[發(fā)明專利]一種真空鍍膜生產(chǎn)線用旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310688577.1
• 申請(qǐng)日: 2013-12-16
• 公開（公告）號(hào): CN104711532A
• 公開（公告）日: 2015-06-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃國興;孫桂紅;祝海生;黃樂;梁紅;吳永光
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 湘潭宏大真空技術(shù)股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/50
• 分類號(hào): C23C14/50
• 代理公司: 上海精晟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31253
• 代理人: 馮子玲

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種真空鍍膜生產(chǎn)線領(lǐng)域，具體說，是涉及一種用于真空鍍膜生產(chǎn)線的旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu)。

背景技術(shù)

真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年代，四五十年代開始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用，工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開始于20世紀(jì)80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得廣泛的應(yīng)用。真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。真空鍍膜技術(shù)是利用物理、化學(xué)手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣和裝飾燈許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能，達(dá)到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長產(chǎn)品壽命、節(jié)約能源和獲得顯著技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益的作用。需要鍍膜的玻璃或其他材料被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。

為了節(jié)約占地面積和提高工作效率，本發(fā)明人提供了一種將基片傳送流水線與鍍膜流水線平行設(shè)置的生產(chǎn)線，然后建立圓弧軌道連接在一起。然而這種連接方式，基片傳送裝置需要是柔性的，或者說基片傳送裝置是能彎曲的，然而傳送裝置一般傳送的基片一般為整塊的，例如玻璃、塑料，需要傳送裝置很平穩(wěn)的將基片傳送至進(jìn)口腔內(nèi)，這樣就使得圓弧軌道的弧度很大，這樣占地面積將擴(kuò)大，而且當(dāng)傳送裝置在圓弧軌道上運(yùn)行時(shí)，基片傳送裝置的穩(wěn)定性不可靠，特別是當(dāng)傳送裝置“轉(zhuǎn)彎”時(shí)，基片傳送裝置很有可能因?yàn)橹匦牟环€(wěn)，基片傳送裝置倒下，造成裝置損壞和人員傷亡的情況。因此，如何使基片安全可靠的調(diào)轉(zhuǎn)方向180度鍍膜是亟需解決的問題。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的上述問題，本發(fā)明的目的是提供一種真空鍍膜生產(chǎn)線用旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu)，該旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu)應(yīng)用于真空鍍膜生產(chǎn)線中，使基片安全可靠迅速的運(yùn)送，節(jié)約占地面積，提高工作效率。

為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下：

一種真空鍍膜生產(chǎn)線用旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu)，包括：

一驅(qū)動(dòng)組件，驅(qū)動(dòng)組件包括一電機(jī)、一第一驅(qū)動(dòng)元件和一第二驅(qū)動(dòng)元件，電機(jī)與第一驅(qū)動(dòng)元件連接，第一驅(qū)動(dòng)元件與第二驅(qū)動(dòng)元件連接；

一旋轉(zhuǎn)組件，旋轉(zhuǎn)組件與驅(qū)動(dòng)組件連接，旋轉(zhuǎn)組件包括一固定架和一旋轉(zhuǎn)盤，旋轉(zhuǎn)盤與第二驅(qū)動(dòng)元件連接，電機(jī)安裝在固定架上；和

一限位組件，限位組件固定在旋轉(zhuǎn)組件上，限位組件包括一旋轉(zhuǎn)光電感應(yīng)器、一感應(yīng)棒和至少一個(gè)感應(yīng)信號(hào)元件，感應(yīng)信號(hào)元件與旋轉(zhuǎn)光電感應(yīng)器連接，感應(yīng)信號(hào)元件與感應(yīng)棒之間通過光電距離感應(yīng)，感應(yīng)信號(hào)元件設(shè)置在固定架上，旋轉(zhuǎn)光電感應(yīng)器和感應(yīng)棒安裝在旋轉(zhuǎn)盤上。

優(yōu)選地，真空鍍膜生產(chǎn)線用旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu)進(jìn)一步包括一控制器，控制器與旋轉(zhuǎn)光電感應(yīng)器和電機(jī)連接。

更優(yōu)選地，該控制器優(yōu)選為PLC可編程控制器。

優(yōu)選地，電機(jī)進(jìn)一步包括一旋轉(zhuǎn)軸，第一驅(qū)動(dòng)元件設(shè)置在旋轉(zhuǎn)軸上。

優(yōu)選地，第二驅(qū)動(dòng)元件設(shè)置在旋轉(zhuǎn)盤上，第一驅(qū)動(dòng)元件與第二驅(qū)動(dòng)元件通過齒輪嚙合連接，電機(jī)上的旋轉(zhuǎn)軸驅(qū)動(dòng)第一驅(qū)動(dòng)元件運(yùn)動(dòng)，第一驅(qū)動(dòng)元件帶動(dòng)第二驅(qū)動(dòng)元件運(yùn)動(dòng)。

更優(yōu)選地，第一驅(qū)動(dòng)元件為一齒輪，第二驅(qū)動(dòng)元件為一回轉(zhuǎn)支承，第一驅(qū)動(dòng)元件與第二驅(qū)動(dòng)元件通過齒輪嚙合。

優(yōu)選地，旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu)進(jìn)一步包括基片傳送組件，基片傳送組件固定在旋轉(zhuǎn)盤上，當(dāng)旋轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)時(shí)，帶動(dòng)基片傳送組件隨同旋轉(zhuǎn)盤運(yùn)動(dòng)。

更優(yōu)選地，基片傳送組件進(jìn)一步包括至少一個(gè)傳動(dòng)座和一驅(qū)動(dòng)電機(jī)，傳動(dòng)座與驅(qū)動(dòng)電機(jī)連接，驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)傳動(dòng)座傳動(dòng)，這樣帶動(dòng)傳動(dòng)座上的基片運(yùn)動(dòng)。

優(yōu)選地，旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)盤的直徑不小于基片或基片架的直徑。

優(yōu)選地，旋轉(zhuǎn)光電感應(yīng)器設(shè)置在旋轉(zhuǎn)盤的一端，感應(yīng)棒與感應(yīng)信號(hào)元件之間通過光電距離感應(yīng)，感應(yīng)信號(hào)元件圍繞旋轉(zhuǎn)盤的中心分布在固定架，感應(yīng)信號(hào)元件的分布位置與感應(yīng)棒隨旋轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)的軌跡一致。

更優(yōu)選地，感應(yīng)棒與感應(yīng)信號(hào)元件之間的距離不大于10mm時(shí)，感應(yīng)信號(hào)元件發(fā)射信號(hào)給旋轉(zhuǎn)光電感應(yīng)器。

更優(yōu)選地，限位組件進(jìn)一步包括至少一個(gè)導(dǎo)位槽，導(dǎo)位槽圍繞旋轉(zhuǎn)盤的中心分布在旋轉(zhuǎn)盤上，導(dǎo)位槽的分布位置與感應(yīng)棒隨旋轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)的軌跡一致，感應(yīng)棒安裝在導(dǎo)位槽內(nèi)。

優(yōu)選地，真空鍍膜生產(chǎn)線包括基片傳送流水線與鍍膜流水線，旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu)設(shè)置在基片傳送流水線與鍍膜流水線的兩端部，連接基片傳送流水線和鍍膜流水線。