[發(fā)明專利]納米壓印裝置及其壓印方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310688734.9
• 申請日: 2013-12-17
• 公開（公告）號: CN103698975A
• 公開（公告）日: 2014-04-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳沁
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00
• 代理公司: 深圳市銘粵知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44304
• 代理人: 楊林;馬翠平

1.一種納米壓印裝置的壓印方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟一：提供一基底（20）以及至少一個(gè)預(yù)設(shè)有納米圖形單元（30a）的壓印版（30）；

步驟二：使所述壓印版（30）對準(zhǔn)所述基底（20）施壓，將所述納米圖形單元（30a）轉(zhuǎn)移至所述基底（20）上形成納米圖案單元（21），然后分離所述壓印版（30）和所述基底（20），完成一個(gè)壓印周期；

重復(fù)所述壓印周期若干次，使所述基底（20）上獲得由若干個(gè)所述納米圖案單元（21）形成的納米圖案陣列（22）。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印方法，其特征在于：所述壓印版（30）的材質(zhì)為硅或二氧化硅或聚二甲基硅氧烷；

所述基底（20）的材質(zhì)為硬度小于所述壓印版（30）的塑料或金屬或聚二甲基硅氧烷。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的壓印方法，其特征在于：所述基底（20）的材質(zhì)為紫外光敏性的壓印膠；所述步驟二中包括紫外光照固化所述基底（20）上的納米圖案單元（21），然后再分離所述壓印版（30）和所述基底（20）。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的壓印方法，其特征在于：所述基底（20）的材質(zhì)為熱敏性的壓印膠；所述步驟二中包括加熱固化所述基底（20）上的納米圖案單元（21），然后再分離所述壓印版（30）和所述基底（20）。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印方法，其特征在于：所述步驟二還包括通過調(diào)整所述壓印周期的時(shí)長，控制兩相鄰所述納米圖案單元（21）之間的間隔。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印方法，其特征在于：所述步驟二還包括通過調(diào)整兩個(gè)或兩個(gè)以上所述壓印版（30）在所述基底（20）上方的相對位置，獲得由兩組或兩組以上納米圖案單元傾斜或交疊形成的納米圖案陣列。

7.一種納米壓印裝置，包括：設(shè)有傳送帶（11）的傳動系統(tǒng)（10），用于輸送基底（20）；其特征在于：還包括

至少一個(gè)預(yù)設(shè)有納米圖形單元（30a）的壓印版（30），其裝設(shè)于所述傳送帶（10）上方與所述基底（20）對應(yīng)；

至少一個(gè)周期驅(qū)動系統(tǒng)（40），其與所述壓印版（30）連接；用于調(diào)整所述壓印版（30）與所述基底（20）的相對位置，周期性地使所述壓印版（30）對所述基底（20）施壓，將所述納米圖形單元（30a）周期性重復(fù)轉(zhuǎn)移至所述基底（20）上，獲得若干個(gè)納米圖案單元（21）及由其組成納米圖案陣列（22）。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述納米壓印裝置，其特征在于，所述周期驅(qū)動系統(tǒng)（40）包括：

壓印夾具（42），用于夾持所述壓印版（30）運(yùn)動；

與所述壓印夾具（42）連接的周期驅(qū)動器（41），用于通過周期性地反復(fù)驅(qū)動所述壓印夾具（42）使所述壓印版（30）上下運(yùn)動；

驅(qū)動電源（43），用于為所述周期驅(qū)動器（41）提供工作電源。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述納米壓印裝置，其特征在于，所述周期驅(qū)動器（41）為裝設(shè)于所述壓印夾具（42）頂部的偏心滾輪（41A），所述偏心滾輪（41A）的徑向截面垂直于所述壓印夾具（42）頂面；通過控制所述偏心滾輪（41A）貼于所述壓印夾具（42）轉(zhuǎn)動，使所述壓印夾具（42）周期性上下移動。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述納米壓印裝置，其特征在于，所述周期驅(qū)動器（41）為裝設(shè)于所述壓印夾具（42）頂部的壓電陶瓷驅(qū)動器，通過控制所述壓電陶瓷驅(qū)動器工作電壓周期性變化，使所述壓印夾具（42）周期性上下移動。

11.根據(jù)權(quán)利要求7所述納米壓印裝置，其特征在于，還包括一顯微系統(tǒng)（50）裝設(shè)于所述壓印版（30）上方，用于所述壓印版（30）與所述基底（20）的對準(zhǔn)。

12.根據(jù)權(quán)利要求7所述納米壓印裝置，其特征在于：所述壓印版（30）的材質(zhì)為硅或二氧化硅或聚二甲基硅氧烷;

所述基底（20）的材質(zhì)為硬度小于所述壓印版（30）的塑料或金屬或聚二甲基硅氧烷。

13.根據(jù)權(quán)利要求7或12所述納米壓印裝置，其特征在于：所述基（20）底的材質(zhì)為紫外光敏性的壓印膠；所述納米壓印裝置還包括一紫外固化系統(tǒng)（60）對應(yīng)于所述壓印版（30）與基底（20）的接觸區(qū)域，用于對印有納米圖案單元（21）的基底（20）進(jìn)行紫外光照固化。