統在真空腔室底部呈圓周等分分布。
9.根據權利要求1所述的測量裝置,其特征在于,所述真空腔室包括腔室殼體(12)、觀察窗(2)、功能預留口和真空獲取裝置;
所述測量裝置得到的測量數據通過真空腔室(12)上的功能預留口傳出;
所述真空獲取裝置包括干泵和分子泵,所述干泵和所述分子泵并聯連接,通過管道與真空腔室(12)連接。
10.根據權利要求9所述的測量裝置,其特征在于,所述功能預留口包括數據傳輸口(15)、等離子輸入口(13)以及抽氣孔(8);所述數據傳輸口(15)位于腔室底部,壓力傳感器(17)數據輸出線通過數據傳輸口(15)與腔室外部的數據采集系統連接,其中數據傳輸口(15)通過靜密封件密封;等離子輸入口(13)位于真空腔室頂部中間位置,通過法蘭盤與外部等離子體輸入管道連接,抽氣孔(8)位于腔室底部,通過法蘭盤與真空獲取裝置連接。
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